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기판 상에 빔 소스를 제공하는 빔 소스 공급 부;상기 빔 소스와 상기 기판에 제 1 레이저 빔을 제공하는 제 1 레이저 장치;상기 기판 상에 초점을 갖고, 상기 제 1 레이저 빔을 상기 기판 상에 집중하는 제 1 광학 계; 및상기 제 1 광학계와 상기 제 1 레이저 장치 사이의 상기 제 1 레이저 빔과 중첩되는 제 2 레이저 빔을 제공하는 제 2 레이저 장치를 포함하되,상기 제 2 레이저 장치는 상기 제 1 레이저 빔의 위상과 반대되는 위상을 갖고, 상기 제 1 레이저 빔과의 상쇄간섭으로 생성되는 간섭 빔의 제 1 스팟 사이즈를 상기 초점에서 상기 제 1 레이저 빔의 파장보다 작게 감소시키는 상기 제 2 레이저 빔을 출력하는 전자 빔 생성기
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제 1 항에 있어서,상기 제 2 레이저 빔은 상기 제 1 스팟 사이즈와 동일한 제 2 스팟 사이즈를 갖는 전자 빔 생성기
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제 1 항에 있어서,상기 제 2 레이저 빔은 상기 제 1 레이저 빔의 제 1 단면과 다른 모양의 제 2 단면을 갖는 전자 빔 생성기
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제 3 항에 있어서,상기 제 1 단면이 원 모양일 때, 상기 제 2 단면은 상기 원의 직경과 동일한 직경을 갖는 도넛 또는 링 모양을 갖는 전자 빔 생성기
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 광학계는 비구면 오목 미러를 포함하는 전자 빔 생성기
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 광학계와 상기 제 1 레이저 장치 사이에 배치되고, 상기 제 2 레이저 빔을 상기 제 1 레이저 빔과 동일한 방향으로 제공하는 제 2 광학계를 더 포함하는 전자 빔 생성기
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제 6 항에 있어서,상기 제 2 광학계는 하프 미러를 포함하는 전자 빔 생성기
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제 1 항에 있어서,상기 빔 소스는 수소 가스를 포함하는 전자 빔 생성기
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제 8 항에 있어서,상기 수소 가스에 고주파 파워를 제공하는 고주파 공급 장치를 더 포함하는 전자 빔 생성기
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제 9 항에 있어서,상기 고주파 공급 장치는 전자 감응 공명 장치를 포함하는 전자 빔 생성기
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제 8 항에 있어서,상기 수소 가스에 제 3 레이저 빔을 제공하는 제 3 레이저 장치를 더 포함하는 전자 빔 생성기
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기판 상에 전자 빔을 제공하는 전자 빔 생성기;상기 전자 빔에 의해 상기 기판으로부터 생성되는 이차 전자를 검출하는 검출기; 및상기 전자 빔 생성기를 제어하고, 상기 검출기의 검출 신호에 따라 상기 기판의 이미지를 획득하는 제어 부를 포함하되, 상기 전자 빔 생성기는:상기 기판 상에 빔 소스를 제공하는 소스 공급 부;상기 빔 소스와 상기 기판에 제 1 레이저 빔을 제공하는 제 1 레이저 장치;상기 기판 상에 초점을 갖고, 상기 제 1 레이저 빔을 상기 기판 상에 집중하는 제 1 광학 계; 및상기 제 1 광학계와 상기 제 1 레이저 장치 사이의 상기 제 1 레이저 빔과 중첩되는 제 2 레이저 빔을 제공하는 제 2 레이저 장치를 포함하되,상기 제 2 레이저 장치는 상기 제 1 레이저 빔의 위상과 반대되는 위상을 갖고, 상기 제 1 레이저 빔과의 상쇄간섭으로 상기 초점에서 상기 제 1 레이저 빔의 제 1 스팟 사이즈를 상기 제 1 레이저 빔의 파장보다 작게 감소시키는 상기 제 2 레이저 빔을 출력하는 이미지 장치
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기판에 제 1 및 제 2 레이저 빔들을 제공하는 제 1 및 제 2 레이저 장치들; 및상기 제 1 및 제 2 레이저 장치들과 상기 기판 사이에 제공되고, 상기 제 1 및 제 2 레이저 빔들을 포커스 하는 제 1 광학계를 포함하되,상기 제 1 및 제 2 레이저 빔들은 서로 중첩되어 간섭 빔을 생성하고, 상기 초점에서 상기 간섭 빔의 스팟 사이즈를 상기 제 1 및 제 2 레이저 빔들 각각의 파장보다 작게 감소시키는 광학 장치
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제 13 항에 있어서,상기 제 1 레이저 빔은 원 모양의 제 1 단면을 갖고, 상기 제 2 레이저 빔은 상기 제 1 단면의 직경과 동일한 직경을 갖는 도넛 또는 링 모양의 제 2 단면을 갖는 광학 장치
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제 14 항에 있어서,상기 간섭 빔은 상기 제 1 단면보다 작은 직경의 원 모양의 제 3 단면을 갖는 광학 장치
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제 14 항에 있어서,상기 제 1 레이저 빔은 상기 제 1 단면 내에서 가우시안 분포의 에너지 세기 분포를 갖고,상기 제 2 레이저 빔은 제 2 단면 내에서 쌍봉 분포의 에너지 세기 분포를 갖고,상기 간섭 빔은 상기 제 1 레이저 빔의 에너지 세기 분포의 폭보다 작은 폭의 가우시안 분포의 에너지 분포를 갖는 광학 장치
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제 13 항에 있어서,상기 제 1 및 제 2 레이저 빔들의 각각은 서로 동일한 스팟 사이즈를 갖는 광학 장치
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제 13 항에 있어서,상기 제 1 및 제 2 레이저 빔들의 각각은 서로 동일한 파장을 갖는 광학 장치
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제 13 항에 있어서,상기 제 1 및 제 2 레이저 빔들의 각각은 서로 반전된 위상을 갖는 광학 장치
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제 13 항에 있어서,상기 제 1 및 제 2 레이저 장치들과 상기 제 1 광학계 사이에 배치되어, 상기 제 1 및 제 2 레이저 빔들을 중첩시키는 제 2 광학계를 더 포함하되,상기 제 2 광학계는 하프 미러를 포함하는 광학 장치
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