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기판의 상부에 경화성수지층을 형성시키는 수지층 형성단계;상기 경화성수지층에 음각패턴을 형성시키는 패턴 형성단계;상기 음각패턴이 형성된 경화성수지층의 상부에 전도성 페이스트를 도포하는 페이스트 도포단계;상기 전도성 페이스트가 도포된 경화성수지층을 건조시키는 건조단계;상기 건조된 경화성수지층의 표면을 스크러빙(scrubbing)하여 상기 전도성 페이스트를 상기 음각패턴의 내부에 충진함과 동시에 상기 경화성수지층상의 잔존전도성 페이스트를 제거하여 투명유연전극을 제조하는 투명유연전극 형성단계; 및상기 투명유연전극을 소성시키는 소성단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 전도성 페이스트를 이용한 투명유연전극의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 투명유연전극 형성단계는,상기 건조된 경화성수지층상의 전도성 페이스트가 상기 음각패턴의 내부에 충진되도록, 상기 경화성수지층의 표면을 1차 스크러빙(scrubbing)하는 1차 충진단계; 및상기 1차 스크러빙(scrubbing)된 경화성수지층상의 잔존전도성 페이스트가 상기 음각패턴의 내부에 재충진되어 전극패턴을 형성하도록, 상기 경화성수지층의 표면을 2차 스크러빙(scrubbing)하는 2차 충진단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 전도성 페이스트를 이용한 투명유연전극의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 스크러빙(scrubbing)은,솜, 브러시, 청정실용 와이퍼 및 PVA 스펀지 중 어느 하나 이상을 사용하여 실시하는 것을 특징으로 하는 전도성 페이스트를 이용한 투명유연전극의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 페이스트 도포단계의 전도성 페이스트는,전도성 재료 50~80 wt%와 용제 20~50 wt%를 포함하여 형성되는 것을 특징으로 하는 전도성 페이스트를 이용한 투명유연전극의 제조방법
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제4항에 있어서,상기 전도성 재료는,은, 구리, 알루미늄, 탄소, 니켈, 철, 바륨티타네이트 및 알루미늄 산화물 중 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 전도성 페이스트를 이용한 투명유연전극의 제조방법
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제4항에 있어서,상기 용제는,벤질알코올, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 아세톤, 메탄올, 에탄올, 부탄올, 톨루엔, 크실렌, 벤젠 및 이들의 유도체 중 선택되는 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 전도성 페이스트를 이용한 투명유연전극의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 건조단계는,80~130℃에서 5~15초 동안 실시되는 것을 특징으로 하는 전도성 페이스트를 이용한 투명유연전극의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 수지층 형성단계의 기판은,폴리에틸렌테레프탈레이트(PET, polyethylene terephthalate), 폴리이미드(PI, polyimide), 폴리프로필렌(PP, polypropylene), 폴리카보네이트(PC, polycarbonate), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA, polymethyl methacrylate), 아크릴(Acryl), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN, polyethylene naphthalate), 트리아세테이트 셀룰로즈(TAC, triacetate cellulose), 폴리에테르설폰(PES, polyether sulfone), ITO 박막이 증착된 고분자 필름 중 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 전도성 페이스트를 이용한 투명유연전극의 제조방법
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투명유연전극을 제조하는 방법에 있어서,기판상의 음각패턴이 형성된 경화성수지층 상부 표면에 전도성 페이스트를 도포한 후, 상기 경화성수지층의 표면을 스크러빙(scrubbing)하여 상기 전도성 페이스트를 상기 음각패턴의 내부에 충진함과 동시에 상기 경화성수지층상의 잔존전도성 페이스트를 제거하여 투명유연전극을 제조하는 것을 특징으로 하는 전도성 페이스트를 이용한 투명유연전극의 제조방법
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상부에 경화성수지층이 형성된 기판을 연속적으로 이송 공급하는 공급유닛;상기 공급유닛에 의해 이송되는 기판의 경화성수지층 표면에 음각패턴을 형성시키는 스탬핑유닛;상기 음각패턴이 형성된 경화성수지층의 표면에 전도성 페이스트를 도포하는 스퀴저유닛;상기 경화성수지층에 도포된 전도성 페이스트를 건조시키는 건조유닛; 및상기 건조된 전도성 페이스트를 스크러빙(scrubbing) 방식으로 상기 음각패턴의 내부에 충진하는 충진유닛;을 포함하며,상기 스탬핑유닛, 상기 스퀴저유닛, 상기 건조유닛 및 상기 충진유닛은 상기 공급유닛 상에 상기 기판의 이송 방향을 따라 순차적으로 배치되는 것을 특징으로 하는 전도성 페이스트를 이용한 투명유연전극의 제조장치
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제10항에 있어서,상기 충진유닛은,상기 경화성수지층의 표면에 접촉되도록 설치되어 상기 경화성수지층의 표면을 스크러빙(scrubbing)하면서 전도성 페이스트를 상기 음각패턴의 내부에 충진하는 1차 충진유닛; 및상기 1차 충진유닛의 일측에 상기 경화성수지층의 표면에 접촉되도록 설치되어 상기 경화성수지층의 표면을 스크러빙(scrubbing)하면서 상기 음각패턴에 충진된 전도성 페이스트를 제외한 경화성수지층상의 잔존전도성 페이스트를 상기 음각패턴의 내부에 재충진하는 2차 충진유닛;을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 전도성 페이스트를 이용한 투명유연전극의 제조장치
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제10항에 있어서,상기 충진유닛은,상기 경화성수지층상에서 구동되는 베이스바디; 및상기 베이스바디의 외주면에 장착되고, 상기 경화성수지층의 표면과 접촉되어 스크러빙(scrubbing)하는 충진부재;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 전도성 페이스트를 이용한 투명유연전극의 제조장치
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제12항에 있어서,상기 베이스바디는,상기 베이스바디의 샤프트를 중심으로 하는 회전운동과, 병진운동이 함께 이루어지는 것을 특징으로 하는 전도성 페이스트를 이용한 투명유연전극의 제조장치
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제12항에 있어서,상기 베이스바디는,병진운동하는 것을 특징으로 하는 전도성 페이스트를 이용한 투명유연전극의 제조장치
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제12항에 있어서,상기 베이스바디는,원통 형상으로 이루어져 회전운동하는 것을 특징으로 하는 전도성 페이스트를 이용한 투명유연전극의 제조장치
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제12항에 있어서,상기 베이스바디의 하단면은,요철로 이루어져, 상기 음각패턴의 내부에 전도성 페이스트가 충진되는 과정에서 발생 가능한 상기 베이스바디의 하단면과 상기 충진부재 상단면 사이의 슬립(slip) 현상을 방지하는 것을 특징으로 하는 전도성 페이스트를 이용한 투명유연전극의 제조장치
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제12항에 있어서,상기 충진부재는,솜, 브러시, 청정실용 와이퍼 및 PVA 스펀지 중에서 선택되는 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 전도성 페이스트를 이용한 투명유연전극의 제조장치
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제12항에 있어서,상기 충진부재는,상기 베이스바디의 외주면에 감싼 후, 상기 베이스바디의 샤프트 상측에 고무링으로 고정되는 것을 특징으로 하는 전도성 페이스트를 이용한 투명유연전극의 제조장치
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제12항에 있어서,상기 충진부재는,상기 베이스바디의 하단면에 형성된 고정용 핀에 의해 고정 결합되는 것을 특징으로 하는 전도성 페이스트를 이용한 투명유연전극의 제조장치
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제19항에 있어서,상기 고정용 핀은 주사기 바늘이고, 상기 베이스바디의 내부에는 공간부가 형성되어,외부에서 공간부에 수분 또는 유기용제가 공급되어, 상기 주사기 바늘을 통해 상기 충진부재에 수분 또는 유기용제가 공급되는 것을 특징으로 하는 전도성 페이스트를 이용한 투명유연전극의 제조장치
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제10항에 있어서,상기 충진유닛의 양측에 각각 구비되는 예비충진유닛이 더 포함되는 것을 특징으로 하는 전도성 페이스트를 이용한 투명유연전극의 제조장치
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제10항에 있어서,상기 스탬핑유닛은,상기 경화성수지층의 표면에 접촉되도록 형성되어 회전하는 회전롤; 및상기 회전롤의 외주면에 상기 음각패턴 형상에 대응되도록 형성되는 복수 개의 양각패턴부;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 전도성 페이스트를 이용한 투명유연전극의 제조장치
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제10항에 있어서,상기 충진유닛의 일측에는,소성챔버와, 상기 소성챔버 내에 설치되는 소성히터로 이루어진 소성유닛이 더 설치되는 것을 특징으로 하는 전도성 페이스트를 이용한 투명유연전극의 제조장치
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