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양각 금형 표면의 특성을 개선하기 위한 표면 처리방법으로서,양각 금형의 표면을 세정하는 단계와;세정된 양각 금형을 챔버 내부에 넣고 아르곤 가스가 주입된 상태에서 플라즈마 스퍼티링에 의해 양각 금형의 표면을 활성화하는 단계와;하이드로 카본 가스를 포함하는 제1처리 가스의 플라즈마를 생성하여 양각 금형의 표면에 하이드로 카본 증착에 의한 내마모성을 부여하는 단계와;플로우르 카본 가스를 포함하는 제2처리 가스의 플라즈마를 생성하여 양각 금형의 표면에 플로우르 카본 증착에 의한 소수성을 부여하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 양각 금형의 표면 처리방법
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제2항에 있어서,상기 제1처리 가스 및 상기 제2처리 가스의 플라즈마 생성을 위하여 마그네트론에 의한 마이크로웨이브를 발진시키는 것을 특징으로 하는 양각 금형의 표면 처리방법
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제2항에 있어서,상기 마이크로웨이브는 2
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제2항에 있어서,상기 하이드로 카본 증착 및 플로우르 카본 증착시 바이어스 전원의 강도 및 증착시간을 제어하여 성막 두께를 조절하는 것을 특징으로 하는 양각 금형의 표면 처리방법
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제4항에 있어서,상기 바이어스 전원은 RF 전원인 것을 특징으로 하는 양각 금형의 표면 처리방법
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제2항에 있어서,상기 하이드로 카본 증착에 의한 내마모성을 부여하는 단계와, 플로우르 카본 증착에 의한 소수성을 부여하는 단계는 순차적으로 진행되는 것을 특징으로 하는 양각 금형의 표면 처리방법
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제2항에 있어서,상기 하이드로 카본 증착에 의한 내마모성을 부여하는 단계와, 플로우르 카본 증착에 의한 소수성을 부여하는 단계는 동시에 진행되는 것을 특징으로 하는 양각 금형의 표면 처리방법
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제6항 또는 제7항에 있어서,상기 하이드로 카본 증착에 의한 내마모성을 부여하는 단계와, 플로우르 카본 증착에 의한 소수성을 부여하는 단계가 진행된 이후에 부여된 내마모성 및 소수성 특성 중 부족하다고 판단되는 특성이 있는 경우에 해당 공정을 추가적으로 진행하여 보강하는 것을 특징으로 하는 양각 금형의 표면 처리방법
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제8항에 있어서,상기 양각 금형의 나이프 에지(knife edge) 부위에 대하여만 추가적으로 하이드로 카본 증착 및 플로우르 카본 증착을 실시하는 것을 특징으로 하는 양각 금형의 표면 처리방법
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10
제6항 또는 제7항에 있어서,상기 하이드로 카본 가스는 CH4, 2H2, C3H8, C4H10, C2H6 중 선택된 어느 하나 이상의 가스이고, 상기 플로우르 카본 가스는 CF4, C2F6, C3F8, C4F10, C5F8 중 선택된 어느 하나 이상의 가스인 것을 특징으로 하는 양각 금형의 표면 처리방법
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11
제2항에 있어서, 상기 양각 금형에 대한 세정은 초음파에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 양각 금형의 표면 처리방법
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제1항 내지 제7항, 및 제11항 중 어느 한 항의 양각 금형의 표면 처리방법에 의해 표면처리된 것을 특징으로 하는 양각 금형
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