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대향 타겟식 스퍼터링 장치에 있어서,소정의 공간을 에워싸는 타겟면과 상기 타겟면의 후면에 배치된 자기장 발생 유닛을 포함하는 제 1 스퍼터링부,상기 제 1 스퍼터링부의 하부에 배치되고, 소정의 공간을 에워싸는 타겟면과 상기 타겟면의 후면에 배치된 자기장 발생 유닛을 포함하는 제 2 스퍼터링부, 상기 제 1 스터퍼링부의 상부에 형성된 개구부를 덮도록 배치된 덮개부, 및상기 제 1 스퍼터링부 및 제 2 스퍼터링부는 타겟 사이의 공간에 플라즈마를 형성하기 위한 전원을 인가하는 전원 장치를 포함하고,상기 제 1 스퍼터링부의 타겟면과 제 2 스퍼터링부의 타겟면의 소스물질이 상이한 것이고,상기 전원 장치는 상기 제 1스퍼터링부의 자기장 발생 유닛에 전원을 인가하는 제 1 전원 장치 및 상기 제 2 스퍼터링부의 자기장 발생 유닛에 전원을 인가하는 제 2 전원 장치를 포함하되,상기 제 1 전원 장치의 전원의 세기가 조절됨에 따라 상기 제 1 스퍼터링부의 타겟면을 구성하는 제 1 소스 물질의 농도가 조절되고,상기 제 2 전원 장치의 전원의 세기가 조절됨에 따라 상기 제 2 스퍼터링부의 타겟면을 구성하는 제 2 소스 물질의 농도가 조절되며,기재 상에 제 1 소스 물질 및 제 2 소스 물질 중 어느 하나 이상을 포함하는 박막이 증착되는 것인 대향 타겟식 스퍼터링 장치
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 스퍼터링부는 서로 마주보도록 배치되고, 소정의 간격만큼 이격되며, 소정의 너비를 가진 한쌍의 제 1 타겟, 및 상기 제 1 타겟의 단부에 배치되고, 상기 소정의 간격만큼의 너비를 가지며, 상기 제 1 타겟의 너비만큼 이격되고, 서로 마주보도록 배치된 한쌍의 제 2 타겟을 포함하는 대향 타겟식 스퍼터링 장치
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제 1 항에 있어서,상기 제 2 스퍼터링부는 서로 마주보도록 배치되고, 소정의 간격만큼 이격되고, 소정의 너비를 가진 한쌍의 제 3 타겟, 및상기 제 3 타겟의 단부에 배치되고, 상기 소정의 간격만큼의 너비를 가지며, 상기 제 3 타겟의 너비만큼 이격되고, 서로 마주보도록 배치된 한쌍의 제 4 타겟을 포함하는 대향 타겟식 스퍼터링 장치
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 스퍼터링부의 상부에 형성된 개구부와 제 2 스퍼터링부의 상부에 형성된 개구부의 형상이 동일한 대향 타겟식 스퍼터링 장치
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 스퍼터링부의 단면의 형상과 제 2 스퍼터링부의 단면의 형상이 동일하되, 상기 단면은 상기 제 1 스퍼터링부와 제 2 스퍼터링부의 적층방향에 수직한 방향인 것인 대향 타겟식 스퍼터링 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 덮개부는 제 3 소스 물질로 이루어진 타겟면과 상기 타겟면의 후면에 배치된 자기장 발생 유닛 및 상기 자기장 발생 유닛에 전원을 인가하는 제 3 전원 장치를 더 포함하고, 상기 제 3 전원 장치의 전원의 세기가 조절됨에 따라 기재 상에 상기 제 3 소스 물질의 농도가 조절되며 기재 상에 제 3 소스 물질을 포함하는 박막이 증착되는 것인 대향 타겟식 스퍼터링 장치
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제 8 항에 있어서,상기 제 1 전원 장치, 제 2 전원 장치 및 제 3 전원 장치의 전원의 세기를 조절하여 상기 제 1 내지 제 3 소스 물질이 선택적으로 혼합된 혼합 박막을 기재 상에 증착하되, 상기 전원 장치의 전원의 세기가 조절됨에 따라 상기 기재 상에 각 타겟의 소스 물질의 농도가 조절되어 증착되는 것인, 대향 타겟식 스퍼터링 장치
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제 8 항에 있어서,상기 제 1 소스 물질, 제 2 소스 물질, 및 제 3 소스 물질 중 하나 이상은 서로 상이한 소스 물질인 것인 대향 타겟식 스퍼터링 장치
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제 8 항에 있어서,상기 제 1 소스 물질, 제 2 소스 물질, 및 제 3 소스 물질은 서로 동일한 소스 물질인 것인 대향 타겟식 스퍼터링 장치
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제 1 항에 있어서,진공 챔버; 및상기 진공 챔버의 내부를 진공 상태로 만들기 위한 진공 펌프를 더 포함하는 대향 타겟식 스퍼터링 장치
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제 12 항에 있어서, 상기 진공 챔버는 상기 자기장 발생 유닛을 냉각시키기 위한 냉각 수단을 더 포함하는 것인 대향 타겟식 스퍼터링 장치
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제 12 항에 있어서,상기 기재를 이동시키는 이동 유닛을 더 포함하되,상기 이동 유닛은 상기 기재를 상기 진공 챔버의 내부로 공급한 다음 상기 진공 챔버의 외부로 배출하는 것인 대향 타겟식 스퍼터링 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 제 1 스퍼터링부, 제 2 스퍼터링부 및 덮개부가 에워싸는 소정의 공간에 반응 가스를 공급하는 가스 공급 유닛을 더 포함하는 것인 대향 타겟식 스퍼터링 장치
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