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금속 기재;상기 금속 기재에 형성된 열 감응성 고분자 층; 및상기 열 감응성 고분자 층에 형성된 반도체 나노입자를 포함하는, 하이브리드 나노구조체를 포함하는 광촉매로서,상기 금속 기재는 금(Au), 은(Ag), 백금(Pt), 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 금속을 포함하는 것이고,상기 반도체 나노입자는 TiO2, ZnO, ZnS, CdS, MoS2, Fe2O3, 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 포함하는 것이며,상기 금속 기재의 표면 플라즈몬 공명 현상에 의해 상기 광촉매의 활성이 상승되고, 상기 열 감응성 고분자의 밀도 또는 분자량 조절에 의해 상기 금속 기재와 상기 반도체 나노입자 사이의 거리가 조절되어 상기 광촉매의 플라즈모닉 광촉매 활성이 조절되며,상기 열 감응성 고분자 층은, 개시제를 이용하여 상기 금속 기재를 전처리한 후 열 감응성 고분자 형성용 단량체를 중합시킨 것으로서, 상기 개시제의 처리 시간이 증가할수록 상기 열 감응성 고분자 층의 밀도가 증가되고,상기 열 감응성 고분자 층이 고밀도인 경우, 상기 광촉매의 처리 분위기 온도가 상기 열 감응성 고분자의 하한 임계용액 온도(lower critical solution temperature)보다 높을 때 상기 광촉매의 활성이 향상되고, 상기 열 감응성 고분자 층이 저밀도인 경우, 상기 광촉매의 처리 분위기 온도가 상기 열 감응성 고분자의 하한 임계용액 온도보다 낮을 때 상기 광촉매의 활성이 향상되며,상기 열 감응성 고분자의 분자량이 작을수록 우수한 광촉매 활성을 나타내는,광촉매
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제 1 항에 있어서,상기 금속 기재는 필름 형태인 것인, 광촉매
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제 1 항에 있어서,상기 열 감응성 고분자는 폴리-N-이소프로필아크릴아미드, 하이드록시프로필셀룰로오스, 폴리바이닐메틸에테르, 폴리바이닐카프로락탐, 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 고분자를 포함하는 것인, 광촉매
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금속 기재에 열 감응성 고분자 층을 형성하는 단계; 및상기 열 감응성 고분자 층에 반도체 나노입자를 형성하는 단계를 포함하는, 하이브리드 나노구조체를 포함하는 광촉매의 제조 방법으로서,상기 금속 기재는 금(Au), 은(Ag), 백금(Pt), 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 금속을 포함하는 것이고,상기 반도체 나노입자는 TiO2, ZnO, ZnS, CdS, MoS2, Fe2O3, 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 포함하는 것이며,상기 열 감응성 고분자 층을 형성하는 단계는, 개시제를 이용하여 상기 금속 기재를 전처리한 후 열 감응성 고분자 형성용 단량체를 중합시키는 것을 포함하되,상기 개시제의 처리 시간이 증가할수록 상기 열 감응성 고분자 층의 밀도가 증가되며,상기 열 감응성 고분자 층이 고밀도인 경우, 상기 광촉매의 처리 분위기 온도가 상기 열 감응성 고분자의 하한 임계용액 온도보다 높을 때 상기 광촉매의 활성이 향상되고, 상기 열 감응성 고분자 층이 저밀도인 경우, 상기 광촉매의 처리 분위기 온도가 상기 열 감응성 고분자의 하한 임계용액 온도보다 낮을 때 상기 광촉매의 활성이 향상되고,상기 중합 시간에 따라 상기 열 감응성 고분자의 분자량이 조절되며,상기 열 감응성 고분자의 분자량이 작을수록 우수한 광촉매 활성을 나타내는,광촉매의 제조 방법
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제 8 항에 있어서,상기 개시제는 이황화물, 황화물, 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 포함하는 것인, 광촉매의 제조 방법
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