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하전입자를 방출하는 소스(10);상기 소스(10)로부터 방출된 하전입자를 가속하고, 단부면에 형성되어 가속된 하전입자를 대기중으로 방출시키기 위한 인출공(21)을 갖는 가속관(20); 및상기 가속관(20) 단부에 상호 이격되어 형성되고, 상기 가속관(20)의 인출공(21)으로 갈수록 가속관(20) 내부의 진공압력을 감소시키는 복수의 어퍼쳐(31)(aperture)를 포함하는 하전입자인출수단(30);을 포함하고,상기 복수의 어퍼쳐(31)는균일한 구경으로 형성되거나,상기 인출공(21)으로 근접할수록 구경이 증대되도록 형성되거나,균일한 구경으로 형성되되, 상기 인출공(21)으로 근접할수록 이격간격이 조밀하게 형성된 것을 특징으로 하는 차등진공을 이용한 하전입자빔 대기인출장치
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제 1 항에 있어서,상기 하전입자인출수단(30)은 상기 가속관의 인출공(21) 또는 상기 각 어퍼쳐(31), 또는 이들 모두의 개도를 조절하기 위한 개도조절부(32)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 차등진공을 이용한 하전입자빔 대기인출장치
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제 2 항에 있어서, 상기 개도조절부(32)는상기 가속관(20)의 내주 또는 외주에 이동 가능하게 장착되는 조절관(33)과,상기 조절관(33)에 형성되고, 상기 각 어퍼쳐(31)에 대응하도록 구비되어 각 어퍼쳐(31)의 개도를 조절하기 위한 제1 조절공(34)을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 차등진공을 이용한 하전입자빔 대기인출장치
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제 2 항에 있어서, 상기 개도조절부(32)는상기 가속관(20)의 단부에 이동 가능하게 장착되는 조절판(35)과,상기 조절판(35)에 형성되어 서로 다른 구경을 갖고, 상기 가속관(20)의 인출공(21)의 개도를 조절하기 위한 제2 조절공(36)을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 차등진공을 이용한 하전입자빔 대기인출장치
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제 1 항에 있어서,상기 가속관(20)에 내장되고, 상기 하전입자인출수단의 각 어퍼쳐(31) 사이에 배치되어 하전입자를 집속(集束)하기 위한 전자석(40)이 더 구비되는 것을 특징으로 하는 차등진공을 이용한 하전입자빔 대기인출장치
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