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기판을 제공하는 단계;상기 기판 상에 타깃 물질을 제공하는 단계; 및상기 타깃 물질에 레이저 빔을 제공하여 상기 타깃 물질의 도전성 불순물을 기판 내에 주입하는 단계를 포함하는 기판 도핑 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 기판을 제공하는 단계는 상기 기판의 주입 영역을 노출하는 마스크 패턴을 형성하는 것을 포함하는 기판 도핑 방법
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제 2 항에 있어서, 상기 타깃 물질을 제공하는 단계는 상기 타깃 물질을 갖는 타깃을 상기 기판 상에 제공하는 단계를 포함하되,상기 타깃은 상기 기판 상에 이격하여 배치되고, 상기 타깃 물질을 상기 주입 영역에 정렬하는 기판 도핑 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 타깃 물질을 제공하는 단계는:상기 기판 상에 도전성 불순물 용액을 제공하는 단계; 및상기 도전성 불순물 용액을 건조하여 상기 타깃 물질을 형성하는 단계를 포함하는 기판 도핑 방법
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제 4 항에 있어서, 상기 기판을 제공하는 단계는 기판 상에 마스크 패턴을 형성하는 것을 포함하되,상기 도전성 불순물 용액은 상기 마스크 패턴 내의 상기 기판 상에 제공되는 기판 도핑 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 타깃 물질은 고체 상태로 형성된 기판 도핑 방법
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기판을 제공하는 단계; 및 상기 기판 내에 도전성 불순물을 주입하는 단계를 포함하되,상기 도전성 불순물을 주입하는 단계는 상기 도전성 불순물을 갖는 고체의 타깃 물질에 레이저 빔을 제공하여 상기 타깃 물질로부터 방출되는 상기 도전성 불순물을 상기 기판 내에 주입하는 것을 포함하는 기판 도핑 방법
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제 7 항에 있어서,상기 도전성 불순물을 주입하는 단계는:상기 기판 상에 상기 타깃 물질을 포함하는 타깃을 제공하는 단계; 및상기 타깃 물질에 상기 레이저 빔을 제공하는 단계를 포함하되,상기 도전성 불순물은 상기 레이저 빔의 에너지에 비례하는 깊이로 상기 기판 내에 주입되는 기판 도핑 방법
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제 8 항에 있어서,상기 타깃 물질은 서로 다른 도전성을 갖는 복수개의 도전성 불순물들로 각각 이루어진 복수개의 영역들로 형성된 기판 도핑 방법
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제 9 항에 있어서,상기 복수개의 도전성 불순물들 각각은 인, 붕소, 탄소, 또는 양성자를 포함하는 기판 도핑 방법
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제 8 항에 있어서,상기 기판을 제공하는 단계는 상기 기판 상에 상기 기판의 주입 영역을 노출시키는 마스크 패턴을 형성하는 것을 포함하되,상기 타깃 물질은 상기 주입 영역 상에 정렬되는 기판 도핑 방법
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제 7 항에 있어서,상기 기판을 제공하는 단계는 상기 기판 상에 상기 도전성 불순물을 포함하는 용액을 도포하는 것을 포함하는 상기 도전성 기판 도핑 방법
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제 12 항에 있어서,상기 기판을 제공하는 단계는 상기 용액을 건조하는 것을 더 포함하는 기판 도핑 방법
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제 12 항에 있어서,상기 용액은 상기 기판 상에 프린팅 방법으로 도포되는 기판 도핑 방법
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제 12 항에 있어서,상기 기판을 제공하는 단계는 상기 기판 상에 마스크 패턴을 형성하는 단계를 더 포함하는 기판 도핑 방법
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제 15 항에 있어서,상기 마스크 패턴은 상기 용액의 도포 영역을 정의하는 기판 도핑 방법
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