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리세스가 형성된 기재부를 준비하는 단계;상기 리세스 내에 전도성 나노잉크 조성물을 충전하여 상기 리세스 내에 전도성 나노잉크 패턴을 형성하는 단계;상기 전도성 나노잉크 패턴을 접착 필름 상에 1차 전사하는 단계;상기 접착 필름으로부터 상기 전도성 나노잉크 패턴을 대상체 상에 2차 전사하여 상기 대상체 상에 투명 전극 패턴을 형성하는 단계; 및상기 접착 필름을 상기 대상체로부터 열박리 공정을 통하여 이형하는 단계를 포함하고,상기 접착 필름은, 접착제, 접착 테이프, 점착제, 열 박리 테이프, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 포토소프트닝 테이프 및 수용성 테이프로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 투명 전극 패턴의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 리세스 표면을 개질하여 상기 전도성 나노 잉크가 상기 기재부로부터 용이하게 이형되도록 하는 표면 개질(modifying) 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 전극 패턴의 제조 방법
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제5항에 있어서,상기 표면 개질 단계는 플라즈마 처리 공정, 화학 처리 공정 또는 흡착 처리 공정을 수행하는 것을 특징으로 하는 투명 전극 패턴의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 리세스는 10㎛ 이하의 폭을 가지며, 상기 리세스는 상기 폭을 기준으로 1 내지 3:1의 깊이를 특징으로 하는 투명 전극 패턴의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 전도성 나노잉크 조성물은 금(Au), 은(Ag), 백금(Pt), 망간(Mg), 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 아연(Zn), 구리(Cu), 규소(Si) 및 티타늄(Ti) 중 적어도 하나 또는 이들의 합금, 전도성 고분자, 탄소나노튜브 및 그래핀이 이루는 그룹으로부터 선택된 적어도 하나로 이루어진 것을 특징으로 하는 투명 전극 패턴의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 기재부는 실리콘 기판, 유리 기판, 석영 기판 또는 폴리머 기판을 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 전극 패턴의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 투명 전극 패턴은 80% 이상의 투과도와 100 Ω/□ 이하의 전기 전도도를 갖는 것을 특징으로 하는 투명 전극 패턴의 제조 방법
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