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투명기판;상기 투명기판 상에 형성된 제1그래핀층;상기 제1그래핀층의 일 표면에서 단량체를 자가중합하여 형성된 고분자층; 및상기 고분자층 상에 형성된 제2그래핀층;을 포함하며, 상기 단량체는 하기 구조식 1을 만족하는 투명 그래핀 전극
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제 1항에 있어서,상기 제1그래핀층 및 제2그래핀층은 각각 독립적으로 1~4겹의 그래핀인 투명 그래핀 전극
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제 1항에 있어서,상기 A는 치환 또는 비치환된, 페닐, 비페닐, 나프틸, 터페닐, 안트릴, 페난트릴, 페날레닐, 테트라페닐 및 피레닐에서 선택되는 어느 하나인 투명 그래핀 전극
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제 1항에 있어서,상기 고분자층은 중량평균 분자량이 500~10,000 g/mol인 투명 그래핀 전극
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제 1항, 2항, 4항 및 5항에서 선택되는 어느 한 항의 투명 그래핀 전극을 포함하여 제조된 투명 슈퍼커패시터
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제 6항에 있어서,상기 투명 슈퍼커패시터는 투명 고체 겔 전해질을 더 포함하여 제조된 투명 슈퍼커패시터
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8
제 6항에 있어서,상기 투명 슈퍼커패시터의 투명도는 70% 이상인 투명 슈퍼커패시터
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a) 제1그래핀층을 포함하는 제1적층구조체 및 제2그래핀층을 포함하는 제2적층구조체를 준비하는 단계;b) 상기 제1그래핀층의 일 표면에서 단량체를 자가중합하여 고분자층을 형성하는 단계;c) 상기 고분자층과 상기 제2그래핀층이 접하도록 상기 제2적층구조체를 상기 고분자층 상에 적층하여 제3적층구조체를 제조하는 단계; 및d) 상기 제1그래핀층과 투명기판이 접하도록 상기 제3적층구조체를 상기 투명기판 상에 전사하는 단계;를 포함하며, 상기 단량체는 하기 구조식 1을 만족하는 투명 그래핀 전극의 제조 방법
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10
삭제
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제 9항에 있어서,상기 자가중합은 0
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