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기판 상에 형성된 소스전극 및 드레인전극과;상기 소스전극 및 드레인전극과 접촉하는 산화물반도체층과;상기 산화물반도체층 상에 형성된 제1절연막과;상기 제1절연막 상에 형성된 게이트전극과; 상기 드레인전극과 연결되는 포토다이오드를 포함하고, 상기 산화물반도체층은, 상기 게이트전극에 의해 가려지는 자외선 비조사 부분과, 상기 게이트전극에 의해 가려지지 않는 자외선 조사 부분으로 구성된이미지센서
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제 1 항에 있어서, 상기 포토다이오드는, 상기 드레인전극으로부터 연장된 제1전극과, 상기 제1전극 상에 형성된 반도체층과, 상기 반도체층 상에 형성된 제2전극을 포함하고,상기 제1절연막은 상기 제2전극 상에 위치하는이미지센서
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제 2 항에 있어서, 상기 게이트전극 및 제1절연막 상에 위치하고, 상기 제1절연막과 함께 상기 소스전극을 노출하는 제1콘택홀과 상기 제2전극을 노출하는 제2콘택홀을 포함하는 제2절연막과;상기 제2절연막 상에, 상기 제1콘택홀을 통해 상기 소스전극과 연결되는 독출배선과, 상기 제2콘택홀을 통해 상기 제2전극과 연결되는 바이어스전극을 포함하는이미지센서
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기판 상에 소스전극 및 드레인전극을 형성하는 단계와;상기 소스전극 및 드레인전극과 접촉하며, 제1부분 및 제2부분으로 구성된 산화물반도체층을 형성하는 단계와;상기 산화물반도체층 상에 제1절연막을 형성하는 단계와;상기 제1절연막 상에, 상기 제1부분을 가리고 상기 제2부분을 가리지 않는 게이트전극을 형성하는 단계와;상기 게이트전극을 자외선 차단 마스크로 사용하여 자외선 조사를 수행하는 단계를 포함하고,상기 드레인전극은 포토다이오드와 연결되는이미지센서 제조방법
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제 4 항에 있어서, 상기 제1절연막을 형성한 후에, 열처리를 통해 상기 산화물반도체층을 어닐링하는 단계를 포함하는 이미지센서 제조방법
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제 4 항에 있어서, 상기 게이트전극을 형성하는 식각 마스크인 포토레지스트패턴이 상기 게이트전극 상에 위치한 상태에서, 상기 자외선 조사를 수행하는이미지센서 제조방법
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