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내부 공간을 가지는 챔버;상기 챔버 내부에 위치하며, 스퍼터링 처리하고자 하는 기판이 일면에 안착되는 기판 지지대;상기 챔버 내부에서 전면(前面)이 기판에 대향하도록 설치되어, 상기 기판에 증착 원료를 제공하는 타겟; 및상기 타겟과 상기 기판 지지대 사이에서, 상대적으로 상기 타겟에 비해 상기 기판 지지대 상에 안착되는 기판에 인접하도록 위치하며, 상기 챔버 내에 생성된 플라즈마 중 양이온이 기판으로 향하는 것을 차폐하고, 상기 타겟으로부터 탈락된 성막 재료는 통과시키는 차폐 부재;를 포함하는 스퍼터 장치
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청구항 1에 있어서,상기 차폐 부재는 상호 이격 형성된 복수의 개구를 가지는 그리드(grid) 또는 메쉬(mesh) 형태인 스퍼터 장치
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청구항 2에 있어서,상기 차폐 부재는 금속을 포함하며, 그라운드(ground) 연결되는 스퍼터 장치
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청구항 3에 있어서,상기 차폐 부재는 상기 기판 지지대와 대응하는 방향으로 연장 형성되어, 상기 기판 지지대에 안착되며, 상기 타겟의 전면(前面)과 마주보는 상기 기판의 전면(前面)과 나란하도록 형성된 스퍼터 장치
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청구항 4에 있어서,상기 차폐 부재는 상기 기판의 상측에서, 상기 기판의 전면(前面) 및 상기 기판의 측면을 커버하도록 형성된 스퍼터 장치
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청구항 4 또는 청구항 5에 있어서,상기 차폐 부재는 복수개로 마련되어, 복층으로 이격 설치되는 스퍼터 장치
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청구항 6에 있어서,복수개의 상기 차폐 부재를 복층으로 설치하는데 있어서, 상기 개구가 상호 엇갈리도록 배치되는 스퍼터 장치
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청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서,상기 타겟과 대향하는 상기 기판의 전면(前面) 상에는 유기 발광 표시 장치를 제조를 위한 하부 전극 및 유기물층이 적층되어 있으며,상기 타겟으로부터 제공되는 증착 원료로 상기 유기물층 상에 상부 전극 또는 상기 상부 전극 상에 봉지를 위한 보호막을 형성하는 스퍼터 장치
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