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제련시 발생하는 슬래그를 촉매제로 사용하여, 가스화기에서 발생하는 합성가스 내에 함유된 타르를 개질하는 방법으로서, 슬래그의 표면적을 향상시키기 위하여 슬래그를 전처리하며, 시료의 가스화 반응으로 합성가스를 생성하고, 전처리한 슬래그를 수증기 개질을 하여 합성가스 내에 함유된 타르를 개질하되,상기 슬래그 전처리 방법은, 고온, 고압 조건의 스팀을 이용한 슬래그 열수처리 방법, 알칼리용액을 이용한 슬래그 알칼리처리 방법, 및 가온(加溫)의 알칼리용액을 이용한 슬래그 알칼리 열수처리 방법 중 적어도 어느 하나 이상을 포함하며, 상기 슬래그 열수처리 방법은 아임계 상태를 유지하는 것을 특징으로 하는, 제강 슬래그를 이용한 타르 개질 방법
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청구항 1에 있어서,상기 슬래그 열수처리 방법은, 슬래그를 직경 1㎜ 이하의 크기로 파쇄 후, 증류수와 슬래그의 질량비 30:1 조건상에서 압력용기를 이용하여 250℃ 및 40 bar의 아임계 상태에서 5시간 동안 유지하는 것을 특징으로 하는, 제강 슬래그를 이용한 타르 개질 방법
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청구항 1에 있어서,상기 슬래그 알칼리 열수처리 방법은, 슬래그를 직경 1㎜ 이하의 크기로 파쇄 후, 압력용기를 이용하여 1wt
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내부에 고정층 가스화로를 구비하고 시료를 공급받아 가스화 반응으로 합성가스를 생성하며, 외부에 상기 고정층 가스화로의 외부를 감싸는 슬래그 반응로를 구비하고 슬래그를 공급받아 합성가스에 포함된 타르를 개질하기 위한 이중관 반응로;상기 고정층 가스화로에 시료를 공급하도록 상기 고정층 가스화로에 설치되는 시료 공급부;상기 슬래그 반응로에 전처리한 슬래그를 공급하도록 상기 슬래그 반응로에 설치되는 슬래그 공급부;가스화 반응을 위하여 상기 고정층 가스화로에 설치되는 산화제 공급부;수증기 개질을 위해서 상기 슬래그 반응로에 설치되는 스팀 공급부; 및개질 가스를 상기 슬래그 반응로의 외부로 배출하기 위한 반응가스 배출 부;를 포함하되,고온, 고압 조건의 스팀을 이용한 슬래그 열수처리 방법, 알칼리용액을 이용한 슬래그 알칼리처리 방법, 및 가온(加溫)의 알칼리용액을 이용한 슬래그 알칼리 열수처리 방법 중 적어도 어느 하나 이상을 포함하는 방법에 의해 처리되며,상기 슬래그 열수처리 방법은 아임계 상태를 유지하는 것을 특징으로 하는, 제강 슬래그를 이용한 타르 개질 시스템
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청구항 4에 있어서,상기 스팀 공급부는 개질 가스 및 고열의 상측 방향 유입을 촉진하고, 슬래그의 탄소침적에 의한 촉매 피독을 방지하는 것을 특징으로 하는, 제강 슬래그를 이용한 타르 개질 시스템
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내부에 시료를 공급받아 가스화 반응으로 합성가스를 생성하며, 전처리한 슬래그를 공급받아 합성가스에 포함된 타르를 개질하기 위한 고정층 가스화로;상기 고정층 가스화로에 시료와 전처리한 슬래그를 공급하도록 상기 고정층 가스화로에 설치되는 시료 슬래그 공급부;가스화 반응을 위하여 상기 고정층 가스화로에 설치되는 산화제 공급부;수증기 개질을 위해서 상기 고정층 가스화로에 설치되는 스팀 공급부; 및개질 가스를 상기 고정층 가스화로의 외부로 배출하기 위한 반응가스 배출 부;를 포함하되,고온, 고압 조건의 스팀을 이용한 슬래그 열수처리 방법, 알칼리용액을 이용한 슬래그 알칼리처리 방법, 및 가온(加溫)의 알칼리용액을 이용한 슬래그 알칼리 열수처리 방법 중 적어도 어느 하나 이상을 포함하는 방법에 의해 처리되며,상기 슬래그 열수처리 방법은 아임계 상태를 유지하는 것을 특징으로 하는, 제강 슬래그를 이용한 타르 개질 시스템
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시료를 공급받아 가스반응으로 합성가스를 생성하는 고정층 가스화로;상기 고정층 가스화로에 시료를 공급하기 위하여 상기 고정층 가스화로에 설치되는 시료 공급부;전처리한 슬래그를 공급받아 상기 고정층 가스화로의 합성가스에 포함된 타르를 개질하기 위하여 상기 고정층 가스화로와 연결되는 타르 개질로;상기 타르 개질로에 전처리한 슬래그를 공급하도록 상기 타르 개질로에 설치되는 슬래그 공급부;가스화 반응을 위하여 상기 고정층 가스화로에 설치되는 산화제 공급부;수증기 개질을 위해서 상기 타르 개질로에 설치되는 스팀 공급부; 및개질 가스를 상기 타르 개질로의 외부로 배출하기 위한 반응가스 배출 부;를 포함하는, 제강 슬래그를 이용한 타르 개질 시스템
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8
내부에 고정층 가스화로를 구비하고 시료와 전처리한 슬래그를 공급받아 가스화 반응으로 합성가스를 생성하며, 외부에 상기 고정층 가스화로의 외부를 감싸는 슬래그 반응로를 구비하고 전처리한 슬래그를 공급받아 상기 고정층 가스화로에서 생성한 합성가스에 포함된 타르를 개질하기 위한 이중관 반응로;상기 고정층 가스화로에 시료와 전처리한 슬래그를 공급하도록 상기 고정층 가스화로에 설치되는 시료 슬래그 공급부;상기 슬래그 반응로에 전처리한 슬래그를 공급하도록 상기 슬래그 반응로에 설치되는 슬래그 공급부;가스화 반응을 위하여 상기 고정층 가스화로에 설치되는 산화제 공급부;수증기 개질을 위해서 상기 슬래그 반응로에 설치되는 제1 스팀 공급부;수증기 개질을 위해서 고정층 가스화로에 설치되는 제2 스팀 공급부; 및개질 가스를 상기 슬래그 반응로의 외부로 배출하기 위한 반응가스 배출 부;를 포함하는, 제강 슬래그를 이용한 타르 개질 시스템
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9
내부에 시료를 공급받아 가스화 반응으로 합성가스를 생성하며, 전처리한 슬래그를 공급받아 합성가스에 포함된 타르를 개질하기 위한 유동층 가스화로;상기 유동층 가스화로에 시료를 공급하도록 상기 유동층 가스화로에 설치되는 시료 공급부;상기 유동층 가스화로에 전처리한 슬래그를 공급하도록 상기 유동층 가스화로에 설치되는 슬래그 공급부;가스화 후 남은 바닥재를 필터링하기 위하여 상기 유동층 가스화로의 하부에 설치되는 유동층 분사판;가스화 반응을 위하여 상기 유동층 분사판 하부에 설치되는 산화제 공급부;수증기 개질을 위해서 상기 유동층 분사판 하부에 설치되는 스팀 공급부; 및개질 가스를 상기 유동층 가스화로의 외부로 배출하기 위한 반응가스 배출 부;를 포함하는, 제강 슬래그를 이용한 타르 개질 시스템
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10
시료를 공급받아 가스화 반응으로 합성가스를 생성하는 유동층 가스화로;상기 유동층 가스화로에 시료를 공급하기 위하여 상기 유동층 가스화로에 설치되는 시료 공급부;상기 유동층 가스화로 내에 유동층 매질을 공급하는 유동층 매질 공급부;촉매로서 전처리한 슬래그를 이용하여 상기 유동층 가스화로에서 생성한 합성가스에 포함된 타르를 개질하기 위하여 상기 유동층 가스화로와 연통되는 타르 개질로;상기 타르 개질로에 전처리한 슬래그를 공급하도록 상기 타르 개질로에 설치되는 슬래그 공급부;가스화 후 남은 바닥재를 필터링하기 위하여 상기 유동층 가스화로에 설치되는 유동층 분사판;가스화 반응을 위하여 상기 유동층 분사판 하부에 설치되는 산화제 공급부;수증기 개질을 위해서 상기 타르 개질로에 설치되는 스팀 공급부; 및개질 가스를 상기 타르 개질로의 외부로 배출하기 위한 반응가스 배출 부;를 포함하는, 제강 슬래그를 이용한 타르 개질 시스템
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시료를 공급받아 가스화 반응으로 합성가스를 생성하는 유동층 가스화로;상기 유동층 가스화로에 시료를 공급하기 위하여 상기 유동층 가스화로에 설치되는 시료 공급부;상기 유동층 가스화로에 전처리한 슬래그를 공급하기 위하여 상기 유동층 가스화로에 설치되는 슬래그 1차 공급부;촉매로서 전처리한 슬래그를 이용하여 상기 유동층 가스화로에서 생성한 합성가스에 포함된 타르를 개질하기 위하여 상기 유동층 가스화로와 연통되는 타르 개질로;상기 타르 개질로에 전처리한 슬래그를 공급하도록 상기 타르 개질로에 설치되는 슬래그 2차 공급부;가스화 후 남은 바닥재를 필터링하기 위하여 상기 유동층 가스화로의 하부에 설치되는 유동층 분사판;가스화 반응을 위하여 상기 유동층 분사판 하부에 설치되는 산화제 공급부;수증기 개질을 위해서 상기 유동층 가스화로에 설치되는 제1 스팀 공급부;수증기 개질을 위해서 상기 타르 개질로에 설치되는 제2 스팀 공급부; 및개질 가스를 상기 타르 개질로의 외부로 배출하기 위한 반응가스 배출 부;를 포함하는, 제강 슬래그를 이용한 타르 개질 시스템
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내부에 시료를 공급받아 가스화 반응으로 합성가스를 생성하며, 전처리한 슬래그를 공급받아 합성가스에 포함된 타르를 개질하기 위한 유동층 가스화로;상기 유동층 가스화로에 시료를 공급하도록 상기 유동층 가스화로에 설치되는 시료 공급부;상기 유동층 가스화로에 전처리한 슬래그를 공급하도록 상기 유동층 가스화로에 설치되는 슬래그 공급부;상기 유동층 가스화로에서 생성한 합성가스를 공급받아 그 합성가스에 포함된 슬래그를 분리하기 위한 사이클론;상기 사이클론의 하부에 설치되어 상기 사이클론에 의해 분리된 슬래그를 상기 유동층 가스화로의 하부로 이동하기 위한 하강관;가스화 후 남은 바닥재를 필터링하기 위하여 상기 유동층 가스화로의 하부에 설치되는 유동층 분사판;가스화 반응을 위하여 상기 유동층 분사판 하부에 설치되는 산화제 공급부;수증기 개질을 위해서 상기 유동층 분사판 하부에 설치되는 스팀 공급부; 및상기 사이클론을 거친 개질 가스를 외부로 배출하기 위한 반응가스 배출 부;를 포함하는, 제강 슬래그를 이용한 타르 개질 시스템
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내부에 시료를 공급받아 가스화 반응으로 합성가스를 생성하며, 전처리한 슬래그를 공급받아 합성가스에 포함된 타르를 개질하기 위한 유동층 가스화로;상기 유동층 가스화로에 시료와 전처리한 슬래그를 공급하도록 상기 유동층 가스화로에 설치되는 시료 슬래그 공급부;상기 유동층 가스화로에서 생성한 합성가스를 공급받아 그 합성가스에 포함된 슬래그를 분리하기 위한 제1 사이클론;상기 제1 사이클론의 하부에 설치되어 슬래그를 상기 유동층 가스화로의 하부로 이동하기 위한 하강관;상기 하강관으로 이동된 슬래그를 순환 공급하기 위하여 상기 하강관에 연결되는 순환 슬래그 공급부;개질 가스를 배출하기 위하여 상기 하강관에 연결되는 반응가스 배출 타공관;상기 반응가스 배출 타공관으로 배출되는 개질 가스를 공급받아 그 개질 가스에 포함된 분진을 재차 분리하는 제2 사이클론;가스화 후 남은 바닥재를 필터링하기 위하여 상기 유동층 가스화로의 하부에 설치되는 유동층 분사판;가스화 반응을 위하여 상기 유동층 분사판 하부에 설치되는 산화제 공급부;수증기 개질을 위해서 상기 유동층 분사판 하부에 설치되는 스팀 공급부; 및상기 제2 사이클론을 거친 개질 가스를 외부로 배출하기 위한 반응가스 배출 부;를 포함하는, 제강 슬래그를 이용한 타르 개질 시스템
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청구항 4 내지 청구항 6중 어느 한 항에 있어서,상기 슬래그 열수처리 방법은, 슬래그를 직경 1㎜ 이하의 크기로 파쇄 후, 증류수와 슬래그의 질량비 30:1 조건상에서 압력용기를 이용하여 250℃ 및 40 bar의 아임계 상태에서 5시간 동안 유지하는 것을 특징으로 하는, 제강 슬래그를 이용한 타르 개질 시스템
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청구항 7 내지 청구항 13중 어느 한 항에 있어서,상기 전처리 슬래그는고온, 고압 조건의 스팀을 이용한 슬래그 열수처리 방법, 알칼리용액을 이용한 슬래그 알칼리처리 방법, 및 가온(加溫)의 알칼리용액을 이용한 슬래그 알칼리 열수처리 방법 중 적어도 어느 하나 이상을 포함하는 방법에 의해 처리되며,상기 슬래그 열수처리 방법은, 슬래그를 직경 1㎜ 이하의 크기로 파쇄 후, 증류수와 슬래그의 질량비 30:1 조건상에서 압력용기를 이용하여 250℃ 및 40 bar의 아임계 상태에서 5시간 동안 유지하는 것을 특징으로 하는, 제강 슬래그를 이용한 타르 개질 시스템
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청구항 15에 있어서,상기 슬래그 알칼리 열수처리 방법은, 슬래그를 직경 1㎜ 이하의 크기로 파쇄 후, 압력용기를 이용하여 1wt
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