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쇼트키 다이오드(SCHOTTKY DIODE)

  • 기술번호 : KST2016017505
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 기판, 상기 기판 상에 배치되는 드리프트층, 상기 활성영역 및 상기 주변영역의 경계 상에 배치되는 접합 마감층(junction termination layer), 상기 활성영역의 일부 및 상기 접합 마감층의 일부를 덮는 제 1 금속층, 및 상기 제 1 금속층 및 상기 활성영역을 덮는 제 2 금속층을 포함하는 쇼트키 다이오드를 제공하되, 상기 드리프트층은 활성영역(active region) 및 상기 활성영역 외각에 위치하는 주변영역(periphery)을 포함하고, 상기 제 1 금속층 및 상기 제 2 금속층은 상기 드리프트층과 접촉하여 쇼트키(schottky) 접합을 형성하고, 상기 제 1 금속층은 상기 제 2 금속층보다 더 높은 쇼트키 전위 장벽(schottky barrier height)을 가질 수 있다.
Int. CL H01L 21/285 (2006.01) H01L 29/872 (2006.01) H01L 29/47 (2006.01) H01L 29/66 (2006.01)
CPC H01L 29/872(2013.01) H01L 29/872(2013.01) H01L 29/872(2013.01) H01L 29/872(2013.01) H01L 29/872(2013.01) H01L 29/872(2013.01)
출원번호/일자 1020160018592 (2016.02.17)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2016-0116294 (2016.10.07) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020150042666   |   2015.03.26
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 N
심사청구항수 15

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박건식 대한민국 대전시 유성구
2 원종일 대한민국 세종특별자
3 조두형 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 고려 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *길 ** *층(역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2016.02.17 수리 (Accepted) 1-1-2016-0158399-51
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번호 청구항
1 1
기판;상기 기판 상에 배치되는 드리프트층, 상기 드리프트층은 활성영역(active region) 및 상기 활성영역 외각에 위치하는 주변영역(periphery)을 포함하고;상기 활성영역 및 상기 주변영역의 경계 상에 배치되는 접합 마감층(junction termination layer);상기 활성영역의 일부 및 상기 접합 마감층의 일부를 덮는 제 1 금속층; 및상기 제 1 금속층 및 상기 활성영역을 덮는 제 2 금속층을 포함하되,상기 제 1 금속층 및 상기 제 2 금속층은 상기 드리프트층과 접촉하여 쇼트키(schottky) 접합을 형성하고,상기 제 1 금속층은 상기 제 2 금속층보다 더 높은 쇼트키 전위 장벽(schottky barrier height)을 갖는 쇼트키 다이오드
2 2
제 1 항에 있어서,상기 기판, 상기 드리프트층 및 상기 접합 마감층은 실리콘 카바이드(SiC)를 포함하는 쇼트키 다이오드
3 3
제 1 항에 있어서,상기 활성영역 상에 상호 이격되어 배치되는 복수의 도전층들을 포함하되,상기 제 2 금속층은 상기 제 1 금속층, 상기 활성영역 및 상기 도전층들을 덮는 쇼트키 다이오드
4 4
제 3 항에 있어서,상기 도전층들은 상기 드리프트층과 다른 도전형을 갖는 쇼트키 다이오드
5 5
제 3 항에 있어서,상기 도전층들은 제 1 부분 및 상기 제 1 부분 상에 배치되는 제 2 부분을 포함하되,상기 제 2 부분은 상기 제 1 부분보다 도펀트 농도가 더 높은 쇼트키 다이오드
6 6
제 3 항에 있어서,상기 도전층들 및 상기 활성영역의 일부를 덮는 제 3 금속층을 더 포함하되,상기 제 2 금속층은 상기 제 1 금속층, 상기 활성영역 및 상기 제 3 금속층을 덮는 쇼트키 다이오드
7 7
제 6 항에 있어서,상기 제 3 금속층은 상기 제 1 금속층을 구성하는 물질과 동일한 물질을 포함하는 쇼트키 다이오드
8 8
제 1 항에 있어서,상기 접합 마감층은 상기 드리프트층과 다른 도전형을 갖는 쇼트키 다이오드
9 9
제 8 항에 있어서,상기 접합 마감층은 제 1 접합 마감층 및 상기 제 1 접합 마감층 상에 배치되는 제 2 접합 마감층을 포함하되,상기 제 2 접합 마감층은 상기 제 1 접합 마감층보다 도펀트 농도가 더 높은 쇼트키 다이오드
10 10
기판;상기 기판 상에 배치되는 드리프트층, 상기 드리프트층은 상기 기판 방향으로 연장되는 트렌치들을 갖는 활성영역(active region) 및 상기 활성영역 외각에 위치하는 주변영역(periphery)을 포함하고;상기 활성영역 및 상기 주변영역의 경계 상에 배치되는 접합 마감층(junction termination layer);상기 활성영역의 일부 및 상기 접합 마감층의 일부를 덮는 제 1 금속층; 및상기 드리프트층의 상면 및 상기 제 1 금속층과 접하고, 상호 이격되어 배치되는 복수의 제 2 금속층을 포함하되,상기 제 1 금속층 및 상기 제 2 금속층은 상기 드리프트층과 접촉하여 쇼트키(schottky) 접합을 형성하고,상기 제 1 금속층은 상기 제 2 금속층보다 더 높은 쇼트키 전위 장벽(schottky barrier height)을 갖는 쇼트키 다이오드
11 11
제 10 항에 있어서,상기 제 1 금속층은 상기 접합 마감층, 상기 활성영역 및 제 2 금속층의 표면 형상(surface morphology)를 따라 도포되는 쇼트키 다이오드
12 12
제 10 항에 있어서,상기 드리프트층의 상면 및 상기 제 1 금속층과 접하는 도전층들을 더 포함하되,상기 도전층들은 상기 제 2 금속층들 사이에 배치되는 쇼트키 다이오드
13 13
제 10 항에 있어서,상기 트렌치들의 측벽은 상기 트렌치들의 바닥면에 대하여 50 내지 90도의 경사를 갖는 쇼트키 다이오드
14 14
제 13 항에 있어서,상기 도전층들은 상기 드리프트층과 다른 도전형을 갖는 쇼트키 다이오드
15 15
제 14 항에 있어서,상기 도전층들은 제 1 부분 및 상기 제 1 부분 상에 배치되는 제 2 부분을 포함하되,상기 제 2 부분은 상기 제 1 부분보다 도펀트 농도가 더 높은 쇼트키 다이오드
지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US20160284872 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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DOCDB 패밀리 정보가 없습니다
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