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폴리아마이드(PA) 층이 표면에 형성된 분리막에 pH 11 이상의 이산화염소(ClO2)를 10분 내지 3시간 동안 처리하여 폴리아마이드(PA) 막을 제거하는 단계를 포함하는 한외여과막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 이산화염소(ClO2)의 pH가 12 이상인, 한외여과막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 폴리아마이드(PA) 층이 표면에 형성된 분리막이 폴리아마이드(PA) 층, 폴리설폰(PS) 층 및 부직포 층을 포함하고, 표면에 폴리아마이드(PA) 층이 형성된 3층 이상의 다층막인, 한외여과막의 제조방법
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제3항에 있어서,상기 폴리아마이드(PA) 층이 trimesoyl chloride (TMC)계 단량체 및 m-phenylenediamine (MPD) 계 단량체의 공중합체를 포함하는, 한외여과막의 제조방법
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제4항에 있어서,상기 폴리아마이드(PA) 층 상에 친수성 물질이 추가로 코팅된, 한외여과막의 제조방법
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제5항에 있어서,상기 친수성 물질이 폴리비닐 알콜(polyvinyl alcohol) 및 폴리에틸렌 글라이콜 (Polyethylene glycol) 중 어느 하나 이상인, 한외여과막의 제조방법
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제3항에 있어서,상기 폴리아마이드(PA) 층이 폴리설폰 층 상에 계면 합성된, 한외여과막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 이산화염소(ClO2)의 처리 농도가 10~1000ppm인, 한외여과막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 이산화염소(ClO2)의 처리 후, 분리막 표면의 이산화염소(ClO2)를 제거하는 단계를 추가로 포함하는, 한외여과막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 분리막이 역삼투용 분리막 또는 나노여과막인, 한외여과막의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 한외여과막이 전량여과(Dead-end type)용 또는 교차흐름여과(Cross-flow type)용인, 한외여과막의 제조방법
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제12항에 있어서,상기 한외여과막이 전량여과(Dead-end type)시의 Normalized flux(이산화 염소 노출 후 분리막의 flux/ 이산화 염소 노출 전 분리막의 flux)가 6 이상인, 한외여과막의 제조방법
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제13항에 있어서,상기 Normalized flux가 8 이상인, 한외여과막의 제조방법
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제12항에 있어서,상기 한외여과막이 교차흐름여과(Cross-flow type)시의 제거율(rejection)이 20% 이하인, 한외여과막의 제조방법
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