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저유전 특성을 갖는 실록산 수지, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 경화 조성물(Low Dielectric Constant Siloxane Resin, Processes for Production thereof and Curable composition comprising thereof)

  • 기술번호 : KST2016017634
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 저유전 특성을 갖는 실록산 수지, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 경화 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 인쇄회로기판에 사용되는 동박적층판이나 전자부품에 사용되는 밀봉재, 성형재, 주형재, 접착제, 전기절연도료용 재료 등에 요구되는 물성을 만족하면서, 저 유전특성을 균형 있게 구현할 수 있는 저유전 특성을 갖는 저유전 특성을 갖는 실록산 수지, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 경화 조성물을 제공한다.
Int. CL C08G 77/08 (2006.01.01) C08L 83/04 (2006.01.01)
CPC C08G 77/08(2013.01) C08G 77/08(2013.01) C08G 77/08(2013.01) C08G 77/08(2013.01) C08G 77/08(2013.01)
출원번호/일자 1020150045640 (2015.03.31)
출원인 코오롱인더스트리 주식회사, 한국과학기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2016-0117053 (2016.10.10) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2019.12.02)
심사청구항수 20

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 코오롱인더스트리 주식회사 대한민국 서울특별시 강서구
2 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이제민 대한민국 경기도 용인시 기흥구
2 박준효 대한민국 경기도 용인시 기흥구
3 공원석 대한민국 경기도 용인시 기흥구
4 배병수 대한민국 대전광역시 유성구
5 김용호 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 리앤목특허법인 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, *층, **층, **층, **층(도곡동, 대림아크로텔)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2015.03.31 수리 (Accepted) 1-1-2015-0317182-57
2 보정요구서
Request for Amendment
2015.04.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2015-0068818-16
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2015.04.23 수리 (Accepted) 1-1-2015-0394267-78
4 [출원인변경]권리관계변경신고서
[Change of Applicant] Report on Change of Proprietary Status
2015.05.28 수리 (Accepted) 1-1-2015-0515879-50
5 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2015.06.05 수리 (Accepted) 1-1-2015-0544995-17
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2016.10.10 수리 (Accepted) 4-1-2016-5143745-92
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.05.09 수리 (Accepted) 4-1-2018-5082506-02
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.05.09 수리 (Accepted) 4-1-2018-5082180-11
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.02.28 수리 (Accepted) 4-1-2019-0019282-09
10 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2019.04.08 수리 (Accepted) 1-1-2019-0358128-45
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
12 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2019.11.14 불수리 (Non-acceptance) 1-1-2019-1167426-45
13 서류반려이유통지서
Notice of Reason for Return of Document
2019.11.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2019-0185084-15
14 [반려요청]서류반려요청(반환신청)서
[Request for Return] Request for Return of Document
2019.11.21 수리 (Accepted) 1-1-2019-1196206-87
15 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2019.12.02 수리 (Accepted) 1-1-2019-1243171-69
16 서류반려통지서
Notice for Return of Document
2020.01.03 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2020-0001516-92
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.01.28 수리 (Accepted) 4-1-2020-5018903-38
18 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2020.03.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
19 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2020.04.16 수리 (Accepted) 1-1-2020-0393638-08
20 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2020.05.14 수리 (Accepted) 9-1-2020-0019497-37
21 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
22 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
23 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2020.10.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0729347-00
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번호 청구항
1 1
알케닐기를 가지는 알콕시 실란과 메틸기를 가지는 알콕시 실란을 혼합하여 알콕시 실란 혼합물을 제조하는 단계(S1);상기 제조된 알콕시 실란 혼합물에 염기 촉매 또는 산 촉매를 첨가한 후, 축합반응시키는 단계(S2)를 포함하는 실록산 수지의 제조방법
2 2
제1항에 있어서, 상기 S1 단계에서, 상기 알케닐기를 가지는 알콕시 실란과 메틸기를 가지는 알콕시 실란은 1:0
3 3
제1항에 있어서, 상기 S1 단계에서, 상기 알케닐기를 가지는 알콕시 실란은 비닐트리메톡시실란, 비닐메틸디메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐메틸디에톡시실란, 비닐페닐디메톡시실란, 비닐페닐디에톡시실란 및 알릴트리메톡시실란 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 실록산 수지의 제조방법
4 4
제1항에 있어서, 상기 S1 단계에서, 상기 메틸기를 가지는 알콕시 실란은 디메틸디메톡시실란 및 디메틸디에톡시실란, 메틸트리메톡시실란 및 메틸트리에톡시실란 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 실록산 수지의 제조방법
5 5
제1항에 있어서, 상기 S2 단계에서, 상기 염기 촉매 또는 산 촉매는 상기 알케닐기를 가지는 알콕시 실란 1몰에 대하여 0
6 6
제1항에 있어서, 상기 S2 단계에서, 상기 염기 촉매는 수산화나트륨, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 및 수산화리튬 중에서 선택되는 알칼리 금속 화합물, 수산화바륨일수화물, 수산화바륨팔수화물, 수산화칼슘 및 수산화마그네슘 중에서 선택되는 알칼리 토금속 화합물, 테트라알킬암모늄실라놀레이트, 테트라알킬암모늄실라놀레이트, 테트라에틸암모늄하이드록사이드, 테트라메틸암모늄클로라이드 및 테트라부틸암모늄 불화물 4급 암모늄 화합물, 암모니아, 아민 화합물 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 실록산 수지의 제조방법
7 7
제1항에 있어서, 상기 S2 단계에서, 상기 산 촉매는 염산, 황산, 질산, 개미산, 아세트산, 톨루엔설폰산 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 실록산 수지의 제조방법
8 8
제1항에 있어서, 상기 S2 단계에서, 축합반응은 50 내지 100℃에서 1 내지 3 시간 동안 환류(reflux)하면서 교반시켜 실시하는 것을 특징으로 하는 실록산 수지의 제조방법
9 9
제1항에 있어서, 상기 S2 단계 후, 질소 분위기 하에서 60 내지 120℃에서 3 내지 6 시간 동안 교반시키는 단계(S2-1)를 실시하는 것을 특징으로 하는 실록산 수지의 제조방법
10 10
제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 따라 제조된 실록산 수지
11 11
제10항에 있어서, 상기 실록산 수지는 수평균분자량(Mn)이 500 내지 5000g/mol인 것을 특징으로 하는 실록산 수지
12 12
제10항에 있어서, 상기 실록산 수지는 중량평균분자량(Mw)이 2000 내지 20000g/mol인 것을 특징으로 하는 실록산 수지
13 13
제10항에 있어서, 상기 실록산 수지는 Z-평균분자량(Mz)이 5000 내지 80000g/mol인 것을 특징으로 하는 실록산 수지
14 14
제10항에 있어서, 상기 실록산 수지는 비닐(vinyl) 당량이 190 내지 500g/eq인 것을 특징으로 하는 실록산 수지
15 15
제10항에 따른 실록산 수지, 경화제 및 첨가제를 포함하는 경화 조성물
16 16
제15항에 있어서, 상기 경화제는 디큐밀퍼옥사이드, 2,5-비스(tert-부틸퍼옥시)-2,5-디메틸헥산, 2,5-디메틸-2,5-디(tert-부틸퍼옥시)헥사인-3, 디-(2,4-염화벤조일)-퍼옥사이드, 벤조일퍼옥사이드, tert-부틸 퍼옥시벤조산나트륨, 부틸4,4-비스(삼차부틸디옥시)발레르산, 1,1-디-(tert-부틸퍼옥시)-3,3,5-트리메틸사이클로헥산, 디-(2- tert-부틸퍼옥시이소프로필)-벤젠, tert-부틸큐밀퍼옥사이드, 2,5-디메틸-2,5-디-(tert-부틸퍼옥시)-헥산, 디 ditert-부틸퍼옥사이드 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 경화 조성물
17 17
제15항에 있어서, 상기 첨가제는 트리알릴이소시아누레이트, 트리메탈릴이소시아누레이트, 트리스-(2,3디브로모프로필)이소시아누레이트, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 경화 조성물
18 18
제15항에 있어서, 상기 실록산 수지 100 중량부에 대하여 상기 경화제를 0
19 19
제15항에 있어서, 상기 경화 조성물은 1GHz에서의 유전율이 3
20 20
제15항에 따른 경화 조성물로 제조된 경화물
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.