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비표지식 센서 및 이의 제조방법(Label-free Sensor and Method for Manufacture thereof)

  • 기술번호 : KST2016017636
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 일면에 홈이 형성된 기판; 및 홈의 상부에 부유하여 위치하며 복수개의 관통홀이 구비되어 자기공명을 갖는 전 유전체 메타물질층;을 포함하는 비표지식 센서에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 a) 기판의 일면에 고굴절률 유전체층을 형성하는 단계; b) 고굴절률 유전체층 상에 패턴화된 레지스트막을 형성하는 단계; c) 패턴화된 레지스트막을 마스크로 하여 고굴절률 유전체층에 관통홀을 형성하여 메타물질층을 형성하는 단계; d) 레지스트막을 제거하는 단계; e) 기판의 일부분을 식각하여 관통홀의 하부에 홈을 형성하는 단계;를 포함하는 비표지식 센서의 제조방법에 관한 것이다.
Int. CL G01N 21/552 (2014.01) G01N 15/06 (2006.01) G01R 33/20 (2006.01)
CPC G01N 21/553(2013.01) G01N 21/553(2013.01) G01N 21/553(2013.01)
출원번호/일자 1020150045868 (2015.04.01)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2016-0117885 (2016.10.11) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2015.04.01)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정기훈 대한민국 대전광역시 유성구
2 박상길 대한민국 대전광역시 유성구
3 이영섭 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 플러스 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2015.04.01 수리 (Accepted) 1-1-2015-0318045-89
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2015.12.08 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2016.02.03 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2016-0016845-42
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2016.02.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0124864-97
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.04.07 수리 (Accepted) 1-1-2016-0335481-50
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2016.04.07 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0335476-21
7 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2016.04.08 수리 (Accepted) 1-1-2016-0338922-19
8 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2016.08.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0620071-09
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2016.10.20 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-1017186-49
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.10.20 수리 (Accepted) 1-1-2016-1017213-95
11 등록결정서
Decision to grant
2017.03.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0174264-53
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
일면에 홈이 형성된 기판; 및상기 홈의 상부에 부유하여 위치하며 복수개의 관통홀이 구비되어 자기공명을 갖는 전 유전체 메타물질층;을 포함하며, 상기 관통홀의 직경은 하기 관계식 2를 만족하고, 관통홀의 간격은 하기 관계식 3을 만족하며, 상기 메타물질층의 두께는 하기 관계식 1을 만족하되, I 003e# D인 비표지식 자기공명 센서
2 2
제 1항에 있어서,상기 메타물질층은 복수개의 관통홀이 구비된 고굴절률 소재인 비표지식 자기공명 센서
3 3
제 2항에 있어서,상기 고굴절률 소재는 실리콘인 비표지식 자기공명 센서
4 4
삭제
5 5
삭제
6 6
삭제
7 7
제 1항에 있어서,상기 홈의 기저와 상기 메타물질층 간 이격 거리는 400 ㎚ 이상인 비표지식 자기공명 센서
8 8
a) 기판의 일면에 고굴절률 유전체층을 형성하는 단계;b) 상기 고굴절률 유전체층 상에 패턴화된 레지스트막을 형성하는 단계;c) 상기 패턴화된 레지스트막을 마스크로 하여 상기 고굴절률 유전체층에 관통홀을 형성하여 메타물질층을 형성하는 단계;d) 상기 레지스트막을 제거하는 단계;e) 상기 기판의 일부분을 식각하여 상기 관통홀의 하부에 홈을 형성하는 단계;를 포함하며, 상기 관통홀의 직경은 하기 관계식 2를 만족하고, 관통홀의 간격은 하기 관계식 3을 만족하며, 상기 메타물질층의 두께는 하기 관계식 1을 만족하되, I 003e# D인 비표지식 자기공명 센서의 제조방법
9 9
삭제
10 10
삭제
11 11
삭제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 한국과학기술원 국가그린나노기술개발사업 메타렌즈어레이기반 대면적 고속 나노리소그래피 플랫폼 개발
2 미래창조과학부 고려대학교 글로벌프론티어사업 다차원 내시현미경센서 시스템
3 보건복지부 한국과학기술원 미래융합의료기기사업 초소형 광학생검용 현미내시경 프루브 및 다기능 광학이미징 시스템 및 마이크로광학기술 개발