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MFMIS형 전계효과 트랜지스터의 제조방법을 수행하기 위하여 디지털 처리 장치에 의해 실행될 수 있는 명령어들의 프로그램이 유형적으로 구현되어 있고, 상기 디지털 처리 장치에 의해 판독될 수 있는 기록매체에 있어서,상기 MFMIS형 전계효과 트랜지스터의 제조방법은,기판에 소스 및 드레인 영역을 형성하는 단계;상기 소스 및 드레인 영역 사이에 채널영역을 형성하는 단계;상기 채널영역 상측에 절연층을 형성하는 단계;상기 절연층 상에 데이터 전극층을 형성하는 단계;상기 데이터 전극층 상에 강유전체층을 형성하는 단계; 및상기 강유전체층 상에 접지 전극층을 형성하는 단계;를 포함하되, 상기 강유전체층 형성단계는,PVDF와 아조벤젠을 중합하여 PVDF-아조벤젠 폴리머 용액을 제조하는 제 1 단계;상기 PVDF-아조벤젠 폴리머 용액을 기판 상에 도포하는 제 2 단계;상기 PVDF-아조벤젠 폴리머 용액의 용매를 증발시켜 PVDF-아조벤젠 폴리머 필름을 형성하는 제 3 단계; 및상기 기판을 상기 PVDF-아조벤젠 폴리머 필름으로부터 분리하는 제 4 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 기록매체
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전계효과 트랜지스터를 제조하는 방법에 있어서,기판에 소스 및 드레인 영역을 형성하는 단계;,상기 소스 및 드레인 영역 사이에 채널영역을 형성하는 단계;상기 채널영역 상측에 절연층을 형성하는 단계;상기 절연층 상에 데이터 전극층을 형성하는 단계;상기 데이터 전극층 상에 강유전체층을 형성하는 단계; 및상기 강유전체층 상에 접지 전극층을 형성하는 단계;를 포함하되, 상기 강유전체층 형성단계는,PVDF와 아조벤젠을 중합하여 PVDF-아조벤젠 폴리머 용액을 제조하는 제 1 단계;상기 PVDF-아조벤젠 폴리머 용액을 기판 상에 도포하는 제 2 단계;상기 PVDF-아조벤젠 폴리머 용액의 용매를 증발시켜 PVDF-아조벤젠 폴리머 필름을 형성하는 제 3 단계; 및상기 기판을 상기 PVDF-아조벤젠 폴리머 필름으로부터 분리하는 제 4 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 MFMIS형 전계효과 트랜지스터의 제조방법
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제 13항에 있어서,제 1 단계는,PVDF 용액과 아조벤젠 용액을 혼합하는 방법, PVDF 용액에 아조벤젠을 분산시키는 방법 및 아조벤젠 용액에 PVDF를 분산시키는 방법 중 어느 하나의 방법을 사용하는 것을 특징으로 하는 MFMIS형 전계효과 트랜지스터의 제조방법
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제 14 항에 있어서,상기 PVDF 용액의 용매는 MIBK (methyl isobutyl ketone), MEK (methyl ethyl ketone),NMP(N-Methyl-2-pyrrolidone), DMF (dimethylformamide) 및 DME(dimethyl ether) 중 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 MFMIS형 전계효과 트랜지스터의 제조방법
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제 14 항에 있어서,상기 아조벤젠 용액의 용매는, 극성 용매인 것을 특징으로 하는 MFMIS형 전계효과 트랜지스터의 제조방법
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제 16 항에 있어서,상기 아조벤젠 용액의 용매는, 에틸아세테이트, THF(Tetrahydrofuran), 부틸 알콜(butyl alcohol), IPA(isopropyl antipyrine), 아세톤(acetone) 및 아세토니트릴(acetonitrile) 중 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 MFMIS형 전계효과 트랜지스터의 제조방법
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제 13 항에 있어서,상기 제 1 단계는,상기 PVDF-아조벤젠 폴리머 용액에 탄소나노튜브(CNT)를 분산시키는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 MFMIS형 전계효과 트랜지스터의 제조방법
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제 18 항에 있어서,상기 탄소나노튜브는 상기 PVDF-아조벤젠 폴리머 용액에 대하여 0
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제 13 항에 있어서,상기 제 1 단계는,상기 PVDF-아조벤젠 폴리머 용액에 메탈 파티클을 분산시키는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 MFMIS형 전계효과 트랜지스터의 제조방법
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제 13 항에 있어서,상기 제 1 단계 후,상기 PVDF-아조벤젠 폴리머 용액에 가시광선을 조사하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 MFMIS형 전계효과 트랜지스터의 제조방법
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제 13 항에 있어서,제 2 단계에서,어플리케이터를 사용하는 방법, 바코터를 사용하는 방법 및 스핀 코팅 방법 중 적어도 하나의 방법을 사용하는 것을 특징으로 하는 MFMIS형 전계효과 트랜지스터의 제조방법
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제 13 항에 있어서,상기 기판은 친수성 코팅 처리된 재질로 이루어진 것을 특징으로 하는 MFMIS형 전계효과 트랜지스터의 제조방법
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제 23 항에 있어서,상기 기판은 유리 또는 폴리머로 이루어진 것을 특징으로 하는 MFMIS형 전계효과 트랜지스터의 제조방법
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제 13 항에 있어서,상기 제 3 단계에서,상기 PVDF-아조벤젠 폴리머 용액 위로 기체의 유동을 만들어 상기 용매의 균일한 휘발을 유도하는 것을 특징으로 하는 MFMIS형 전계효과 트랜지스터의 제조방법
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제 25 항에 있어서,상기 기체는 불활성 기체인 것을 특징으로 하는 MFMIS형 전계효과 트랜지스터의 제조방법
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제 13 항에 있어서,상기 제 3 단계 후,상기 PVDF-아조벤젠 폴리머 필름에 지지막을 접합하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 MFMIS형 전계효과 트랜지스터의 제조방법
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제 27 항에 있어서,상기 지지막은 실리콘 일래스토머(silicone elastomer) 및 PDMS(polydimethylsiloxane) 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 MFMIS형 전계효과 트랜지스터의 제조방법
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제 28 항에 있어서,상기 지지막은 PET(polyethylene terephthalate) 필름 상에 실리콘 일래스토머(silicone elastomer) 및 PDMS(polydimethylsiloxane) 중 적어도 하나를 코팅하여 형성되는 것을 특징으로 하는 MFMIS형 전계효과 트랜지스터의 제조방법
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제 13 항에 있어서,상기 제 4 단계 전,상기 PVDF-아조벤젠 폴리머 필름과 상기 기판 사이의 접착력을 약화시키는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 MFMIS형 전계효과 트랜지스터의 제조방법
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제 30 항에 있어서,상기 PVDF-아조벤젠 폴리머 필름과 상기 기판 사이의 접착력을 약화시키는 단계에서,상기 기판과 상기 PVDF-아조벤젠 폴리머 필름에 습윤 환경을 제공하는 것을 특징으로 하는 MFMIS형 전계효과 트랜지스터의 제조방법
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제 31 항에 있어서,상기 습윤 환경은 물, 증류수(distilled water), 탈이온수(deionized water) 또는 IPA(isopropyl alcohol)을 사용하는 것을 특징으로 하는 MFMIS형 전계효과 트랜지스터의 제조방법
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제 13 항에 있어서,상기 제 4 단계 후,풀림(annealing) 공정을 더 수행하는 것을 특징으로 하는 MFMIS형 전계효과 트랜지스터의 제조방법
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제 13 항에 있어서,상기 제 4 단계 후,폴링(electrical poling) 공정을 더 수행하는 것을 특징으로 하는 MFMIS형 전계효과 트랜지스터의 제조방법
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