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표면에 복수 개의 나노세공이 형성된 스테인리스 스틸 기재; 및 상기 나노세공에 담지된 금속 나노입자를 포함하고,상기 스테인리스 스틸 기재 및 금속 나노입자가 촉매인 것을 특징으로 하는 하폐수 처리용 촉매
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제1항에 있어서, 상기 금속 나노입자는 은 나노입자 및 티타늄 나노입자를 포함하는 비철금속으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나 이상의 나노입자인 것을 특징으로 하는 하폐수 처리용 촉매
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제1항에 있어서, 상기 나노세공은 평균 직경 70 nm 내지 90 nm 및 평균 깊이 20 nm 내지 100 nm를 갖는 것을 특징으로 하는 하폐수 처리용 촉매
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제1항에 있어서, 상기 나노세공은 상기 스테인리스 스틸 기재의 단위 표면적 1 μm2 당 160개 내지 200개 형성된 것을 특징으로 하는 하폐수 처리용 촉매
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제1항에 있어서, 상기 금속 나노입자는 평균 직경 15 nm 내지 50 nm의 구형 나노입자인 것을 특징으로 하는 하폐수 처리용 촉매
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제1항에 있어서, 상기 나노세공의 평균 직경:상기 나노입자의 평균 직경의 비율은 2:1 내지 5:1인 것을 특징으로 하는 하폐수 처리용 촉매
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제1항에 있어서, 상기 나노세공의 평균 직경:상기 나노세공의 깊이의 비율은 3:1 내지 1:1인 것을 특징으로 하는 하폐수 처리용 촉매
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양극산화법에 의해서 스테인리스 스틸 기재의 표면에 복수 개의 나노세공을 형성하는 단계; 및화학적 환원법 또는 광화학적 환원법에 의해서 상기 나노세공 내에 금속 나노입자를 침지시키는 단계를 포함하는 하폐수 처리용 촉매의 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 양극산화법은 5 ℃ 내지 9 ℃의 온도에서, 20 V 내지 60 V의 전압 및 0
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제8항에 있어서, 상기 화학적 환원법은 금속염 및 산을 첨가한 수용액에 상기 스테인리스 스틸 기재를 침지시킨 후, 환원제를 첨가함으로써 수행되는 것을 특징으로 하는 하폐수 처리용 촉매의 제조방법
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제10항에 있어서, 상기 금속염은 AgNO3, TiCl3 및 TiCl4를 포함하는 비금속의 수용성 음이온염이고, 상기 산은 구연산나트륨 및 갈산을 포함하는 수산화기 또는 카르복실기를 포함하는 하나 이상의 산이며, 상기 환원제는 수산화나트륨 및 수소화붕소나트륨을 포함하는 하나 이상의 강염기성 환원제인 것을 특징으로 하는 하폐수 처리용 촉매의 제조방법
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제10항에 있어서, 상기 금속염은 0
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제10항에 있어서, 상기 스테인리스 스틸 기재의 침지 시간은 1 시간 이하인 것을 특징으로 하는 하폐수 처리용 촉매의 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 광화학적 환원법은 암상태 진공조건 하에서 금속염 및 산을 첨가한 수용액에 상기 스테인리스 스틸 기재를 침지시킨 후, 증류수 및 질소 가스로 세척하고, UV-C 광을 조사함으로써 수행되는 것을 특징으로 하는 하폐수 처리용 촉매의 제조방법
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제14항에 있어서, 상기 금속염은 AgNO3, TiCl3 및 TiCl4를 포함하는 비금속의 수용성 음이온염인 것을 특징으로 하는 하폐수 처리용 촉매의 제조방법
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제14항에 있어서, 상기 금속염을 0
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제14항에 있어서, 상기 스테인리스 스틸 기재의 침지 시간은 6 시간 내지 12 시간이고, 상기 UV-C 광의 조사 시간은 0
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오존 반응기 및 자외선 발생기를 포함하는 고도산화처리 방식의 하폐수 처리 장치로서, 상기 오존 반응기 내부에 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 따른 하폐수 처리용 촉매를 포함하는 것을 특징으로 하는 하폐수 처리 장치
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