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시클로헥산온으로부터 산화적 헥/탈수소화 반응에 의한 메타 위치가 치환된 페놀 유도체의 제조방법에 있어서, (A) 0
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제 1 항에 있어서,상기 (A) 및 (B) 단계에서 산소는 산소 이외의 반응물질과 함께 미세유로로 투입되며, 미세 유로 내에서 액상 반응물질에 의한 액적의 길이가 0
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제 1 항에 있어서,상기 (A) 및 (B) 단계에서 산소는 상기 미세유로와 가스 투과성 재질의 경계면을 갖는 별도의 채널로부터 상기 경계면을 통하여 공급되는 것을 특징으로 하는 메타 위치가 치환된 페놀 유도체의 제조방법
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제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 공급되는 산소의 산소압이 1
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제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 (A) 단계의 반응은 60~130℃에서 이루어지며,상기 (B) 단계의 반응은 100~130℃에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 메타 위치가 치환된 페놀 유도체의 제조방법
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제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 팔라듐 촉매로는 Pd(CH3CN)4(BF4)2를 6,6'-dimethyl-2,2'-bipyridyl과 함께 사용하는 것을 특징으로 하는 메타 위치가 치환된 페놀 유도체의 제조방법
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