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미세유로에서의 산화적 헥/탈수소화 반응에 의한 메타 치환 페놀의 합성 방법(Preparation Method for Meta-Substituted Phenol by Oxidative Heck/Dehydrogenation in Microchannel)

  • 기술번호 : KST2016018122
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 메타-치환된 페놀의 제조에 유용하지만 반응속도가 너무 느려 실제 생산에의 적용이 어려운 산화적 헥/탈수소화 반응을 효율적으로 진행시킬 수 있는 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 시클로헥산온으로부터 산화적 헥/탈수소화 반응에 의한 메타 위치가 치환된 페놀 유도체의 제조방법에 있어서, (A) 0.1~4.0mm 폭의 미세유로에 시클로헥산온과 보론산 유도체, 팔라듐 촉매 및 산소를 투입하면서 반응시키고, (B) 상기 반응 혼합물을 포함하는 0.1~4.0mm 폭의 미세유로에 산소를 계속적으로 공급하면서 테트라플루오로아세트산(TFA)을 추가로 가하여 연속적으로 반응시키는 것을 특징으로 하는 메타 위치가 치환된 페놀 유도체의 제조방법에 관한 것이다.
Int. CL C07C 29/50 (2006.01.01) C07C 29/156 (2006.01.01) C07C 39/04 (2006.01.01) C07C 39/06 (2006.01.01)
CPC C07C 29/50(2013.01) C07C 29/50(2013.01) C07C 29/50(2013.01) C07C 29/50(2013.01)
출원번호/일자 1020150050312 (2015.04.09)
출원인 충남대학교산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2016-0120989 (2016.10.19) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2020.01.30)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 충남대학교산학협력단 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박찬필 대한민국 대전광역시 유성구
2 박정현 대한민국 충청북도 진천군

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김원준 대한민국 대전광역시 서구 둔산대로***번길 **, 골드벤처타워***호 타임국제특허법률사무소 (만년동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2015.04.09 수리 (Accepted) 1-1-2015-0348136-83
2 보정요구서
Request for Amendment
2015.04.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2015-0072095-41
3 [출원서등 보정]보정서(납부자번호)
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment(Payer number)
2015.04.29 수리 (Accepted) 1-1-2015-0379224-18
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.09.01 수리 (Accepted) 4-1-2015-5116889-90
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.09.01 수리 (Accepted) 4-1-2015-5116888-44
6 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2020.01.30 수리 (Accepted) 1-1-2020-0101586-07
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번호 청구항
1 1
시클로헥산온으로부터 산화적 헥/탈수소화 반응에 의한 메타 위치가 치환된 페놀 유도체의 제조방법에 있어서, (A) 0
2 2
제 1 항에 있어서,상기 (A) 및 (B) 단계에서 산소는 산소 이외의 반응물질과 함께 미세유로로 투입되며, 미세 유로 내에서 액상 반응물질에 의한 액적의 길이가 0
3 3
제 1 항에 있어서,상기 (A) 및 (B) 단계에서 산소는 상기 미세유로와 가스 투과성 재질의 경계면을 갖는 별도의 채널로부터 상기 경계면을 통하여 공급되는 것을 특징으로 하는 메타 위치가 치환된 페놀 유도체의 제조방법
4 4
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 공급되는 산소의 산소압이 1
5 5
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 (A) 단계의 반응은 60~130℃에서 이루어지며,상기 (B) 단계의 반응은 100~130℃에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 메타 위치가 치환된 페놀 유도체의 제조방법
6 6
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 팔라듐 촉매로는 Pd(CH3CN)4(BF4)2를 6,6'-dimethyl-2,2'-bipyridyl과 함께 사용하는 것을 특징으로 하는 메타 위치가 치환된 페놀 유도체의 제조방법
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패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 충남대학교 일반연구자(신진연구)지원사업 미세유체소자 기반 그래핀 연구