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시료 및 탐침의 위치를 확인하는 광학 현미경;상기 시료에 전압을 인가하고 DNA를 주입하는 제1 탐침 및 제2 탐침;상기 제1 탐침 및 상기 제2 탐침을 각각 고정하는 제1 탐침 홀더 및 제2 탐침홀더; 및상기 제1 탐침 및 상기 제2 탐침에 전류를 인가하는 전류 제어기를 포함하고,상기 제2 탐침 홀더는, 상기 제1 탐침 및 상기 제2 탐침에 인가되는 전류와, 상기 제1 탐침 및 상기 제2 탐침을 상기 시료에 접근시키는 중에 상기 전류 제어기에 모니터링된 이온 전류에 따라 상기 시료와 상기 제2 탐침 사이의 거리를 일정하게 유지하는 전기 천공장치
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청구항 1에 있어서,상기 제2 탐침은 전극이 코팅된 유리 피펫 탐침인 것을 특징으로 하는 전기 천공장치
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청구항 1에 있어서,상기 전류 제어기는 상기 제1 탐침 및 상기 제2 탐침에 5 볼트(V) 이하의 저전압 펄스를 인가하는 것을 특징으로 하는 전기 천공장치
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청구항 1에 있어서,상기 제1 탐침은 주사 탐침 현미경(SPM)의 주사 탐침인 것을 특징으로 하는 전기 천공장치
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시료 및 탐침의 위치를 확인하는 광학 현미경, 상기 시료에 전압을 인가하고 DNA를 주입하는 제1 탐침 및 제2 탐침; 상기 제1 탐침 및 상기 제2 탐침을 각각 고정하는 제1 탐침 홀더 및 제2 탐침홀더; 및 상기 제1 탐침 및 상기 제2 탐침에 전류를 인가하는 전류 제어기를 포함하는 전기 천공장치를 이용한 전기 천공 방법에 있어서,(a) 광학 현미경으로 시료 및 탐침의 위치를 확인하는 단계;(b) 상기 제1 탐침 및 상기 제2 탐침에 전압을 인가하는 단계;(c) 상기 제1 탐침 및 상기 제2 탐침에 인가되는 전류와, 상기 제1 탐침 및 상기 제2 탐침을 상기 시료에 접근시키는 중에 상기 전류 제어기에 모니터링된 이온 전류에 따라 상기 제2 탐침 홀더를 조절하여 시료와 상기 제2 탐침 사이의 거리를 일정하게 유지하는 단계; 및(d) 시료 표면에 생성된 천공에 DNA를 주입하는 단계를 포함하는 전기 천공 방법
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청구항 6에 있어서,상기 전류 제어기는 상기 제1 탐침 및 상기 제2 탐침에 5 볼트(V) 이하의 저전압 펄스를 인가하는 것을 특징으로 하는 전기 천공 방법
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청구항 6에 있어서,상기 제2 탐침은 전극이 코팅된 유리 피펫 탐침인 것을 특징으로 하는 전기 천공 방법
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청구항 6에 있어서,상기 제1 탐침은 주사 탐침 현미경(SPM)의 주사 탐침인 것을 특징으로 하는 전기 천공 방법
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