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접지된 액상 매질을 수용하는 케이스;관형부와, 상기 관형부의 일단에 연결되며 개구를 형성하는 소구경부를 포함하고, 상기 소구경부의 전체와 상기 관형부의 적어도 일부가 상기 액상 매질과 접하도록 상기 케이스에 설치된 유전체; 및상기 소구경부와 거리를 두고 상기 관형부의 내부에 고정되고, 기체를 상기 액상 매질로 투입하기 위한 기체 주입구와 접하며, 전원부와 전기적으로 연결된 구동 전극을 포함하며,상기 개구의 직경은 상기 기체 주입구의 직경보다 작은 플라즈마 발생 장치
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제1항에 있어서,상기 구동 전극은 상기 관형부의 내면과 접하는 금속 튜브로 구성되며, 그 내부에 상기 기체 주입구를 형성하는 플라즈마 발생 장치
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제1항에 있어서,상기 구동 전극은 금속 튜브로 구성되어 그 내부에 상기 기체 주입구를 형성하고, 상기 관형부와 이격되어 상기 관형부와의 사이에 외장 기체 주입구를 형성하는 플라즈마 발생 장치
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제4항에 있어서,상기 외장 기체 주입구에 비활성 기체를 포함하는 외장 기체가 투입되며,상기 외장 기체의 유속은 상기 기체 주입구를 흐르는 기체의 유속보다 빠른 플라즈마 발생 장치
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제1항에 있어서,상기 유전체는 상기 케이스의 바닥판에 설치되고,상기 유전체와 상기 구동 전극의 길이 방향은 지면에 수직한 플라즈마 발생 장치
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제8항에 있어서,상기 유전체와 상기 구동 전극은 복수개로 구비되고, 상기 바닥판에서 적어도 한 방향을 따라 열(array)을 이루며 배치되는 플라즈마 발생 장치
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제1항에 있어서,상기 액상 매질과 접하는 상기 관형부의 외벽에 고정된 접지 전극을 더 포함하는 플라즈마 발생 장치
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제1항에 있어서,상기 전원부는 수 kV 이내 크기의 직류, 교류, 또는 고주파 전압을 상기 구동 전극에 인가하는 플라즈마 발생 장치
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제1항의 플라즈마 발생 장치를 이용한 플라즈마 처리 방법으로서,접지된 액상 매질에 상기 유전체와 상기 구동 전극을 배치하고, 상기 구동 전극의 기체 주입구와 상기 유전체의 개구에 기체를 연속으로 주입하는 단계;상기 유전체의 개구가 상기 기체로 채워질 때 상기 구동 전극과 상기 액상 매질의 전위 차에 의해 상기 기체 내부에 플라즈마를 발생시키는 단계; 및플라즈마 발생 기체를 기포 형태로 상기 액상 매질에 주입하는 단계를 포함하며,상기 기포 내 플라즈마의 화학적 활성종이 상기 액상 매질과 반응하여 상기 액상 매질을 플라즈마 처리하는 플라즈마 처리 방법
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