| 1 |
1
삭제
|
| 2 |
2
삭제
|
| 3 |
3
삭제
|
| 4 |
4
삭제
|
| 5 |
5
삭제
|
| 6 |
6
삭제
|
| 7 |
7
삭제
|
| 8 |
8
삭제
|
| 9 |
9
삭제
|
| 10 |
10
접지된 액상 매질과 촉매를 수용하는 케이스;제1면이 상기 액상 매질과 접하도록 상기 케이스에 설치되며, 기체를 상기 촉매와 상기 액상 매질로 투입하기 위한 제1 개구를 형성하는 판형의 유전체; 및상기 제1면과 반대되는 상기 유전체의 제2면에 고정되고, 상기 제1 개구와 이어진 제2 개구를 형성하며, 전원부와 전기적으로 연결된 판형의 구동 전극을 포함하며,상기 제2 개구는 상기 제1 개구보다 작게 형성되는 플라즈마 발생 장치
|
| 11 |
11
제10항에 있어서,상기 유전체와 상기 구동 전극은 상기 촉매 및 상기 액상 매질의 아래에서 지면과 나란하게 설치되며,상기 유전체는 상기 케이스의 바닥판으로 기능하는 플라즈마 발생 장치
|
| 12 |
12
제10항에 있어서,상기 제1면의 가장자리에 고정되며 상기 액상 매질을 접지시키는 접지 전극을 더 포함하는 플라즈마 발생 장치
|
| 13 |
13
제10항에 있어서,상기 제1 개구와 상기 제2 개구는 복수개로 구비되며, 적어도 한 방향을 따라 열(array)을 이루며 배치되는 플라즈마 발생 장치
|
| 14 |
14
제10항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,상기 전원부는 수 kV 이내 크기의 직류, 교류, 또는 고주파 전압을 상기 구동 전극에 인가하는 플라즈마 발생 장치
|
| 15 |
15
제10항에 있어서,상기 액상 매질은 플라즈마-촉매 반응을 급랭(quenching)시켜 추가 반응을 억제하며,상기 플라즈마-촉매 반응에 의한 중간 생성물은 상기 액상 매질에 용존되는 플라즈마 발생 장치
|
| 16 |
16
제15항에 있어서,상기 중간 생성물이 용존된 상기 액상 매질로부터 상기 중간 생성물을 분리하는 기액 분리기를 더 포함하는 플라즈마 발생 장치
|
| 17 |
17
제10항의 플라즈마 발생 장치를 이용한 플라즈마 처리 방법으로서,접지된 액상 매질과 촉매에 상기 유전체와 상기 구동 전극을 배치하고, 상기 구동 전극의 제2 개구와 상기 유전체의 제1 개구에 기체를 연속으로 주입하는 단계;상기 유전체의 제1 개구가 상기 기체로 채워질 때 상기 구동 전극과 상기 액상 매질의 전위 차에 의해 상기 기체 내부에 플라즈마를 발생시키는 단계;플라즈마 발생 기체를 기포 형태로 분리시켜 상기 촉매와 상기 액상 매질로 주입하고, 플라즈마-촉매 반응에 의한 반응 생성물을 발생시키는 단계; 및상기 액상 매질을 이용하여 상기 플라즈마-촉매 반응을 급랭시킴과 아울러 상기 반응 생성물을 상기 액상 매질에 용존시키는 단계를 포함하는 플라즈마 처리 방법
|
| 18 |
18
제17항에 있어서,기액 분리기를 이용하여 상기 액상 매질과 상기 반응 생성물을 분리시키는 단계를 더 포함하는 플라즈마 처리 방법
|
