| 1 |
1
삭제
|
| 2 |
2
하기 화학식 1a 또는 1b로 표시되는 수직배열(VA) 모드용 비대칭성 하키스틱형 반응성 메소겐 화합물:[화학식 1a][화학식 1b]
|
| 3 |
3
4-(6-(아크릴로일옥시)헥실옥시)벤조산(4-(6-(acryloyloxy)hexyloxy)benzoic acid) 및 3-(3,4,5-트리플루오로페닐 카르복시)페닐 4-[4-(하이드록시)벤조일옥시]벤조에이트(3-(3,4,5-trifluorophenyl carboxy)phenyl 4-[4-(hydroxy)benzoyloxy]benzoate)를 반응시키는 단계를 포함하는 하기 화학식 1a로 표시되는, 수직배열(VA) 모드용 비대칭성 하키스틱형 반응성 메소겐 화합물의 제조방법:[화학식 1a]
|
| 4 |
4
4-(6-(아크릴로일옥시)헥실옥시)벤조산(4-(6-(acryloyloxy)hexyloxy)benzoic acid) 및 3-(2,4,6-트리플루오로페닐 카르복시)페닐 4[4-(하이드록시)벤조일옥시]벤조에이트(3-(2,4,6-trifluorophenyl carboxy)phenyl 4-[4-(hydroxy)benzoyloxy]benzoate)를 반응시키는 단계를 포함하는 하기 화학식 1b로 표시되는, 수직배열(VA) 모드용 비대칭성 하키스틱형 반응성 메소겐 화합물의 제조방법:[화학식 1b]
|
| 5 |
5
제3항 또는 제4항에 있어서,상기 4-(6-(아크릴로일옥시)헥실옥시)벤조산은, 4-하이드록시벤조산(4-hydroxybenzoic acid) 및 6-클로로-1-헥산올(6-chloro-1-hexanol)을 반응시켜 4-(6-하이드록시헥실옥시)벤조산(4-(6-hydroxyhexyloxy)benzoic acid)을 제조하는 단계; 및상기 4-(6-하이드록시헥실옥시)벤조산 및 아크릴산(acrylic acid)을 반응시켜 4-(6-(아크릴로일옥시)헥실옥시)벤조산을 제조하는 단계;로 제조되는 것을 특징으로 하는, 수직배열(VA) 모드용 비대칭성 하키스틱형 반응성 메소겐 화합물의 제조방법
|
| 6 |
6
제3항에 있어서,상기 3-(3,4,5-트리플루오로페닐 카르복시)페닐 4-[4-(하이드록시)벤조일옥시]벤조에이트는, (SA1) 3-하이드록시벤즈알데하이드(3-hydroxybenzaldehyde) 및 4-(벤질옥시)벤조산(4-bezyloxy)benzoic acid)을 반응시켜 3-포밀페닐 4-(벤질옥시)벤조에이트(3-formylphenyl 4-(benzyloxy)benzoate)를 제조하는 단계;(SA2) 상기 3-포밀페닐 4-(벤질옥시)벤조에이트, 레조르시놀(resorcinol), 아염소산나트륨(sodium chlorite) 및 제일인산나트륨 1수화물(sodium phosphate monobasic monohydrate)을 반응시켜 3-카르복시페닐 4-(벤질옥시)벤조에이트(3-carboxyphenyl 4(benzyloxy)benzoate)를 제조하는 단계;(SA3) 상기 3-카르복시페닐 4-(벤질옥시)벤조에이트 및 3,4,5-트리플루오로페놀(3,4,5-trifluorophenol)을 반응시켜 3,4,5-트리플루오로페닐 3-[4-(벤질옥시)벤조일옥시]벤조에이트(3,4,5-trifluorophenyl 3-[4-(benzyloxy]benzoate)를 제조하는 단계;(SA4) 상기 3,4,5-트리플루오로페닐 3-[4-(벤질옥시)벤조일옥시]벤조에이트, Pd-C 및 수소를 반응시켜 3,4,5-트리플루오로페닐 3-[(4-하이드록시)벤조일옥시]벤조에이트(3,4,5-trifluorophenyl 3-[(4-hydroxy)benzoyloxy]benzoate)를 제조하는 단계;(SA5) 상기 3,4,5-트리플루오로페닐 3-[(4-하이드록시)벤조일옥시]벤조에이트 및 4-(벤질옥시)벤조산(4-(benzyloxy)benzoic acid)을 반응시켜 3-(3,4,5-트리플루오로페닐 카르복시)페닐 4-[4-(벤질옥시)벤조일옥시]벤조에이트(3-(3,4,5-trifuorophenyl carboxy)phenyl 4-[4-(benzyloxy)benzoyloxy]benzoate]를 제조하는 단계; 및(SA6) 상기 3-(3,4,5-트리플루오로페닐 카르복시)페닐 4-[4-(벤질옥시)벤조일옥시]벤조에이트, Pd-C 및 수소를 반응시켜 3-(3,4,5-트리플루오로페닐 카르복시)페닐 4-[4-하이드록시)벤조일옥시]벤조에이트를 제조하는 단계;로 제조되는 것을 특징으로 하는, 수직배열(VA) 모드용 비대칭성 하키스틱형 반응성 메소겐 화합물의 제조방법
|
| 7 |
7
제4항에 있어서,상기 3-(2,4,6-트리플루오로페닐 카르복시)페닐 4[4-(하이드록시)벤조일옥시]벤조에이트는, (SB1) 3-하이드록시벤즈알데하이드(3-hydroxybenzaldehyde) 및 4-(벤질옥시)벤조산(4-bezyloxy)benzoic acid)을 반응시켜 3-포밀페닐 4-(벤질옥시)벤조에이트(3-formylphenyl 4-(benzyloxy)benzoate)를 제조하는 단계;(SB2) 상기 3-포밀페닐 4-(벤질옥시)벤조에이트, 레조르시놀(resorcinol), 아염소산나트륨(sodium chlorite) 및 제일인산나트륨 1수화물(sodium phosphate monobasic monohydrate)을 반응시켜 3-카르복시페닐 4-(벤질옥시)벤조에이트(3-carboxyphenyl 4(benzyloxy)benzoate)를 제조하는 단계;(SB3) 상기 3-카르복시페닐 4-(벤질옥시)벤조에이트 및 2,4,6-트리플루오로페놀(2,4,6-trifluorophenol)을 반응시켜 2,4,6-트리플루오로페닐 3-[4-(벤질옥시)벤조일옥시]벤조에이트(2,4,6-trifluorophenyl 3-[4-(benzyloxy]benzoate)를 제조하는 단계;(SB4) 상기 2,4,6-트리플루오로페닐 3-[4-(벤질옥시)벤조일옥시]벤조에이트, Pd-C 및 수소를 반응시켜 2,4,6-트리플루오로페닐 3-[(4-하이드록시)벤조일옥시]벤조에이트(2,4,6-trifluorophenyl 3-[(4-hydroxy)benzoyloxy]benzoate)를 제조하는 단계;(SB5) 상기 2,4,6-트리플루오로페닐 3-[(4-하이드록시)벤조일옥시]벤조에이트 및 4-(벤질옥시)벤조산(4-(benzyloxy)benzoic acid)을 반응시켜 3-(2,4,6-트리플루오로페닐 카르복시)페닐 4-[4-(벤질옥시)벤조일옥시]벤조에이트(3-(2,4,6-trifuorophenyl carboxy)phenyl 4-[4-(benzyloxy)benzoyloxy]benzoate]를 제조하는 단계; 및(SB6) 상기 3-(2,4,6-트리플루오로페닐 카르복시)페닐 4-[4-(벤질옥시)벤조일옥시]벤조에이트, Pd-C 및 수소를 반응시켜 3-(2,4,6-트리플루오로페닐 카르복시)페닐 4-[4-하이드록시)벤조일옥시]벤조에이트를 제조하는 단계;로 제조되는 것을 특징으로 하는, 수직배열(VA) 모드용 비대칭성 하키스틱형 반응성 메소겐 화합물의 제조방법
|
| 8 |
8
삭제
|
| 9 |
9
하기 화학식 1a 또는 1b로 표시되는 비대칭성 하키스틱형 반응성 메소겐 화합물을 포함하는, 수직배열(VA) 모드용 액정 조성물:[화학식 1a][화학식 1b]
|
| 10 |
10
제9항에 있어서,상기 화학식 1a 또는 1b로 표시되는 비대칭성 하키스틱형 반응성 메소겐 화합물은 액정 조성물에 1~10중량%로 포함하는 것을 특징으로 하는, 수직배열(VA) 모드용 액정 조성물
|
| 11 |
11
제9항의 수직배열(VA) 모드용 액정 조성물을 기판 상에 코팅한 뒤 광경화시켜 제조되는 것을 특징으로, 액정 배향 필름
|
| 12 |
12
제11항 기재의 액정 배향 필름을 포함하는 액정표시장치
|
