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중간 챔버가 있는 상압 플라즈마 증착 장치(Atmospheric Pressure Plasma Chemical Vapor Deposition Apparatus with Intermediate Reaction Chamber)

  • 기술번호 : KST2016018837
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 중간 챔버가 있는 상압 플라즈마 증착 장치가 제시된다. 중간 챔버가 있는 상압 플라즈마 증착 장치는 기판; 상기 기판의 상부에 위치하는 다수 개의 샤워헤드 노즐과 내부 챔버를 가지는 샤워헤드; 및 상기 기판과 상기 샤워헤드의 사이 공간에 형성되는 환형 세라믹 패드를 포함하고, 상압 조건에서의 균일 증착을 위해 상기 환형 세라믹 패드에 의해 중간 챔버가 형성된다.
Int. CL C23C 16/455 (2006.01) C23C 16/50 (2006.01) C23C 16/513 (2006.01)
CPC C23C 16/513(2013.01) C23C 16/513(2013.01)
출원번호/일자 1020150056291 (2015.04.22)
출원인 한경대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1687904-0000 (2016.12.13)
공개번호/일자 10-2016-0126108 (2016.11.02) 문서열기
공고번호/일자 (20161229) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2015.04.22)
심사청구항수 2

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한경대학교 산학협력단 대한민국 경기도 안성시

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 백승재 대한민국 경기도 안성시
2 홍승우 대한민국 인천광역시 서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 양성보 대한민국 서울특별시 강남구 선릉로***길 ** (논현동) 삼성빌딩 *층(피앤티특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한경대학교 산학협력단 대한민국 경기도 안성시
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2015.04.22 수리 (Accepted) 1-1-2015-0389257-04
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.09.30 수리 (Accepted) 4-1-2015-5129653-26
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.09.30 수리 (Accepted) 4-1-2015-5129654-72
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2015.10.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2015.12.10 수리 (Accepted) 9-1-2015-0079466-55
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2016.02.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0123557-17
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2016.04.18 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0367118-96
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.04.18 수리 (Accepted) 1-1-2016-0367107-94
9 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2016.08.03 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0559544-72
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.10.04 수리 (Accepted) 1-1-2016-0956612-99
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2016.10.04 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0956613-34
12 등록결정서
Decision to grant
2016.11.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0804090-26
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.06.22 수리 (Accepted) 4-1-2018-5115990-39
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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기판; 상기 기판의 상부에 위치하는 다수 개의 샤워헤드 노즐과 내부 챔버를 가지는 샤워헤드; 및 상기 기판과 상기 샤워헤드의 사이 공간에 형성되는 환형 세라믹 패드를 포함하고, 상압 조건에서의 균일 증착을 위해 상기 환형 세라믹 패드에 의해 중간 챔버가 형성되며, 상기 환형 세라믹 패드는 상기 중간 챔버에서 주 챔버로 가스 흐름을 제어하는 제2 노즐을 포함하고, 상기 환형 세라믹 패드는 상기 기판의 가장자리에 닿도록 배치되어, 상기 기판과 상기 샤워헤드의 사이 공간에 형성되는 상기 내부 챔버를 분리하여 주 챔버 및 상기 중간 챔버를 형성하며, 상기 제2 노즐은 상기 중간 챔버와 상기 주 챔버 사이에 형성되어, 가장자리(Edge)의 유량을 상기 제2 노즐에 집중시켜 가장자리(Edge)의 빠른 유속을 제어하는 것을 특징으로 하는 중간 챔버가 있는 상압 플라즈마 증착 장치
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제4항에 있어서, 상기 중간 챔버의 압력 상승에 의해 증착률을 유지하여 상기 기판의 증착 온도가 감소되어, 상기 샤워헤드에 형성되는 증착을 방지하는 것을 특징으로 하는 중간 챔버가 있는 상압 플라즈마 증착 장치
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패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통상자원부 한경대학교 산학협력단 전자정보디바이스산업원천기술개발사업(반도체공정장비) 상압 플라즈마를 이용한 저온 에피택시 박막 성장 원천기술