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전자기파를 생성하는 광원;광원으로부터 입사되는 전자기파가 피검물로 조사되도록 경로를 변경시키는 경로 변경부;상기 피검물로부터의 전자기파의 세기를 검출하는 검출부; 및상기 광원, 상기 경로 변경부, 상기 베셀 빔 형성부 및 상기 검출부를 내부에 구비한 하우징을 포함하는 검출용 프로브
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제 1 항에 있어서,상기 광원 및 상기 경보 변경부 사이에 형성되는 도파관;상기 광원으로부터 입사되는 전자기파를 상기 도파관의 내부로 입사시키는 커플링 렌즈; 및상기 도파관으로부터 방출된 전자기파를 상기 경로 변경부로 집속시키는 포커싱 렌즈를 더 포함하는 검출용 프로브
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제 1 항에 있어서,상기 경로 변경부를 회전시키거나, 직선으로 이동시키는 경로 변경부용 구동부를 더 포함하는 검출용 프로브
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제 1 항에 있어서,상기 경로 변경부에 의해 경로가 변경된 전자기파를 이용하여 피검물의 적어도 일부분에 베셀 빔이 형성되도록 하는 베셀 빔 형성부를 더 포함하는 검출용 프로브
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제 4 항에 있어서,상기 경로 변경부 및 상기 베셀 빔 형성부는 기계적으로 결합되고, 상기 베셀 빔 형성부는,경로 변경부용 구동부에 의해 상기 경로 변경부가 이동되면, 상기 경로 변경부와 일체로 이동되는 검출용 프로브
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전자기파를 생성하는 광원과, 광원으로부터 입사되는 전자기파가 피검물로 조사되도록 경로를 변경시키는 경로 변경부와, 상기 경로 변경부를 회전시키는 경로 변경부용 구동부와, 상기 피검물로부터의 전자기파의 세기를 검출하는 검출부 및, 상기 광원, 상기 경로 변경부, 상기 경로 변경용 구동부 및, 상기 검출부를 내부에 구비한 하우징을 포함하는 검출용 프로브; 및상기 검출용 프로브를 직선으로 이동시키는 직선 구동부를 포함하는 프로브형 검출 장치
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제 6 항에 있어서,상기 검출용 프로브는,상기 경로 변경부에 의해 경로가 변경된 전자기파를 이용하여 피검물의 적어도 일부분에 베셀 빔이 형성되도록 하는 베셀 빔 형성부를 더 포함하는 프로브형 검출 장치
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제 6 항에 있어서,상기 검출용 프로브는,상기 광원 및 상기 경보 변경부 사이에 형성되는 도파관;상기 광원으로부터 입사되는 전자기파를 상기 도파관의 내부로 입사시키는 커플링 렌즈; 및상기 도파관으로부터 방출된 전자기파를 상기 경로 변경부로 집속시키는 포커싱 렌즈를 더 포함하는 프로브형 검출 장치
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제 5 항에 있어서,상기 경로 변경부 및 상기 베셀 빔 형성부는 기계적으로 결합되고, 상기 베셀 빔 형성부는,상기 경로 변경부용 구동부에 의해 상기 경로 변경부가 이동되면, 상기 경로 변경부와 일체로 이동되는 프로브형 검출 장치
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전자기파를 생성하는 광원과, 피검물로부터의 전자기파의 세기를 검출하는 검출부를 내부에 구비하는 제 1 하우징과, 광원으로부터 입사되는 전자기파가 피검물로 조사되도록 경로를 변경시키는 경로 변경부와, 상기 경로 변경부를 회전시키는 경로 변경부용 구동부를 내부에 구비하는 제 2 하우징을 포함하되, 상기 제 1 하우징은 상기 제 2 하우징을 수용할 수 있는 홈을 구비하고, 홈의 양측면에는 상기 제 2 하우징이 수용된 상태에서 회전할 수 있도록 하는 회전 부재를 포함하고, 상기 제 2 하우징은 상기 회전 부재와 결합되는 결합부를 포함하는 검출용 프로브; 및상기 검출용 프로브를 직선으로 이동시키는 직선 구동부를 포함하는 프로브형 검출 장치
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