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대기용 전자빔 3차원 적층장치(Apparatus for 3D Stacking Electron Beam Gun for Using on atmosphere)

  • 기술번호 : KST2016019343
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 일측면에 따르면, 전자빔이 가속되는 공간을 형성하고, 타측에 가속된 전자빔이 방출되는 방출구가 형성된 본체, 상기 본체 내 일측에 배치되며, 전자를 방출하는 캐소드, 상기 본체 내에서 상기 캐소드로부터 타측으로 이격되어 위치되며, 상기 캐소드로부터 방출된 전자를 가속하는 애노드 및 상기 본체로부터 방출되는 전자빔의 이동경로 상에 구비되어, 방출된 전자빔에 의해 녹여진 대상물을 적층시키는 적층모듈을 포함하는 대기용 전자빔 3차원 적층장치가 개시된다.
Int. CL H01J 37/32 (2006.01) H01J 37/18 (2006.01)
CPC H01J 37/32403(2013.01) H01J 37/32403(2013.01) H01J 37/32403(2013.01) H01J 37/32403(2013.01) H01J 37/32403(2013.01) H01J 37/32403(2013.01)
출원번호/일자 1020150064652 (2015.05.08)
출원인 한국생산기술연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2016-0132270 (2016.11.17) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2015.05.08)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 강은구 대한민국 서울 영등포구
2 김진석 대한민국 경기 안산시 상록구
3 최영재 대한민국 서울 광진구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 임상엽 대한민국 서울특별시 성동구 광나루로 ***, *층 ***호 (성수동*가, 서울숲IT캐슬)(지반특허법률사무소)
2 고영갑 대한민국 경기도 성남시 분당구 정자일로 ***, 파크뷰 타워 ***호 (정자동)(가람특허법률사무소)
3 권정기 대한민국 서울특별시 성동구 광나루로 ***, *층 ***호 (성수동*가, 서울숲IT캐슬)(지반특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2015.05.08 수리 (Accepted) 1-1-2015-0444134-11
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2016.06.21 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2016.07.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2016-0094003-33
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2016.08.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0557444-68
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2016.10.04 수리 (Accepted) 1-1-2016-0957153-12
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2016.11.02 수리 (Accepted) 1-1-2016-1071171-10
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2016.12.02 수리 (Accepted) 1-1-2016-1185531-49
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2017.01.02 수리 (Accepted) 1-1-2017-0003156-18
9 지정기간연장 관련 안내서
Notification for Extension of Designated Period
2017.01.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2017-0002741-33
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2017.02.02 수리 (Accepted) 1-1-2017-0111340-79
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2017.02.02 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-0111350-25
12 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal
2017.04.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0276186-59
13 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2017.06.19 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2017-0583816-92
14 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2017.06.19 수리 (Accepted) 1-1-2017-0583798-57
15 등록결정서
Decision to grant
2017.08.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0603470-04
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.07.02 수리 (Accepted) 4-1-2018-5123030-77
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
전자빔이 가속되는 공간을 형성하고, 타측에 가속된 전자빔이 방출되는 방출구가 형성된 본체;상기 본체 내 일측에 배치되며, 전자를 방출하는 캐소드;상기 본체 내에서 상기 캐소드로부터 타측으로 이격되어 위치되며, 상기 캐소드로부터 방출된 전자를 가속하는 애노드; 및상기 본체로부터 방출되는 전자빔의 이동경로 상에 구비되어, 방출된 전자빔에 의해 녹여진 대상물을 적층시키는 적층모듈;을 포함하며,상기 본체는, 대기압보다 낮고 일정한 압력이 인가되며 가스가 내부에 투입되어 플라즈마 환경이 형성되고, 상기 캐소드와 상기 애노드가 내부에 구비되어 전자빔이 가속되는 공간을 형성하는 저압 하우징; 및상기 저압 하우징과 연통구를 통해 연통되고 상기 저압 하우징에 인가된 압력보다 높고 일정한 압력이 인가되며, 전자빔이 대기로 방출되는 상기 방출구가 상기 연통구로부터 일직선으로 연통되도록 형성된 고압 하우징; 상기 저압 하우징 또는 상기 고압 하우징 중 적어도 하나에 일정한 압력을 인가하여, 상기 저압 하우징 및 상기 고압 하우징이 서로 다른 압력을 갖도록 조절하는 진공펌프;상기 방출구에 구비되는 실드가스 투입부;상기 저압 하우징 또는 상기 고압 하우징에 질소가스 또는 헬륨가스를 투입하여 상기 저압 하우징 또는 상기 고압 하우징의 내부를 플라즈마 환경으로 형성하는 가스조절유닛;을 더 포함하고, 상기 가스조절유닛은,상기 고압 하우징 또는 상기 저압 하우징 중 적어도 어느 하나에 연결되어 내부로 질소가스 또는 헬륨가스를 공급하는 유입부; 및상기 고압 하우징에 구비되어 내부로 유입된 질소가스 또는 헬륨가스가 외부로 배출되도록 하며, 선택적으로 배출여부 및 배출량이 조절되는 배출부;를 포함하며,상기 실드가스 투입부는 상기 가스조절유닛보다 더 상기 방출구 측에 가깝게 형성된 플라즈마 방식의 대기용 전자빔 방출장치
2 2
제1항에 있어서,상기 적층모듈을 기 설정된 값에 따라 이동시켜 적층되는 대상물의 크기 및 형상을 조절하는 제어모듈;을 더 포함하는 플라즈마 방식의 대기용 전자빔 방출장치
3 3
삭제
4 4
삭제
5 5
삭제
6 6
삭제
7 7
제1항에 있어서,상기 가스조절유닛은,상기 고압 하우징 또는 상기 저압 하우징에 구비되어 내부의 압력을 측정하는 기압측정부를 더 포함하는 플라즈마 방식의 대기용 전자빔 방출장치
8 8
삭제
9 9
제1항에 있어서,상기 고압 하우징 내부에 구비되어 상기 애노드로부터 가속된 전자빔을 집속시키는 집속부; 및상기 고압 하우징 내부에 구비되어 상기 애노드로부터 가속된 전자빔의 방출방향을 편향시키는 편향부;를 더 포함하는 플라즈마 방식의 대기용 전자빔 방출장치
10 10
제1항에 있어서,상기 저압 하우징 내측에 배치되며, 상기 저압 하우징과 상기 고압 하우징의 연통지점의 주위로부터 상기 애노드 측으로 연장되도록 형성되고, 상기 연통지점 주위에서 반사된 2차전자 및 산란전자가 상기 저압 하우징 내측으로 반사되는 것을 차단하는 반사전자 차단구조체;를 더 포함하는 플라즈마 방식의 대기용 전자빔 방출장치
11 11
제10항에 있어서,상기 반사전자 차단구조체는,상기 애노드와 상기 연통지점 사이에 배치되며,상기 연통지점으로부터 상기 애노드를 향하여 연장되며, 내부 중공을 가지고 상기 애노드를 향하는 측 및 상기 연통지점을 향하는 측은 개구된 관의 형태로 형성되는 플라즈마 방식의 대기용 전자빔 방출장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통상자원부 한국생산기술연구원 제조기반산업핵심기술개발(R&D) 정밀기계부품 가공용 고밀도 전자빔의 고속 청정 Finishing 공정기술개발