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바닥부 (110)와 복수의 측벽부 (120, 130, 140, 150)로 이루어져 세포 또는 조직이 인장될 수 있는 내부 공간을 형성하며, 일측 측벽부에 자석 (160)이 삽입된 챔버 (100);상기 바닥부 (110)와 접합되어 배치되고, 세포 또는 조직에 인장 자극을 제공하는 인장 자극부 (200); 및상기 자석 (160)이 삽입된 상기 챔버 (100)의 일측 측벽부 (150)와 일정 간격을 두고 배치되어 상기 자석 (160)과 자기장을 형성하는 전자석 (300)을 포함하되,상기 인장 자극부 (200)는 상기 일측 측벽부 (150)의 신축에 따라 세포 또는 조직에 단방향 (Uniaxial)의 인장 자극을 제공하는 것을 특징으로 하는, 세포 또는 조직 인장 미세자극 장치
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제 1항에 있어서,상기 세포 또는 조직 인장 미세자극 장치는 상기 챔버 (100) 및 전자석 (300)을 위치시키는 고정 프레임(400)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 장치
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제 1항에 있어서, 상기 세포 또는 조직 인장 미세자극 장치는 인장력의 세기 또는 주기를 조절하는 전압 컨트롤러 (500)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 장치
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삭제
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제 1항에 있어서, 상기 챔버 (100) 및 인장 자극부 (200)는 폴리디메틸실록산 ( Polydimethylsiloxane, PDMS)으로 이루어지는 것을 특징으로 하는, 장치
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