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규소계 세라믹 표면을 가지는 기재; 및상기 기재 표면에 결정질 지르콘이 코팅된 지르콘 코팅층;을 포함하며,상기 규소계 세라믹 표면의 거칠기는 0
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규소계 세라믹 표면을 가지는 기재;상기 기재 표면에 결정질 지르콘이 코팅된 지르콘 코팅층; 및상기 기재와 지르콘 코팅층 사이에 형성된 산화규소층을 포함하며,상기 산화규소층의 두께는 1 - 1000 nm이며,상기 지르콘 코팅층은 상온진공과립분사법에 의해 형성되는 것인, 결정질 지르콘이 코팅된 규소계 세라믹
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제1항 또는 제2항에 있어서,상기 지르콘 코팅층의 두께는 2 - 20 um인 결정질 지르콘이 코팅된 규소계 세라믹
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제4항에 있어서, 상기 지르콘 코팅층의 두께는 2 - 15 um인 결정질 지르콘이 코팅된 규소계 세라믹
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제4항에 있어서, 상기 지르콘 코팅층의 두께는 2 - 10 um인 결정질 지르콘이 코팅된 규소계 세라믹
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제1항 또는 제2항에 있어서,상기 결정질 지르콘의 평균 입자 크기는 1um 이하인 결정질 지르콘이 코팅된 규소계 세라믹
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제1항 또는 제2항에 있어서,상기 지르콘 코팅층 내의 고형분 (solid content) 중 결정질 지르콘 함량은 70% 이상인 결정질 지르콘이 코팅된 규소계 세라믹
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제8항에 있어서, 상기 지르콘 코팅층 내의 고형분 (solid content) 중 결정질 지르콘 함량은 80% 이상인 결정질 지르콘이 코팅된 규소계 세라믹
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제8항에 있어서, 상기 지르콘 코팅층 내의 고형분 (solid content) 중 결정질 지르콘 함량은 90% 이상인 결정질 지르콘이 코팅된 규소계 세라믹
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제8항에 있어서, 상기 지르콘 코팅층 내의 고형분 (solid content) 중 결정질 지르콘 함량은 95% 이상인 결정질 지르콘이 코팅된 규소계 세라믹
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제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 지르콘 코팅층은 유기물이 포함되지 않은 지르콘이 코팅된 규소계 세라믹
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제2항에 있어서,상기 규소계 세라믹 표면의 거칠기는 0
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제1항 또는 제13항에 있어서,상기 규소계 세라믹 표면의 거칠기는 0
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제1항 또는 제13항에 있어서,상기 규소계 세라믹 표면의 거칠기는 0
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제1항 또는 제2항에 기재된 세라믹을 포함하는 세라믹 제품
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제2항에 기재된 결정질 지르콘이 코팅된 규소계 세라믹의 제조방법으로서,규소계 세라믹 기재 표면 상에 산화규소층을 1 - 1000nm 두께로 형성하는 단계; 및상기 산화규소층 상에 결정질 지르콘을 코팅하는 단계를 포함하며,상기 결정질 지르콘을 코팅하는 단계는 상온진공과립분사법에 의한 것인, 결정질 지르콘이 코팅된 규소계 세라믹의 제조방법
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제1항에 기재된 결정질 지르콘이 코팅된 규소계 세라믹의 제조방법으로서,규소계 세라믹 기재 표면에 표면거칠기를 부여하는 단계; 및상기 기재 표면상에 결정질 지르콘을 코팅하는 단계를 포함하며,상기 규소계 세라믹 표면의 거칠기는 0
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