요약 | 본 발명은 반도체, 디스플레이, 태양전지 제작 공정에서 음이온화 경향이 높은 Cl, O, F 등의 6, 7족 원소 기체를 사용하여 플라즈마 입자를 발생시킬 때에 생성되는 Cl, F, O 입자들의 음이온 에너지를 측정하는 소형화된 장치 및 방법에 관한 것이다. 음이온 에너지 분석 방법은 다음과 같다. 플라즈마를 이용하여 각종 소자를 제작하는 플라즈마 공정 챔버에서 발생되는 플라즈마가 입사되면 입사된 플라즈마가 통과하는 동안에 플라즈마에서 양이온을 차폐시켜서 음이온과 전자를 선별하여 음이온 및 전자를 추출하는 에너지 필터링(energy filtering)을 수행하고, 에너지 필터링 결과 출사되는 음이온 및 전자의 질량 차이로써 전자는 제거하고 원하는 질량의 음이온만 최종 출사시키는 매스 필터링(mass filtering)을 수행한다. 매스 필터링 결과로서 나오는 음이온 신호를 검출 내지는 수집하여서 가시적인 데이터를 얻는다. |
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Int. CL | H05H 1/00 (2006.01) |
CPC | |
출원번호/일자 | 1020150070844 (2015.05.21) |
출원인 | 광운대학교 산학협력단, (주)원우시스템즈 |
등록번호/일자 | |
공개번호/일자 | 10-2016-0136807 (2016.11.30) |
공고번호/일자 | |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 거절 |
심사진행상태 | |
심판사항 | |
구분 | |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | |
심사청구항수 | 0 |