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혼합 기질막 및 이의 제조방법(Mixed-matrix membrane and the preparation method thereof)

  • 기술번호 : KST2016020309
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 고분자 매트릭스; 및 상기 고분자 매트릭스 내에 분산된 분자체(molecular sieve);를 포함하는 혼합 기질막에 있어서, 상기 분자체는, 마이크로 기공(micropore)이 형성된 중심부; 및 5 nm 내지 200 nm 크기의 공동이 형성되어 있고, 상기 공동이 상기 분자체의 외부를 향해 열려있는 외곽부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 혼합 기질막을 제공한다. 본 발명에 따른 혼합 기질막은 분자체 외곽부 표면에 고분자 매트릭스의 침투가 용이하여 고분자와 무기 소재 간의 접촉 면적이 증가하며 이를 통해 상호간의 접착력이 향상되기 때문에, 고분자와 무기 소재 간의 혼합 발생하는 매크로 보이드(macro void)의 형성 또는 막 경화(hardening) 현상이 발생하지 않아 기체 투과도를 떨어뜨리지 않고, 기체 선택도가 향상되며, 고분자 매트릭스가 침투되지 않은 분자체 중심부의 기공으로 인해 기체 투과도가 향상된다.
Int. CL B01D 69/12 (2006.01) B01D 67/00 (2006.01) B01D 71/00 (2006.01)
CPC B01D 69/12(2013.01) B01D 69/12(2013.01)
출원번호/일자 1020150075351 (2015.05.28)
출원인 한국화학연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2016-0141172 (2016.12.08) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2015.05.28)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이평수 대한민국 대전광역시 서구
2 박유인 대한민국 대전광역시 유성구
3 남승은 대한민국 대전광역시 유성구
4 박호식 대한민국 대전광역시 서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이원희 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 성지하이츠빌딩*차 ***호 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2015.05.28 수리 (Accepted) 1-1-2015-0516712-13
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2016.04.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2016.06.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2016-0078925-38
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2016.07.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0483487-52
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2016.09.05 수리 (Accepted) 1-1-2016-0862772-58
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2016.09.05 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0862798-34
7 등록결정서
Decision to grant		 2017.01.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0074625-19
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149242-13
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149265-52
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번호 청구항
1 1
고분자 매트릭스; 및상기 고분자 매트릭스 내에 분산된 분자체(molecular sieve);를 포함하는 혼합 기질막의 제조방법에 있어서,금속 산화물 나노 입자 졸을 준비하고, 상기 금속 산화물 나노 입자 졸에 탄소 전구체를 첨가한 후 가열시켜 3 차원으로 정렬된 메조 다공성 탄소 구조체를 제조하는 단계(단계 a); 및상기 단계 a에서 제조된 탄소 구조체와 분자체 물질 전구체를 혼합하여 탄소 구조체에 분자체 물질 전구체를 함침시킨 후 가열하는 단계(단계 b);를 수행하여 마이크로 기공(micropore)이 형성된 중심부; 및 상기 중심부에서부터 연결되어 외곽부 표면을 향해 뻗어나가는 가지 형태이며, 상기 가지 형태 사이 공간을 통해 5 nm 내지 200 nm 크기의 공동이 형성되어 있고, 상기 공동이 상기 분자체의 외부를 향해 열려있는 외곽부;를 포함하는 분자체를 준비하는 단계(단계 1); 및상기 단계 1에서 준비된 분자체 및 고분자 매트릭스를 혼합하여 도포하는 단계(단계 2);를 포함하는 혼합 기질막의 제조방법
2 2
제1항에 있어서,상기 외곽부에 형성된 공동은 외곽부 표면에서 내부로 향할수록 작아지는 것을 특징으로 하는 혼합 기질막의 제조방법
3 3
삭제
4 4
제1항에 있어서,상기 고분자 매트릭스는 폴리이미드, 폴리설폰, 폴리이서설폰, 폴리페닐 옥사이드, 폴리(1-트리메틸실릴-1-프로핀)(poly(1-trimethylsilyl-1-propyne), PTMSP), 셀룰로오스 아세테이트, 폴리카보네이트 및 이들의 공중합체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 종 이상인 것을 특징으로 하는 혼합 기질막의 제조방법
5 5
제1항에 있어서,상기 분자체는 제올라이트 분자체, 금속 유기 구조체(MOF), 탄소 분자체 및 알루미노포스페이트 분자체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1 종 이상인 것을 특징으로 하는 혼합 기질막의 제조방법
6 6
제1항에 있어서,상기 중심부는 2 nm 내지 5 nm 크기의 기공을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 혼합 기질막의 제조방법
7 7
삭제
8 8
삭제
9 9
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10 10
삭제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통상자원부 한국화학연구원 에너지자원기술개발사업 (RCMS)반도체/디스플레이 공정용 5LPM급 NF3 순환기술 개발