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커패시터형 후각 센서 및 제조 방법(CAPACITIVE OLFACTORY SENSOR AND MANUFACTURING METHOD THEREOF)

  • 기술번호 : KST2016020560
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 커패시터형 화학 센서에 관한 것으로서, 본 발명의 일 실시예에 따른 커패시터형 후각 센서는 평면 형상의 제 1 기재, 제 1 기재 상에 형성된 제 1 전도성 전극, 제 1 전도성 전극 상에 형성된 절연층, 절연층 상에 형성되며, 제 1 전도성 전극과 교차하도록 형성된 제 2 전도성 전극, 제 2 전도성 전극의 상부에 형성된 평면 형상의 제 2 기재, 및 제 1 전도성 전극 및 제 2 전도성 전극에 전압을 인가하는 제어부를 포함하되, 제어부는 제 1 전도성 전극 및 제 2 전도성 전극에 의해 형성되는 커패시턴스를 검출하되, 커패시턴스 값은 검출 대상 물질의 존재 여부에 따라 변화하는 프린지 커패시턴스 성분을 포함한다.
Int. CL C01B 31/02 (2006.01) G01N 27/22 (2006.01)
CPC G01N 27/227(2013.01)
출원번호/일자 1020150080014 (2015.06.05)
출원인 숭실대학교산학협력단, 코오롱인더스트리 주식회사
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2016-0143385 (2016.12.14) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2015.06.05)
심사청구항수 11

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 숭실대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 동작구
2 코오롱인더스트리 주식회사 대한민국 서울특별시 강서구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김도환 대한민국 경기도 안양시 동안구
2 김소영 대한민국 서울특별시 서대문구
3 한정석 대한민국 경기도 용인시 기흥구
4 갈진하 대한민국 경기도 용인시 기흥구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인엠에이피에스 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로*길 **, *층 (역삼동, 한동빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 숭실대학교산학협력단 서울특별시 동작구
2 코오롱인더스트리 주식회사 서울특별시 강서구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2015.06.05 수리 (Accepted) 1-1-2015-0545323-35
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2016.03.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2016.06.10 수리 (Accepted) 9-1-2016-0024594-58
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2016.06.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0461349-55
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2016.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2016-5110636-51
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2016.08.29 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0840921-50
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.08.29 수리 (Accepted) 1-1-2016-0840920-15
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2016.10.10 수리 (Accepted) 4-1-2016-5143745-92
9 등록결정서
Decision to grant
2016.11.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0857206-67
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.05.09 수리 (Accepted) 4-1-2018-5082506-02
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.05.09 수리 (Accepted) 4-1-2018-5082180-11
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.02.28 수리 (Accepted) 4-1-2019-0019282-09
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.01.28 수리 (Accepted) 4-1-2020-5018903-38
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
유연한 커패시터형 후각 센서에 있어서, 평면 형상의 제 1 기재, 상기 제 1 기재 상에 형성된 제 1 전도성 전극,상기 제 1 전도성 전극 상에 형성된 절연층, 상기 절연층 상에 형성되며, 상기 제 1 전도성 전극과 교차하도록 형성된 제 2 전도성 전극, 상기 제 2 전도성 전극의 상부에 형성된 평면 형상의 제 2 기재, 및 상기 제 1 전도성 전극 및 상기 제 2 전도성 전극에 전압을 인가하는 제어부를 포함하되, 상기 제어부는 제 1 전도성 전극 및 제 2 전도성 전극에 의해 형성되는 커패시턴스를 검출하되,상기 커패시턴스 값에 포함된 검출 대상 물질의 존재 여부에 따라 변화하는 프린지 커패시턴스 성분에 의한 크기 변화에 기초하여, 상기 제 1 기재 또는 제 2 기재에 인접한 검출 대상 물질 및 기설정된 특징 값의 변화를 검출하고,상기 제 1 전도성 전극과 제 2 전도성 전극은 각각 탄소나노튜브 섬유로 형성된 것이며,상기 제 1 기재 및 제 2 기재는 유연한 소재인 것인 커패시터형 후각 센서
2 2
제 1 항에 있어서,상기 제 1 전도성 전극 또는 상기 제 2 전도성 전극은 전도성 무기 물질로 이루어진 것인, 커패시터형 후각 센서
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 제 1 기재 상에 선 형상의 상기 제 1 전도성 전극과 나란하게 배치된 복수의 전도성 전극들 및상기 제 2 기재의 하부에 선 형상을 가지고, 상기 제 2 전도성 전극과 나란하게 배치된 복수의 전도성 전극들을 더 포함하는, 커패시터형 후각 센서
4 4
삭제
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 제 1 기재 및 상기 제 2 기재는 PDMS(polydimethylsiloxane), 에코플렉스(ecoflex), PU(polyurethane), PET(polyethylene phthalate), PE(polyethylene), 유리, 또는 석영 등 기판을 형성할 수 있는 고분자재료 중 하나 이상으로 이루어진 것인, 커패시터형 후각 센서
6 6
제 1 항에 있어서, 상기 제어부는 미리 저장된 쌍극자 모멘트에 따른 커패시턴스 변화 값과 상기 커패시턴스의 변화량을 비교하여, 기체 또는 액체에 존재하는 특정 화학 물질을 검출하는 것인, 커패시터형 후각 센서
7 7
유연한 커패시터형 후각 센서의 제조 방법에 있어서, 평면 형상의 제 1 기재에 제 1 전도성 전극을 형성하는 단계; 평면 형상의 제 2 기재에 제 2 전도성 전극을 형성하는 단계;상기 제 1 전도성 전극 상에 절연층을 형성하는 단계; 및 상기 절연층 상에 상기 제 2 전도성 전극이 접하도록 상기 제 1 기재와 제 2 기재를 결합시키되, 상기 제 1 전도성 전극 및 상기 제 2 전도성 전극이 서로 교차하도록 상기 제 1 기재와 제 2 기재를 결합하는 단계;상기 제 1 전도성 전극 및 상기 제 2 전도성 전극에 전압을 인가하고, 상기 제 1 전도성 전극 및 상기 제 2 전도성 전극에 의해 형성되는 커패시턴스 값을 검출하는 단계; 및상기 검출된 커패시컨스 값에 대응된 검출 대상 물질 및 기설정된 특징 값의 변화를 검출하는 단계를 포함하며,상기 커패시턴스 값에 포함된 검출 대상 물질의 존재 여부에 따라 변화하는 프린지 커패시턴스 성분에 의한 크기 변화에 기초하여, 상기 제 1 기재 또는 제 2 기재에 인접한 검출 대상 물질 및 기설정된 특징 값의 변화를 검출하고,상기 제 1 전도성 전극과 제 2 전도성 전극은 각각 탄소나노튜브 섬유로 형성된 것이며,상기 제 1 기재 및 제 2 기재는 유연한 소재인 것인 커패시터형 후각 센서의 제조 방법
8 8
제 7 항에 있어서,상기 제 1 전도성 전극 또는 상기 제 2 전도성 전극은 전도성 무기 물질로 이루어진 것인, 커패시터형 후각 센서의 제조 방법
9 9
제 7 항에 있어서, 상기 제 1 전도성 전극을 형성하는 단계는 상기 제 1 기재 상에, 선 형상인 복수개의 전도성 전극을 일정한 간격으로 서로 나란하게 배치하는 단계를 포함하고, 상기 제 2 전도성 전극을 형성하는 단계는 상기 제 2 기재 상에, 선 형상인 복수개의 전도성 전극을 일정한 간격으로 서로 나란하게 배치하는 단계를 포함하는 것인, 커패시터형 후각 센서의 제조 방법
10 10
삭제
11 11
제 7 항에 있어서, 상기 제 1 기재 및 상기 제 2 기재는 PDMS(polydimethylsiloxane), 에코플렉스(ecoflex), PU(polyurethane), PET(polyethylene phthalate), PE(polyethylene), 유리, 또는 석영 등 기판을 형성할 수 있는 고분자재료 중 하나 이상을 포함하는 것인, 커패시터형 후각 센서의 제조 방법
12 12
제 7 항에 있어서, 상기 절연층은 PDMS(polydimethylsiloxane), 에코플렉스(ecoflex), PU(polyurethane), 또는 실리콘 계열의 탄성유전체 중 하나 이상을 포함하는 것인, 커패시터형 후각 센서의 제조 방법
13 13
제 7 항에 있어서, 제 1 기재와 제 2 기재를 결합시키는 단계 이후에, 상기 제 1 기재 또는 제 2 기재의 일 측면에 리시버를 부착시키는 단계를 더 포함하는 것인, 커패시터형 후각 센서의 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 숭실대학교 나노기반 소프트 일렉트로닉스 연구 고성능 분자기반 신축성 반도체 나노소재 및 구조 개발
2 미래창조과학부 숭실대학교 산학협력단 신진연구자지원 하이브리드형 고전도성 카본나노튜브 마이크로섬유를 이용한 고민감성 전자피부 개발