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(a) 폴리에틸렌 테레프탈레이트 기재를 150℃ 내지 250℃로 가열하고, 상기 폴리에틸렌 테레프탈레이트 기재 상에 금속 산화물을 100 nm 내지 200 nm의 두께로 코팅하여 발열층을 형성시키는 단계;(b) 상기 발열층의 상호 대향하는 양단에 금속 전극을 부착하는 단계; 및(c) 상기 발열층의 노출면과 상기 금속 전극 상에 절연 필름을 합지하여 절연층을 형성시키는 단계;를 포함하는, 발열 필름의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 금속 산화물이 ITO(indium tin oxide) 또는 AZO(aluminum-doped zinc oxide)인, 발열 필름의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 코팅이 롤 코팅 또는 바 코팅 방식으로 수행되는, 발열 필름의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 금속 전극이 마그네슘, 망간, 철, 코발트, 니켈, 구리, 아연, 은, 금, 알루미늄, 티타늄, 팔라듐, 및 텅스텐으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상의 금속 성분을 포함하는 금속 테이프 또는 금속 막대인, 발열 필름의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 절연 필름이 불소수지, 폴리염화비닐, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌, 폴리아마이드, 폴리프로필렌, 및 나일론으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상을 포함하는 필름인, 발열 필름의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 절연 필름을 합지하는 단계가 필름 합지 롤을 이용하여 수행되는, 발열 필름의 제조방법
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