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대상 이미지에 대한 공간 광 진폭 변조(spatial light amplitude modulation)를 수행하는 디바이스를 제조하는 방법에 있어서,기판을 마련하는 단계;상기 대상 이미지를 구성하는 각각의 픽셀의 진폭 값에 대응하여 결정된 흡수 패턴(absorption pattern)에 따라 상기 기판의 적어도 일부를 에칭(etching)하는 단계; 및상기 에칭된 부분에 절연 물질을 주입하는 단계를 포함하고,상기 흡수 패턴은, 상기 디바이스에 입사되는 광을 특정한 비율(certain proportion)에 따라 흡수하기 위한 패턴을 포함함을 특징으로 하는, 디바이스의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 디바이스에 입사되는 광은, 가시광 영역의 파장을 포함함을 특징으로 하는, 디바이스의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 적어도 하나의 흡수 패턴은, 상기 디바이스에 입사되는 광의 완전한 흡수(perfect absorption)가 수행되는 패턴을 포함함을 특징으로 하는, 디바이스의 제조 방법
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제3항에 있어서,상기 완전 흡수하는 패턴은, 상기 디바이스에 입사되는 광에 대한 흡수율이 98% 이상인 패턴을 포함함을 특징으로 하는, 디바이스의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 흡수 패턴이 형성된 단위 셀의 가로 또는 세로의 길이는, 상기 디바이스에 입사되는 광의 파장보다 작은 것을 특징으로 하는, 디바이스의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 진폭 값은, 상기 각각의 픽셀에 대한 평면상에서의 밝기 패턴을 포함함을 특징으로 하는, 디바이스의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 기판은, 알루미늄(Al), 금(Au) 및 은(Au) 중 어느 하나를 포함함을 특징으로 하는, 디바이스의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 절연 물질은, 질화규소(Si3N4) 또는 산화아연(ZnO)을 포함함을 특징으로 하는, 디바이스의 제조 방법
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대상 이미지에 대한 공간 광 진폭 변조(spatial light amplitude modulation)를 수행하는 디바이스에 있어서,기판;상기 기판상에 형성되고, 상기 대상 이미지를 구성하는 각각의 픽셀의 진폭 값에 기초하여 형성된 흡수 패턴(absorption pattern); 및상기 흡수 패턴을 포함하는 단위 셀을 포함하고, 상기 흡수 패턴은, 상기 디바이스에 입사되는 광을 특정한 비율(certain proportion)에 따라 흡수하기 위한 패턴을 포함함을 특징으로 하는, 디바이스
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제9항에 있어서,상기 디바이스에 입사되는 광은, 가시광 영역의 파장을 포함함을 특징으로 하는, 디바이스
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제9항에 있어서,상기 흡수 패턴은, 상기 디바이스에 입사되는 광의 완전한 흡수(perfect absorption)가 수행되는 패턴을 포함함을 특징으로 하는, 디바이스
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제11항에 있어서,상기 완전한 흡수가 수행되는 패턴은, 상기 디바이스에 입사되는 광에 대한 흡수율이 98% 이상인 패턴을 포함함을 특징으로 하는, 디바이스
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제9항에 있어서,상기 흡수 패턴이 형성된 단위 셀의 가로 또는 세로의 길이는, 상기 디바이스에 입사되는 광의 파장보다 작은 것을 특징으로 하는, 디바이스
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제9항에 있어서,상기 진폭 값은, 상기 각각의 픽셀에 대한 평면상에서의 밝기 패턴을 포함함을 특징으로 하는, 디바이스
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제9항에 있어서,상기 기판은, 알루미늄(Al), 금(Au) 및 은(Au) 중 어느 하나를 포함함을 특징으로 하는, 디바이스
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제9항에 있어서,상기 절연 물질은, 질화규소(Si3N4) 또는 산화아연(ZnO)을 포함함을 특징으로 하는, 디바이스
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