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기판 상에 탄소 포함 재료로 패턴을 형성하는 단계; 및상기 패턴이 형성된 상기 기판 상에 그래핀을 성장시키는 단계를 포함하는 그래핀 소자 제조 방법
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제1 항에 있어서,상기 패턴은 탄소 포함 재료로 그려지는 그래핀 소자 제조 방법
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제1 항에 있어서,상기 패턴은 프린터로 인쇄되는 그래핀 소자 제조 방법
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제1 항에 있어서,상기 패턴은 포토 리소그래피, 이빔 리소그래피, 드로잉리소그래피 중 적어도 어느 하나의 방법으로 형성되는 그래핀 소자 제조 방법
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제1 항에 있어서,상기 기판은 금속 촉매층을 포함하며, 상기 패턴은 상기 금속 촉매층 상에 제공되는 그래핀 소자 제조 방법
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제5 항에 있어서,상기 금속 촉매층은 구리(Cu), 니켈(Ni), 코발트(Co), 철(Fe), 백금(Pt), 금(Au), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 마그네슘(Mg), 망간(Mn), 로듐(Rh), 탄탈륨(Ta), 티타늄(Ti), 텅스텐(W), 우라늄(U), 바나듐(V), 지르코늄(Zr), 또는 이들의 합금을 포함하는 그래핀 소자 제조 방법
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제6 항에 있어서, 상기 금속 촉매층은 구리를 포함하는 그래핀 소자 제조 방법
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제5 항에 있어서,상기 그래핀을 타겟 기판에 전사하는 단계를 더 포함하는 그래핀 소자 제조 방법
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제8 항에 있어서, 상기 그래핀을 상기 타겟 기판에 전사하는 단계는, 상기 그래핀 상에 캐리어 필름을 형성하는 단계; 상기 금속 촉매층을 제거하는 단계;상기 그래핀과 상기 타겟 기판을 대향시킨 후 서로 압착하는 단계; 및상기 캐리어 필름을 제거하는 단계를 포함하는 그래핀 소자 제조 방법
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제9 항에 있어서,상기 캐리어 필름은 폴리스티렌(polystyrene), 폴리비닐알코올(polyvinyl alcohol), 폴리메틸메타크릴레이트(Polymethyl methacrylate), 폴리에테르술폰(polyethersulfone), 폴리아크릴레이트(polyacrylate), 폴리에테르이미드(polyetherimide), 폴리에틸렌 나프탈레이트(polyethylene naphthalate), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephthalate), 폴리페닐렌 설파이드(polyphenylene sulfide), 폴리아릴레이트(polyarylate), 폴리이미드(polyimide), 폴리카보네이트(polycarbonate), 트리아세테이트 셀룰로오스(triacetate cellulose), 셀룰로오스아세테이트 프로피오네이트(cellulose acetate propionate) 중 적어도 어느 하나를 포함하는 그래핀 소자 제조 방법
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제10 항에 있어서,상기 캐리어 필름은 폴리메틸메타크릴레이트인 그래핀 소자 제조 방법
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제9 항에 있어서,상기 금속 촉매층은 습식 식각으로 제거되는 그래핀 소자 제조 방법
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제8 항에 있어서,상기 타겟 기판은 가요성을 갖는 그래핀 소자 제조 방법
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제5 항에 있어서,상기 그래핀은 화학 기상 증착에 의해 성장되는 그래핀 소자 제조 방법
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제1 항에 있어서,상기 기판은 상기 재료가 제공된 제1 영역과, 상기 재료가 제공되지 않은 제2 영역을 포함하며, 상기 제1 영역에는 다층 그래핀이 형성되고, 상기 제2 영역에는 단층 그래핀이 형성되는 그래핀 소자 제조 방법
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