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침입형 도핑재 첨가에 의한 복합결정구조가 형성된 Te계 열전소재(Thermoelectric telluride materials formed complex-crystalline structure by interstitial doping)

  • 기술번호 : KST2016020823
  • 담당센터 : 부산기술혁신센터
  • 전화번호 : 051-606-6561
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본발명은, A-B-A-C-A 원소가 5개층으로 적층되는 단위셀과, 상기 단위셀 말단의 A 원소와 다른 단위셀 말단의 A 원소는 상호간에 반데르 발스(van der waals) 결합에 의해 반복 적층되는 구조를 가진 Te 계 열전소재에 있어서, 상기 반복 적층되는 A 원소와 인접한 A 원소 사이에 도핑재인 침입형 D 원소가 침입 위치되어 상기 단위셀의 적층결함이 발생하며, 상기 단위셀과는 다른 복합결정구조가 형성됨과 동시에 쌍정(twin) 및 메탈 레이어(metal layer)가 형성됨을 기술적 요지로 한다. (여기서 A는 Te 또는 Se 중 하나이고, B는 Bi 또는 Sb중 하나이고, C는 Bi 또는 Sb중 하나이다.) 이에 의해 단위셀과 단위셀 사이에 침입형 도핑재를 첨가하여 단위셀의 적층결함을 발생시키고, 이를 통해 쌍정(twin) 및 메탈 레이어(metal layer)가 형성되는 효과를 얻을 수 있다.
Int. CL H01L 35/16 (2006.01.01) H01L 35/18 (2006.01.01) H01L 35/14 (2006.01.01) H01L 35/02 (2006.01.01) H01L 35/34 (2006.01.01)
CPC H01L 35/16(2013.01) H01L 35/16(2013.01) H01L 35/16(2013.01) H01L 35/16(2013.01) H01L 35/16(2013.01)
출원번호/일자 1020150083099 (2015.06.12)
출원인 한국전기연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2016-0146188 (2016.12.21) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2020.03.26)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전기연구원 대한민국 경상남도 창원시 성산구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박수동 대한민국 경상남도 창원시 성산구
2 이희웅 대한민국 경상남도 창원시 성산구
3 김봉서 대한민국 경상남도 창원시 성산구
4 류병기 대한민국 경상남도 창원시 성산구
5 민복기 대한민국 경상남도 창원시 성산구
6 이재기 대한민국 경상남도 창원시 마산회원구
7 이지은 대한민국 서울특별시 성북구
8 주성재 대한민국 경상남도 창원시 성산구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인부경 대한민국 부산광역시 연제구 법원남로**번길 **, *층 (거제동, 대한타워)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2015.06.12 수리 (Accepted) 1-1-2015-0566497-07
2 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2020.03.26 수리 (Accepted) 1-1-2020-0316780-34
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2020.06.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2020.08.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2020-0117202-24
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번호 청구항
1 1
A-B-A-C-A 원소가 5개층으로 적층되는 단위셀과, 상기 단위셀 말단의 A 원소와 다른 단위셀 말단의 A 원소는 상호간에 반데르 발스(van der waals) 결합에 의해 반복 적층되는 구조를 가진 Te 계 열전소재에 있어서,상기 반복 적층되는 A 원소와 인접한 A 원소 사이에 도핑재인 침입형 D 원소가 침입 위치되어 상기 단위셀의 적층결함이 발생하며, 상기 단위셀과는 다른 복합결정구조가 형성됨과 동시에 쌍정(twin) 및 메탈 레이어(metal layer)가 형성됨을 특징으로 하는 침입형 도핑재 첨가에 의한 복합결정구조가 형성된 Te계 열전소재
2 2
제 1항에 있어서,상기 쌍정은 D 원소를 기준으로 일측에는 A-B-A-C-A 구조가 연결되고, 타측에는 A-B-A 구조 또는 A-C-A 구조가 연결되어 A-B-A-C-A/D/A-B-A 구조 또는 A-B-A-C-A/D/A-C-A 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 침입형 도핑재 첨가에 의한 복합결정구조가 형성된 Te계 열전소재
3 3
제 1항에 있어서,복수의 홀(hole)을 포함하는 다공성 상기 메탈 레이어는 B 원소 또는 C 원소가 각각 연속으로 적층되거나 또는 교차로 적층된 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 침입형 도핑재 첨가에 의한 복합결정구조가 형성된 Te계 열전소재
4 4
제 1항에 있어서,상기 Te계 열전소재는 Bi0
5 5
제 1항에 있어서,상기 도핑재는 나트륨(Na), 칼륨(K), 아연(Zn), 알루미늄(Al), 티타늄(Ti), 바나듐(V), 크롬(Cr), 망가니즈(Mn), 철(Fe), 코발트(Co), 니켈(Ni), 구리(Cu), 팔라듐(Pd), 은(Ag), 백금(Pt), 금(Au), 수은(Hg) 및 이의 혼합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 침입형 도핑재 첨가에 의한 복합결정구조가 형성된 Te계 열전소재
6 6
제 1항에 있어서,상기 도핑재는 상기 Te계 열전소재 100중량부에 대해 0
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 한국전기연구원 에너지기술개발사업 격자모듈레이션을 통한 양자제어형 열전소재