| 1 |
1
광검출기;상기 광검출기의 앞에 배치된 투과형 선형 가변 밴드패스 필터(linear variable bandpass filter;LVBF); 상기 선형 가변 밴드패스 필터의 앞에 배치되고 위치에 따라 서로 다른 투과율을 제공하는 가변 중성밀도 필터(variable neutral density filter); 상기 가변 중성밀도 필터 앞에 배치되어 입사하는 광을 공간적으로 균일하게 전달하는 확산 수단;상기 광검출기의 출력을 증폭하는 증폭기; 및상기 증폭기의 출력을 처리하는 처리부를 포함하고,상기 처리부는 광선속, 광조도, 광휘도, 또는 광도를 산출하고,상기 가변 중성밀도 필터, 상기 선형 가변 밴드패스 필터, 및 광검출기로 구성된 광 시스템의 목표 분광 감응도는 파장에 따라 일정한 것을 특징으로 하는 필터 복사계
|
| 2 |
2
삭제
|
| 3 |
3
광검출기;상기 광검출기의 앞에 배치된 투과형 선형 가변 밴드패스 필터(linear variable bandpass filter;LVBF); 상기 선형 가변 밴드패스 필터의 앞에 배치되고 위치에 따라 서로 다른 투과율을 제공하는 가변 중성밀도 필터(variable neutral density filter); 상기 가변 중성밀도 필터 앞에 배치되어 입사하는 광을 공간적으로 균일하게 전달하는 확산 수단;상기 광검출기의 출력을 증폭하는 증폭기; 및상기 증폭기의 출력을 처리하는 처리부를 포함하고,상기 처리부는 광선속, 광조도, 광휘도, 또는 광도를 산출하고,상기 가변 중성밀도 필터, 상기 선형 가변 밴드패스 필터, 및 광검출기로 구성된 광 시스템의 목표 분광 감응도는 CIE 등색 함수 X,Y, 또는 Z 중에서 어느 하나에 해당하는 것을 특징으로 하는 필터 복사계
|
| 4 |
4
제1 항 또는 제3 항에 있어서,상기 가변 중성밀도 필터는: 제1 가변 중성 밀도 필터;제2 가변 중성 밀도 필터;및제3 가변 중성밀도 필터를 포함하고,제1 가변 중성 밀도 필터, 제2 가변 중성 밀도 필터, 및 제3 가변 중성밀도 필터는 상기 가변 중성밀도 필터의 길이 방향을 따라 서로 나란히 배치되고,상기 광검출기는:상기 제1 가변 중성 밀도 필터와 정렬되는 제1 광검출기;상기 제2 가변 중성 밀도 필터와 정렬되는 제2 광검출기; 및상기 제3 가변 중성 밀도 필터와 정렬되는 제3 광검출기;를 포함하는 것을 특징으로 하는 필터 복사계
|
| 5 |
5
파장 가변 광원의 출력을 파장 별로 측정하는 단계;가변 중성밀도 필터, 선형 가변 밴드패스 필터, 및 광검출기를 설치하는 단계;소정의 파장에서 상기 파장 가변 광원을 사용하여 가변 중성밀도 필터, 선형 가변 밴드패스 필터, 및 광검출기로 구성된 시스템의 분광 감응도를 측정하는 단계;파장 스캔 범위 내에서 상기 파장 가변 광원의 파장을 변경하는 단계; 및파장 스캔이 완료된 경우, 목표 분광 감응도와 측정된 분광 감응도의 차이가 발생한 파장에 대응하는 위치에서 가변 중성밀도 필터의 투과율을 조절하는 단계를 포함하고,상기 가변 중성밀도 필터, 상기 선형 가변 밴드패스 필터, 및 광검출기로 구성된 광 시스템의 목표 분광 감응도는 파장에 따라 일정하거나, 상기 가변 중성밀도 필터, 상기 선형 가변 밴드패스 필터, 및 광검출기로 구성된 광 시스템의 목표 분광 감응도는 CIE 등색 함수 X,Y, 또는 Z 중에서 어느 하나에 해당하는 것을 특징으로 하는 필터 복사계의 교정 방법
|
