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디스크-인-포어 미세패턴이 형성된 폴리스티렌 박막의 제조방법(Method for Preparation of Polystyrene Film with Disk-in-Pore Micropattern)

  • 기술번호 : KST2016021100
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 내화학성과 내열성이 우수하고 표면에 디스크-인-포어 구조의 독특한 미세패턴이 형성된 폴리스티렌 박막을 제조하는 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 A) 기판 상에 폴리스티렌 박막을 형성하는 단계; B) 용매-비용매를 사용한 개선된 상전이법에 의해 상기 폴리스티렌 박막 상에 미세기공을 갖는 패턴을 형성하는 단계; C) 상기 패턴이 형성된 폴리스티렌 박막에 자외선을 조사하여 가교를 형성시키는 단계; 및 D) 상기 가교가 형성된 폴리스티렌 박막을 열처리하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 디스크-인-포어 미세패턴이 형성된 폴리스티렌 박막의 제조방법에 관한 것이다.
Int. CL H01L 21/02 (2006.01.01) H01L 21/324 (2017.01.01) H01L 21/027 (2006.01.01)
CPC H01L 21/02118(2013.01) H01L 21/02118(2013.01) H01L 21/02118(2013.01) H01L 21/02118(2013.01)
출원번호/일자 1020150084789 (2015.06.16)
출원인 충남대학교산학협력단
등록번호/일자 10-2099685-0000 (2020.04.06)
공개번호/일자 10-2016-0148167 (2016.12.26) 문서열기
공고번호/일자 (20200413) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2018.03.29)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 충남대학교산학협력단 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최호석 대한민국 대전광역시 유성구
2 브반티엔 베트남 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김원준 대한민국 대전광역시 서구 둔산대로***번길 **, 골드벤처타워***호 타임국제특허법률사무소 (만년동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 충남대학교산학협력단 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2015.06.16 수리 (Accepted) 1-1-2015-0578100-23
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2015.06.26 수리 (Accepted) 1-1-2015-0619544-87
3 보정요구서
Request for Amendment		 2015.06.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2015-0105252-87
4 [출원서등 보정]보정서(납부자번호)
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment(Payer number)		 2015.06.29 수리 (Accepted) 1-1-2015-0623846-10
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.09.01 수리 (Accepted) 4-1-2015-5116889-90
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.09.01 수리 (Accepted) 4-1-2015-5116888-44
7 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2018.03.29 수리 (Accepted) 1-1-2018-0312203-71
8 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2019.09.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0669528-57
9 [지정기간단축]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Reduction of Designated Period] Request for Extension of Period (Reduction, Expiry Reconsideration)		 2019.11.01 수리 (Accepted) 1-1-2019-1122939-67
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2019.11.01 수리 (Accepted) 1-1-2019-1122929-11
11 등록결정서
Decision to grant		 2020.03.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0228475-73
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
A) 기판 상에 폴리스티렌 박막을 형성하는 단계;B) 용매-비용매를 사용한 개선된 상전이법에 의해 상기 폴리스티렌 박막 상에 미세기공을 갖는 패턴을 형성하는 단계;C) 상기 패턴이 형성된 폴리스티렌 박막에 자외선을 조사하여 가교를 형성시키는 단계; 및D) 상기 가교가 형성된 폴리스티렌 박막을 열처리하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 디스크-인-포어 미세패턴이 형성된 폴리스티렌 박막의 제조방법
2 2
제 1 항에 있어서,상기 자외선은 220~280nm범위의 파장을 포함하는 것을 특징으로 하는 디스크-인-포어 미세패턴이 형성된 폴리스티렌 박막의 제조방법
3 3
제 2 항에 있어서,상기 자외선의 세기는 10~50 mW/㎠인 것을 특징으로 하는 디스크-인-포어 미세패턴이 형성된 폴리스티렌 박막의 제조방법
4 4
제 1 항에 있어서,상기 열처리 온도는 120~320℃인 것을 특징으로 하는 디스크-인-포어 미세패턴이 형성된 폴리스티렌 박막의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 B) 단계에 의해 형성된 미세기공을 갖는 폴리스티렌 박막의 두께는 1~20㎛인 것을 특징으로 하는 디스크-인-포어 미세패턴이 형성된 폴리스티렌 박막의 제조방법
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제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 D) 단계 이후에, E) 폴리스티렌 박막을 기판으로부터 분리하는 단계를 추가로 포함하여 프리스탠딩 필름의 형태로 제조하는 것을 특징으로 하는 디스크-인-포어 미세패턴이 형성된 폴리스티렌 박막의 제조방법
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패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.