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자외선 영역의 빛 에너지를 흡수한 후 비 복사에너지로 방출하는 나노 물질이 열가소성 수지에 분산된 것이고, 상기 열가소성 수지는 나노 물질로부터 방출되는 비 복사 에너지에 의하여 이동하는 것이며,상기 나노 물질은 양자점이거나, 또는 양자점-그래핀 코어-쉘 구조인 것을 특징으로 하는 자외선 감응 열가소성 수지 기반 자가 치유 복합체
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제 1 항에 있어서,양자점은 산화 아연, CdTe, CdSe, CdS, ZnS 및 ZnSe로 이루어지는 그룹에서 선택되는 하나 이상인 것을 특징으로 하는 자외선 감응 열가소성 수지 기반 자가 치유 복합체
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제 3 항에 있어서,나노 물질은 산화 아연 양자점-그래핀 코어-쉘 구조를 가지는 것을 특징으로 하는 자외선 감응 열가소성 수지 기반 자가 치유 복합체
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제 1 항에 있어서,상기 열 가소성 수지는 폴리우레탄, 폴리스티렌, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리아마이드, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴으로 이루어지는 그룹에서 선택되는 하나 이상인 것을 특징으로 하는 자외선 감응 열가소성 수지 기반 자가 치유 복합체
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제 1 항에 있어서,상기 나노 물질은 열가소성 수지 매트릭스 전체에 대하여 1~30wt%의 함량으로 포함되는 것을 특징으로 하는 자외선 감응 열가소성 수지 기반 자가 치유 복합체
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제 1 항에 있어서,상기 자가 치유 복합체는 자외선 노출 시간이 증가할수록 열가소성 수지 고분자의 이동 거리가 증가하는 것을 특징으로 하는 자외선 감응 열가소성 수지 기반 자가 치유 복합체
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제 1 항에 있어서,상기 자가 치유 복합체는 자외선 노출 시간이 증가할수록 자가 치유 능력이 증가하는 것을 특징으로 하는 자외선 감응 열가소성 수지 기반 자가 치유 복합체
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제 1 항, 제 3 항, 제 4 항, 제 8 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항의 자가 치유 복합체를 포함하는 것을 특징으로 하는 자가 치유 시스템
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제 1 항, 제 3 항, 제 4 항, 제 8 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항의 자가 치유 복합체의 제조 방법으로서,열가소성 수지, 유기 용매, 나노 물질을 포함하는 혼합 용액을 제공하는 단계; 및 상기 혼합 용액에서 유기 용매를 증발하여 자가 치유 복합체를 얻는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 자가 치유 복합체의 제조 방법
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제 13 항에 있어서,열가소성 수지는 폴리우레탄 또는 폴리스티렌이고,용매는 N,N-Dimethylformamide (DMF)이고, 나노 물질은 산화 아연 양자점-그래핀 나노입자 또는 산화아연 양자점-플러렌 나노 입자인 것을 특징으로 하는 자가 치유 복합체의 제조 방법
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자가 치유 복합체의 제조 방법으로서,열가소성 수지와 유기 용매의 제 1 용액을 제공하는 단계: 나노 물질 및 유기 용매의 제 2 용액을 제공하는 단계; 및상기 제 1 용액과 제 2 용액의 혼합 용액으로부터 유기 용매를 증발시켜 자가 치유 복합체를 얻는 단계;를 포함하는 것이고,상기 자가 치유 복합체는 자외선 영역의 빛 에너지를 흡수한 후 비복사에너지로 방출하는 나노 물질이 열가소성 수지에 분산된 것이고, 상기 열가소성 수지는 나노 물질로부터 방출되는 비 복사 에너지에 의하여 이동하는 것을 특징으로 하는 자가 치유 복합체의 제조 방법
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제 15 항에 있어서,폴리우레탄 또는 폴리스티렌을 N,N-Dimethylformamide (DMF) 용매에 넣어 제 1 용액을 제공하고, 산화 아연 양자점-그래핀 나노입자 또는 산화아연 양자점-플러렌 나노 입자를 DMF 용매에 넣어 제 2 용액을 제조하고,상기 제 1 용액과 제 2 용액을 혼합한 후, 용매를 증발시켜 자가 치유 복합체를 얻는 것을 특징으로 하는 자가 치유 복합체의 제조 방법
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