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제1 방향으로 연장하고, 탄소(C)를 포함하는 제1 구조체를 준비하는 단계;상기 제1 구조체의 측면에서 상기 제1 방향에 교차하는 제2 방향으로 연장하고, 금속 산화물을 포함하는 희생 로드(rod)를 형성하는 단계;상기 희생 로드(rod)에 코발트(Co)를 포함하는 소스를 제공하여, 상기 희생 로드(rod)의 상기 금속 산화물의 적어도 일부가 코발트 화합물로 대체되어, 상기 금속 산화물 및 상기 코발트 화합물을 포함하는 제1 중간 로드(rod)를 형성하는 단계;상기 제1 중간 로드(rod)의 상기 금속 산화물을 선택적으로 제거하여, 상기 코발트 화합물을 포함하는 제2 중간 로드(rod)를 형성하는 단계; 및상기 제2 중간 로드(rod)에 황(S)을 포함하는 반응 가스를 공급하여, 코발트황화물을 포함하는 제2 구조체를 형성하는 단계를 포함하는 코발트 황화물 전극의 제조 방법
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제9 항에 있어서,상기 금속 산화물은 아연 산화물을 포함하는 코발트 황화물 전극의 제조 방법
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제9 항에 있어서,상기 희생 로드(rod)에 상기 코발트(Co)를 포함하는 소스를 제공하는 단계는, 상기 희생 로드(rod)가 형성된 상기 제1 구조체를 코발트(Co)를 포함하는 용액에 침지하는 것을 포함하는 코발트 황화물 전극의 제조 방법
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제9 항에 있어서,상기 제2 중간 로드(rod)를 형성하는 단계는, 습식 식각 공정(Wet etching)에 의해 상기 제1 중간 로드(rod)의 상기 금속 산화물이 제거되고, 상기 제1 중간 로드(rod)의 상기 코발트 화합물이 잔존되는 것을 포함하는 코발트 황화물 전극의 제조 방법
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제9 항에 있어서,상기 제2 중간 로드(rod)에 상기 반응 가스를 공급하는 단계는, 상기 반응 가스를 상기 제1 구조체에 공급하여 상기 제1 구조체가 황(S)으로 도핑(doping)되는 것을 포함하는 코발트 황화물 전극의 제조 방법
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제9 항에 있어서,상기 제1 구조체 및 상기 제2 중간 로드(rod)에 반응 가스가 공급되는 단계는, 상기 반응 가스가 공급되는 동안 열 처리가 동시에 수행되는 것을 포함하는 코발트 황화물 전극의 제조 방법
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