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플렉시블 기판에 전도성 회로 패턴을 형성하는 방법 및 상기 전도성 회로 패턴을 갖는 플렉시블 기판(METHOD FOR MANUFACTURING CONDUCTIVE CIRCUIT PATTERN ON A FLEXIBLE SUBSTRATE AND THE FLEXIBLE SUBSTRATE HAVING THE CONDUCTIVE CIRCUIT PATTERN)

  • 기술번호 : KST2017000481
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 플렉시블 기판에 전도성 회로 패턴을 형성하는 방법이 제공된다. 이 방법은, 구리질화물을 포함하는 페이스트를 제조하는 단계와, 상기 페이스트를 플렉시블 기판에 도포하여 페이스트 패턴을 형성하는 단계 및 상기 페이스트 패턴에 광을 조사하는 광소결 공정을 이용하여 상기 페이스트 패턴으로부터 전도성 회로 패턴을 형성하는 단계를 포함한다.
Int. CL B23K 35/02 (2006.01) B23K 35/22 (2006.01) H05K 3/24 (2006.01) H05K 3/12 (2006.01)
CPC H05K 3/1283(2013.01) H05K 3/1283(2013.01) H05K 3/1283(2013.01) H05K 3/1283(2013.01)
출원번호/일자 1020150094042 (2015.07.01)
출원인 전자부품연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2017-0004126 (2017.01.11) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2015.07.01)
심사청구항수 3

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자기술연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 유명재 대한민국 서울특별시 광진구
2 김성현 대한민국 경기도 용인시 수지구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인지명 대한민국 서울특별시 강남구 남부순환로**** 차우빌딩*층

최종권리자

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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2015.07.01 수리 (Accepted) 1-1-2015-0639262-75
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2016.05.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2016.07.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2016-0091280-48
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2016.08.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0557388-09
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2016.10.04 수리 (Accepted) 1-1-2016-0960822-19
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2016.11.02 수리 (Accepted) 1-1-2016-1070377-40
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.11.30 수리 (Accepted) 1-1-2016-1176705-86
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2016.11.30 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-1176704-30
9 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2017.02.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0131166-35
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.08.24 수리 (Accepted) 4-1-2020-5189497-57
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
플렉시블 기판에 전도성 회로 패턴을 형성하는 방법에 있어서, 구리질화물을 포함하는 페이스트를 제조하는 단계;상기 페이스트를 플렉시블 기판에 도포하여 페이스트 패턴을 형성하는 단계; 및상기 페이스트 패턴에 광을 조사하는 광소결 공정을 이용하여 상기 페이스트 패턴으로부터 전도성 회로 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 플렉시블 기판에 전도성 회로 패턴을 형성하는 방법
2 2
제1항에 있어서, 상기 페이스트를 제조하는 단계에서, 상기 구리질화물의 조성은,화학식 [CuxN]로 표현되고, 상기 X는 3인 것인 플렉시블 기판에 전도성 회로 패턴을 형성하는 방법
3 3
제1항에 있어서, 상기 페이스트를 제조하는 단계에서,상기 구리질화물의 함량은,상기 페이스트 내에서 55 wt% 내지 65 wt%인 것인 플렉시블 기판에 전도성 회로 패턴을 형성하는 방법
4 4
제1항에 있어서, 상기 페이스트를 제조하는 단계에서,상기 페이스트는 유기 바인더, 유기 가소성 수지, 유기 용매, 분산제 및 Glass frit를 더 포함함을 특징으로 하는 플렉시블 기판에 전도성 회로 패턴을 형성하는 방법
5 5
제4항에 있어서, 상기 페이스트 내에서, 상기 유기 바인더의 함량은 2 wt% 내지 4 wt%이고, 상기 유기 가소성 수지는 0
6 6
제1항에 있어서, 상기 전도성 회로 패턴을 형성하는 단계에서, 상기 광소결 공정은,제논 램프로부터 조사된 광을 이용하여 상기 페이스트 패턴을 광소결하는 것인 플렉시블 기판에 전도성 회로 패턴을 형성하는 방법
7 7
제6항에 있어서, 상기 제논 램프의 파워는 1000 mJ/㎠~6000mJ/㎠인 것인 플렉시블 기판에 전도성 회로 패턴을 형성하는 방법
8 8
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항의 방법으로 제조된 전도성 회로 패턴을 갖는 플렉시블 기판
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 (주)파트론 지식경제 기술혁신사업-글로벌전문기술개발사업(WC-300) 4G-LTE 스마트폰을 위한 LDS(Laser Direct Structuring)기술을 이용한 주파수 튜닝기술이 내장된 Housing Embedded 안테나/MEMSMIC복합 모듈개발