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가스 배리어 막 표면의 공극에 형성되어 상기 공극을 통한 수분침투를 막는 귀금속 산화물 층;을 포함하는 가스 배리어 막의 제조방법으로서,기판의 표면을 개질하여 음전하를 띠도록 하는 제1 단계;상기 기판을, 양전하 띠는 제1 용액에 침지하는 제2 단계; 및상기 기판을, 음전하 띠는 제2 용액에 침지하는 제3 단계를 포함하는, 가스 배리어 막의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 귀금속 산화물 층은 Au2O3를 포함하는, 가스 배리어 막의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 제1 단계는, 상기 기판을 UV 오존램프에 노출시키거나 산소플라즈마로 처리하여 수행되는, 가스 배리어 막의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 기판으로는, 폴리에틸렌나프탈레이트(polyethylene naphthalate), 아크릴레이트계 수지(acrylate resin), 폴리에스테르계 수지(polyester), 스티렌계 수지(styrene resin), 투명 불소수지(transparent teflon resin), 폴리이미드계 수지(polyimide resin), 폴리아미드계 수지(polyamide resin), 폴리에테르이미드계 수지(polyesterimide resin), 셀룰로스아실레이트계 수지(cellulose acylate resin), 폴리우레탄수지(polyurethane), 폴리에테르에테르케톤 수지(polyetherether keton resin), 폴리카보네이트 수지(polycarbonate resin), 폴리올레핀 수지(poluolefin resin), 폴리알릴레이트 수지(polyarylate resin), 폴리에테르술폰 수지(polyethersulfone), 폴리술폰 수지(polysulfone), 시클로올레핀코폴리머 (cycloolefin resin) 및 폴리에틸린(polyethylene resin)로 이루어진 그룹에서 선택된 1종 이상을 사용하는, 가스 배리어 막의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 제1 용액은, 유기물질을 탈이온수에 균일하게 분산하여 제조된 유기물 용액인, 가스 배리어 막의 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 유기물 용액의 농도는 0
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제5항에 있어서, 상기 유기물질로는, 폴리에틸렌이민 (polyethylenimine), 폴리다이알리디메틸암모늄 (poly(diallyldimethylammonium chloride))(PDDA) 및 폴리아크릴아미드 (polyacrylamide) (PAA) 로 이루어진 그룹에서 선택된 1종 이상을 사용하는, 가스 배리어 막의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 제2 용액은, 나노 무기물질을 탈이온수에 균일하게 분산하여 제조된 무기물 분산액인, 가스 배리어 막의 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 나노 무기물질은 판상 형태를 가지는, 가스 배리어 막의 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 나노 무기물질은 표면에 실란올, 히드록실 및 카르복실로 이루어지는 그룹에서 선택된 1 종 이상의 기능기를 가지는 가스 배리어 막의 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 제2 용액의 농도는 0
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제8항에 있어서, 상기 나노 무기물질로는 나노클레이 (montmorillonite, MMT), 산화그래핀(graphene oxide) 및 보론나이트라이드(boron nitride)로 이루어진 그룹에서 선택된 1종 이상을 사용하는, 가스 배리어 막의 제조방법
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제9항에 있어서, 상기 무기물 분산액은, 판상 형태의 나노 무기물질 층간 결합을 형성하는 층간 결합물질을 더 포함하는, 가스 배리어 막의 제조방법
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제13항에 있어서, 상기 층간 결합물질로는 폴리비닐알콜(PVA)을 사용하는, 가스 배리어 막의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 제3 단계 다음에, 상기 기판 상에 AuCl3 처리를 하는 제4 단계;를 더 포함하는, 가스 배리어 막의 제조방법
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제15항에 있어서, 상기 제4 단계는, 기판 상에 AuCl3 를 포함하는 용액을 도포하여 수행되는, 가스 배리어 막의 제조방법
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제1항에 있어서, 제1 단계, 제2 단계 및 제3 단계 직후에는 각각 상기 기판을 세척하는 단계를 더 포함하는, 가스 배리어 막의 제조방법
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