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패시베이션된 양자점 및 그 제조방법(PASSIVATED QUANTUM DOT AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME)

  • 기술번호 : KST2017000621
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 개시된 패시베이션된 양자점의 제조방법은, 표면에 유기 리간드가 결합된 양자점 및 상기 양자점을 분산하는 비극성 용매를 포함하는 제1 용액을 준비하는 단계; 및 상기 제1 용액에, 할로겐 염 및 극성 용매를 포함하는 제2 용액을 가하여, 상기 유기 리간드를 제거하고, 상기 양자점의 표면에 할로겐 염을 포함하는 패시베이션층을 형성하는 단계를 포함한다. 상기 할로겐 화합물의 함량이, 상기 양자점 1g에 대하여 0.001몰 이상이다. 상기 방법에 따르면, 안정성이 높은 양자점을 얻을 수 있으며, 리간드 치환 공정 없이 양자점 박막을 형성할 수 있다.
Int. CL
CPC H01L 51/502(2013.01) H01L 51/502(2013.01) H01L 51/502(2013.01) H01L 51/502(2013.01) H01L 51/502(2013.01)
출원번호/일자 1020150084388 (2015.06.15)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2016-0147526 (2016.12.23) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2015.06.15)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정소희 대한민국 대전광역시 유성구
2 장원석 대한민국 대전광역시 서구
3 김덕종 대한민국 대전광역시 서구
4 최혜경 대한민국 충청북도 청주시 상당구
5 김성우 대한민국 경기도 오산시 수청로 **,

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김민태 대한민국 서울특별시 강남구 논현로 ***, *층 **세기특허법률사무소 (역삼동, 세일빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2015.06.15 수리 (Accepted) 1-1-2015-0575544-66
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2015.11.06 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2016.01.08 수리 (Accepted) 9-1-2016-0000757-42
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2016.05.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0351663-85
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.07.13 수리 (Accepted) 1-1-2016-0677200-70
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2016.07.13 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0677199-11
7 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2016.11.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0858393-54
8 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2016.12.27 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2016-1277613-75
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.12.27 수리 (Accepted) 1-1-2016-1277612-29
10 등록결정서
Decision to Grant Registration
2017.01.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0030925-92
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
표면에 유기 리간드가 결합된 양자점 및 상기 양자점을 분산하는 비극성 용매를 포함하는 제1 용액을 준비하는 단계; 및상기 제1 용액에, 할로겐 화합물 및 극성 용매를 포함하는 제2 용액을 가하여, 상기 유기 리간드를 제거하고, 상기 양자점의 {100}면과 {111}면에 할로겐 염을 포함하는 패시베이션층을 형성하는 단계를 포함하고,상기 할로겐 화합물의 함량이, 상기 양자점 1g에 대하여 0
2 2
제1항에 있어서, 상기 제1 용액을 준비하는 단계는,제1 전구체와 유기산을 반응시키는 단계; 및상기 제1 전구체와 유기산의 반응물을 제2 전구체와 반응시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 패시베이션된 양자점의 제조방법
3 3
제2항에 있어서, 상기 제1 전구체는, 12족 원소, 13족 원소 및 14족 원소 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 패시베이션된 양자점의 제조방법
4 4
제2항에 있어서, 상기 제2 전구체는, 15족 원소 및 16족 원소 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 패시베이션된 양자점의 제조방법
5 5
제2항에 있어서, 상기 유기산은 올레산을 포함하는 것을 특징으로 하는 패시베이션된 양자점의 제조방법
6 6
제1항에 있어서, 상기 할로겐 염은 브롬 및 요오드 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 패시베이션된 양자점의 제조방법
7 7
삭제
8 8
제1 항에 있어서, 상기 비극성 용매는 하이드로 카본을 포함하는 것을 특징으로 하는 패시베이션된 양자점의 제조방법
9 9
제8항에 있어서, 상기 극성 용매는 알코올을 포함하는 것을 특징으로 하는 패시베이션된 양자점의 제조방법
10 10
삭제
11 11
삭제
12 12
삭제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학 기계연구원 미래부-국가연구개발사업(III) 핫캐리어생성 및 수집제어기술 개발 (2/3)
2 산업통상자원부 기계연구원 산업부-국가연구개발사업(III) 양자구조체 기반 고효율 초저가 태양전지 기술 개발 (1/5)