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위상 및 진폭이 일치하는 빛이 양측에서 각각 입사되는 도파로; 및상기 도파로의 측면 쪽에 상기 도파로와 수직되는 방향으로 상기 도파로에 연결되어 배치되는 스터브;를 포함하되,상기 스터브는, 상기 도파로의 양측에서 각각 입사되어 흐르는 빛에 대한 완전 흡수 현상을 얻기 위해, 광흡수를 발생시키는 손실 매질로 채워지고,상기 스터브는, 스터브 공진 모드가 접합 공진 모드의 제1 주파수 응답 대역보다 좁은 제2 주파수 응답 대역을 갖게 하는 길이로 구현된 것을 특징으로 하는, 높은 큐 인자를 갖는 완전 빛 흡수체
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제 1항에 있어서, 상기 스터브와 도파로가 연결되는 접합 부분이 공진기로 구성된, 높은 큐 인자를 갖는 완전 빛 흡수체
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제 1항에 있어서, 상기 스터브 및 상기 도파로는 유전체 광결정 구조 상에서 구현된, 높은 큐 인자를 갖는 완전 빛 흡수체
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제 1항에 있어서, 상기 스터브 및 상기 도파로는 플라즈모닉 구조 상에서 구현된, 높은 큐 인자를 갖는 완전 빛 흡수체
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제 1항에 기재된 완전 빛 흡수체를 이용한 광학소자로서, 상기 스터브에서의 광학적 오믹(Ohmic) 열 방출을 함으로써, 높은 큐 인자를 갖는 광학적 열 방출기로 기능하는 광학소자
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제 1항에 기재된 완전 빛 흡수체를 이용한 광학소자로서, 공간상에서는 상기 스터브에서, 주파수 상에서는 상기 스터브의 파노 공진 주파수에서만, 공간-주파수 (spatio-spectral) 상에서 선택적으로 열 방출을 함으로써, 특정 파장 및 공간 영역 정보만을 열 방출을 통해 보여주는 높은 큐 인자를 갖는 광학적 열 영상기로 기능하는 광학소자
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제 1항에 기재된 완전 빛 흡수체를 이용한 광학소자로서, 상기 스터브 구조의 손실 매질을 광학적 또는 전기적 펌핑 신호로 조절하여, 광흡수의 양을 변화시키는, 높은 큐 인자 및 저 전력 성능을 갖는 흡수형 광스위치로 기능하는 광학소자
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도파로, 및 상기 도파로의 측면 쪽에 상기 도파로와 수직되는 방향으로 상기 도파로에 연결되어 배치되는 스터브를 마련하는 단계로서, 상기 스터브는 광흡수를 발생시키는 손실 매질로 채워진, 단계;상기 도파로의 양측에 각각 입사되는 빛의 위상 및 진폭을 일치시키는 단계; 및스터브 공진 모드가 접합 공진 모드의 제1 주파수 응답 대역보다 좁은 제2 주파수 응답 대역을 갖도록 상기 스터브의 길이를 조절함으로써 상기 접합 공진 모드 및 상기 스터브 공진 모드 간의 간섭에 의한 파노 공명의 세기를 조정하여 큐 인자를 증가시키는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 높은 큐 인자를 갖는 완전 빛 흡수체 구현방법
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