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하기 화학식 1로 표시되는 유기실록산 고분자로 그래프트된 무기 입자; 및비닐렌계 반복 단위를 갖는 고분자 매트릭스;를 포함하는 고분자 필름 형성용 조성물:003c#화학식 1003e#상기 화학식 1 중, A는 상기 무기 입자에 그래프트된 모이어티이고,B는 상기 고분자 매트릭스와 반응 가능한 모이어티이되, B는 탄소-탄소 이중결합을 비포함하고,R1 및 R2는 서로 독립적으로, 치환 또는 비치환된 C1-C10알킬기 및 치환 또는 비치환된 C1-C10알콕시기 중에서 선택되고,R11, R12, R21, R22, R31 및 R32는 서로 독립적으로, B, 치환 또는 비치환된 C1-C10알킬기 및 치환 또는 비치환된 C1-C10알콕시기 중에서 선택되되, R11 및 R12 중 적어도 하나는 B이고,l, n 및 m은 해당 반복 단위의 개수이고,l은 0 내지 100의 정수 중에서 선택되고, n은 1 내지 1,500의 정수 중에서 선택되고, m은 0 내지 1,500의 정수 중에서 선택된다
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제1항에 있어서,상기 화학식 1 중, A는 알콕시실릴기, 에폭시기 및 아민기 중 적어도 하나를 갖는 화합물로부터 유래된 모이어티인, 고분자 필름 형성용 조성물
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제1항에 있어서,상기 화학식 1 중,B는 수소인, 고분자 필름 형성용 조성물
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제1항에 있어서,상기 화학식 1 중,R1 및 R2는 서로 독립적으로, 메틸기, 에틸기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 메톡시기, 에톡시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기, sec-부톡시기 및 tert-부톡시기 중에서 선택되고,R11, R12, R21, R22, R31 및 R32는 서로 독립적으로, B, 메틸기, 에틸기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 메톡시기, 에톡시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기, sec-부톡시기 및 tert-부톡시기 중에서 선택된, 고분자 필름 형성용 조성물
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제1항에 있어서,상기 화학식 1 중,R1 및 R2는 서로 독립적으로, 메틸기, 에틸기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 메톡시기, 에톡시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기, sec-부톡시기 및 tert-부톡시기 중에서 선택되고,R11, R12, R21, R22, R31 및 R32는 서로 독립적으로, B, 메틸기 및 에틸기 중에서 선택된, 고분자 필름 형성용 조성물
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제1항에 있어서,상기 무기 입자는 표면에 하기 화학식 2로 표시되는 그룹이 결합된, 고분자 필름 형성용 조성물:003c#화학식 2003e#상기 화학식 2 중,R1, R2, R11, R12, R21, R22, R31, R32, l, n, m 및 B는 제1항에 기재된 바와 동일하고, *는 상기 무기 입자와의 결합 사이트이고,L1은 상기 화학식 3A 내지 3E 중에서 선택되고,상기 화학식 3A 내지 3E 중, R41 및 R42는 서로 독립적으로, 수소, 치환 또는 비치환된 C1-C10알킬기 및 치환 또는 비치환된 C1-C10알콕시기 중에서 선택되고, Ar1은 치환 또는 비치환된 C6-C20아릴렌기이고,* 및 *'는 이웃한 원자와의 결합 사이트이다
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제6항에 있어서,상기 화학식 3A 중,R41 및 R42 중 적어도 하나는 인접한 R41 및 R42 중 적어도 하나와 가교 결합을 형성하는, 고분자 필름 형성용 조성물
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제1항에 있어서,상기 화학식 1로 표시되는 유기실록산 고분자는 100g/mol 내지 100,000g/mol의 중량 평균 분자량을 갖는, 고분자 필름 형성용 조성물
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제1항에 있어서,상기 무기 입자는 SiO2(실리카), TiO2, ZnO2, ZrO2, Al3O3 및 이의 임의의 조합 중에서 선택된, 고분자 필름 형성용 조성물
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제1항에 있어서,상기 무기 입자는 1nm 내지 100㎛의 범위의 평균 입경을 갖는, 고분자 필름 형성용 조성물
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제1항에 있어서,상기 고분자 매트릭스는 비닐렌계 반복 단위를 갖는 실리콘계 폴리머인, 고분자 필름 형성용 조성물
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제1항에 있어서,상기 고분자 매트릭스는 비닐렌계 반복 단위를 갖는 폴리디메틸실록산(PDMS), 폴리비닐알코올(PVA), 폴리비닐클로라이드(PVC), 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE), 폴리우레탄(PU), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 폴리비닐피롤리돈(PVP), 폴리에틸렌옥사이드(PEO), 폴리이미드(PI), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 또는 이들의 조합인, 고분자 필름 형성용 조성물
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제1항에 있어서,상기 유기실록산 고분자로 그래프트된 무기 입자 대 상기 고분자 매트릭스의 중량비는 0
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제1항에 있어서,상기 유기실록산 고분자로 그래프트된 무기 입자는 0
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제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 따른 고분자 필름 형성용 조성물을 경화하여 형성된 고분자 필름
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제15항에 있어서,상기 화학식 1의 B와 상기 고분자 매트릭스의 비닐렌계 반복 단위 간의 첨가 반응에 의하여, 상기 무기 입자와 상기 고분자 매트릭스 간의 화학적 네트워크가 형성된 고분자 필름
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제15항에 있어서,ASTM D2240 에 따라 측정될 때, 쇼어(Shore) A 40 내지 쇼어 A 100의 경도 또는 쇼어 D 0 내지 쇼어 D 85의 경도를 갖는, 고분자 필름
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제15항의 고분자 필름을 포함하는 전자 소자
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제18항에 있어서,상기 전자 소자는 유기 발광 소자(Organic light-emitting device), 태양전지 소자(photovoltaic device), 전기 변색성 소자(electrochromic device), 전기영동 소자(electrophoretic device), 유기 박막 트랜지스터(organic thin film transistor) 또는 유기 메모리 소자(organic memory device)인, 전자 소자
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제19항에 있어서,상기 고분자 필름은 상기 유기 발광 소자의 원도우 필름, 접착 필름, 보호 필름, 배리어 필름 또는 내충격 필름인, 전자 소자
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