1 |
1
금속 나노와이어 코어 및 그래핀 쉘을 포함하는, 코어-쉘 구조의 나노와이어를 제조하는 방법으로서, 금속 나노와이어를 제공하는 단계; 상기 금속 나노와이어 표면의 산화물을 제거하기 위해 H2 가스를 주입하는 단계;상기 H2 가스를 제거하기 위해 Ar 가스를 주입하는 단계; 및Ar 및 CH4의 혼합 플라즈마 발생 가스를 주입하여 플라즈마 화학기상증착법에 의하여 상기 금속 나노와이어를 그래핀으로 코팅하는 단계를 포함하고,상기 금속 나노와이어는 20nm 내지 150nm의 균일한 직경을 가지는 방법
|
2 |
2
제 1항에 있어서, 상기 플라즈마 화학기상증착법은 300℃ 내지 800℃의 온도에서 수행되는 것을 특징으로 하는 방법
|
3 |
3
제 1항에 있어서, 상기 플라즈마 화학기상증착법은 10W 내지 100W의 RF 파워로 수행되는 것을 특징으로 하는 방법
|
4 |
4
제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 금속 나노와이어가 구리 나노와이어인 것을 특징으로 하는 방법
|
5 |
5
제 4항에 있어서, 상기 구리 나노와이어는 a1) 구리염 화합물, 에틸렌디아민, 수산화나트륨 및 히드라진을 혼합한 용액을 제조하고, b1) 상기 혼합 용액을 폴리비닐피롤리돈 수용액과 혼합하고 얼음조에서 반응시켜, 얻어지는 것을 특징으로 하는 방법
|
6 |
6
제 4항에 있어서, 상기 구리 나노와이어는 a2) 구리염 화합물, 헥사데실아민, 글루코오스 및 물을 혼합하여 혼합 용액을 제조하고;b2) 상기 혼합 용액을 오일 수조(oil bath)에서 4 내지 8 시간 동안 반응시킨 뒤, 용액 내의 잔여 헥사데실아민 및 글루코오스를 제거하고,c2) 멤브레인 필터로 여과한 뒤 건조하여, 얻어지는 것을 특징으로 하는 방법
|
7 |
7
제1항에 따른 방법으로 제조된, 20nm 내지 150nm의 균일한 직경을 가지는 금속 나노와이어 코어 및 그래핀 쉘을 포함하는, 코어-쉘 구조를 가지는 나노와이어
|
8 |
8
제 7항에 있어서, 상기 그래핀 쉘이 단층 또는 다층으로 형성된 것을 특징으로 하는, 나노와이어
|
9 |
9
제 7항에 있어서, 상기 그래핀 쉘이 금속 나노와이어 위에 0
|
10 |
10
제 7항에 있어서, 상기 금속이 구리인 것을 특징으로 하는, 나노와이어
|
11 |
11
제 7항 내지 제 10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 나노와이어의 길이가 5㎛ 내지 100㎛인 것을 특징으로 하는, 나노와이어
|
12 |
12
삭제
|
13 |
13
제 7항 내지 제 10항 중 어느 한 항에 따른 나노와이어를 이용하여 형성된 투명 전극
|