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a) 기판 위에 그래핀, 산화그래핀, 탄소나노튜브, 화학적 개질 그래핀, 비정질탄소, 금속박막, 금속산화물박막 및 전이금속 칼코게나이드 박막에서 선택되는 광-열 변환층을 형성하는 단계;b) 상기 광-열 변환층 표면에 블록공중합체를 포함하는 자기조립고분자를 도포하여 고분자층을 형성하는 단계; 및c) 상기 자기조립고분자의 Flory-Huggins 상호계수 χ와 블록공중합체의 중합도 N의 곱인 χN이 10
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제 1항에 있어서,상기 자기조립고분자는 상호계수(χ) 저감제 10 내지 99 중량%를 더 포함하는 것인 나노패턴 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 자기조립고분자는 빛이 조사되는 동안 하기 식 1을 만족하는 것인 나노패턴 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 빛의 에너지 밀도는 0
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제 1항에 있어서,상기 빛의 이동 속도는 0
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제 1항에 있어서,상기 빛의 초점 폭은 100㎚ 이상인 나노패턴 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 광-열 변환층은 광에너지를 열에너지로 변환하는 광-열변환물질을 포함하며,상기 광-열 변환층은 99
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제 2항에 있어서,상기 블록 공중합체는 폴리우레탄, 에폭시 중합체, 폴리아릴렌, 폴리아미드, 폴리에스테르, 폴리카보네이트, 폴리이미드, 폴리설폰, 폴리실록산, 폴리실라잔, 폴리에테르, 폴리우레아, 폴리올레핀, 비닐계 부가 중합체 및 아크릴계 중합체에서 선택되는 둘 이상의 서로 다른 반복단위를 포함하는 것인 나노패턴 제조방법
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제 9항에 있어서,상기 블록공중합체의 수평균분자량은 3,000 내지 30,000,000 g/mol인 나노패턴 제조방법
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제 2항에 있어서,상기 상호계수(χ) 저감제는 단량체, 소중합체, 단일중합체, 공중합체 및 유기용매에서 선택되는 어느 하나 이상인 나노패턴 제조방법
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제 2항에 있어서,상기 상호계수(χ) 저감제는 수평균분자량은 1,000 내지 3,000,000 g/mol의 랜덤 공중합체인 나노패턴 제조방법
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제 12항에 있어서,상기 랜덤공중합체는 폴리우레탄, 에폭시 중합체, 폴리아릴렌, 폴리아미드, 폴리에스테르, 폴리카보네이트, 폴리이미드, 폴리설폰, 폴리실록산, 폴리실라잔, 폴리에테르, 폴리우레아, 폴리올레핀, 비닐계 부가 중합체 및 아크릴계 중합체에서 선택되는 둘 이상의 서로 다른 반복단위를 포함하는 것인 나노패턴 제조방법
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제 12항에 있어서,상기 랜덤공중합체는 스티렌계 단량체 10 내지 90 중량% 및 메타크릴레이트계 단량체 90 내지 10 중량%로부터 유래된 반복단위를 포함하는 것인 나노패턴 제조방법
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