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복수개의 레이저 광의 간섭(interference)을 이용함으로써 심재의 적어도 일부 상에 패턴을 형성하는 단계; 및상기 패턴이 형성된 심재 상에 도금층을 형성하는 단계;를 포함하고,상기 패턴을 형성하는 단계는,하나의 레이저 광원으로부터 방출된 레이저 광을 프리즘(prism)을 이용하여 굴절시킴으로써 형성된 상기 복수개의 레이저 광들의 간섭에 의해서 상기 심재의 표면에 요철(凹凸)구조를 형성하는 단계 및상기 심재의 표면 상에 입사되는 서로 다른 파장 대역을 갖는 상기 복수개의 레이저 광의 입사각이 변함에 따라 상기 패턴의 형상이 다르게 형성되는 단계를 포함하며,상기 도금층은 상기 심재의 외주면을 감싸는 형태로 형성되는,그라운드 가스켓의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 패턴을 형성하는 단계 이후에,상기 패턴이 형성된 심재 상에 염화제일주석이수화물(SnCl2·2H2O)과 염산(HCl)이 혼합된 용액에 소정의 시간동안 침지시켜 민감화(Sensitization) 처리를 수행하는 단계를 포함하는,그라운드 가스켓의 제조방법
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제 4 항에 있어서,상기 민감화 처리를 수행하는 단계 이후에,상기 민감화 처리가 완료된 상기 심재를 염화제일팔라듐(PdCl2)과 황산(H2SO4)이 혼합된 용액에 소정의 시간동안 침지시켜 활성화(Activation) 처리를 수행하는 단계를 더 포함하는,그라운드 가스켓의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 도금층을 형성하는 단계는상기 패턴이 형성된 심재 상에 1차 무전해 구리 도금 및 2차 무전해 주석 도금을 순차적으로 수행하는 단계를 포함하는,그라운드 가스켓의 제조방법
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제 6 항에 있어서,상기 1차 무전해 구리 도금을 수행하는 단계는 상기 패턴이 형성된 심재를 황산구리오수화물(CuSO4·5H2O), 에틸렌다이아민테트라아세트산(EDTA), 수산화나트륨(NaOH) 및 포름알데히드(HCHO)가 첨가된 혼합용액에 소정의 시간동안 침지시키는 단계를 포함하는,그라운드 가스켓의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 도금층을 형성하는 단계 이후에,상기 도금층이 형성된 상기 심재를 건조하는 단계를 더 포함하는,그라운드 가스켓의 제조방법
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복수개의 레이저 광의 간섭(interference)을 이용함으로써 심재의 적어도 일부 상에 패턴을 형성하는 단계;상기 패턴이 형성된 심재를 염화제일주석이수화물(SnCl2·2H2O)과 염산(HCl)이 혼합된 용액에 침지시켜 민감화 처리를 수행하는 단계;상기 민감화 처리가 완료된 상기 심재를 염화제일팔라듐(PdCl2)과 황산(H2SO4)이 혼합된 용액에 침지시켜 활성화 처리를 수행하는 단계;상기 패턴이 형성된 심재 상에 구리 도금층을 형성하는 단계;상기 구리 도금층이 형성된 심재 상에 주석 도금층을 형성하는 단계; 및상기 주석 도금층이 형성된 심재를 건조하는 단계;를 포함하고,상기 패턴을 형성하는 단계는,하나의 레이저 광원으로부터 방출된 레이저 광을 프리즘(prism)을 이용하여 굴절시킴으로써 형성된 상기 복수개의 레이저 광들의 간섭에 의해서 상기 심재의 표면에 요철(凹凸)구조를 형성하는 단계 및상기 심재의 표면 상에 입사되는 서로 다른 파장 대역을 갖는 상기 복수개의 레이저 광의 입사각이 변함에 따라 상기 패턴의 형상이 다르게 형성되는 단계를 포함하며,상기 구리 도금층 또는 상기 주석 도금층은 상기 심재의 외주면을 감싸는 형태로 형성되는,그라운드 가스켓의 제조방법
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인쇄회로기판을 준비하는 단계; 및상기 인쇄회로기판 상에 제 1 항, 제 4 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 의한 상기 그라운드 가스켓의 제조방법에 의해 구현된, 상기 그라운드 가스켓을 솔더링하고, 리플로우 공정을 수행하는 단계;를 포함하는,전자 디바이스의 제조방법
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