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이동식 입자 처리 장치(MOVABLE PARTICLE PROCESSING APPARATUS)

  • 기술번호 : KST2017002353
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 이동식 입자 처리 장치에 관한 것이며, 본 발명의 가스에 포함된 입자를 처리하는 입자 처리 시스템에 있어서, 1차적으로 입자를 처리하는 제1 처리부와 2차적으로 입자를 처리하는 제2 처리부; 상기 제1 처리부 및 상기 제2 처리부가 거치되며, 상기 제1 처리부 및 상기 제2 처리부와 일체로 이동가능하게 마련되는 운동 모듈;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
Int. CL B03C 3/017 (2006.01.01) B03C 3/02 (2006.01.01) B07B 7/04 (2006.01.01) B03C 3/68 (2006.01.01) B03C 3/36 (2006.01.01) B07B 11/04 (2006.01.01) B03C 3/47 (2006.01.01)
CPC B03C 3/017(2013.01) B03C 3/017(2013.01) B03C 3/017(2013.01) B03C 3/017(2013.01) B03C 3/017(2013.01) B03C 3/017(2013.01) B03C 3/017(2013.01)
출원번호/일자 1020150118176 (2015.08.21)
출원인 한국기계연구원, (주)팬코리아중공업, 부경대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1753747-0000 (2017.06.28)
공개번호/일자 10-2017-0023354 (2017.03.03) 문서열기
공고번호/일자 (20170711) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2015.08.21)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구
2 (주)팬코리아중공업 대한민국 경상남도 함안군
3 부경대학교 산학협력단 대한민국 부산광역시 남구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김학준 대한민국 대전 유성구
2 김용진 대한민국 대전광역시 유성구
3 여석준 대한민국 서울특별시 강남구
4 남형종 대한민국 경상남도 창원시 의창구
5 진홍식 대한민국 경남 창원시 마산회원구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 조영현 대한민국 서울특별시 강남구 논현로 ***(도곡동, 은하수빌딩) *층(특허사무소시선)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구
2 (주)팬코리아중공업 대한민국 경상남도 함안군
3 부경대학교 산학협력단 대한민국 부산광역시 남구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2015.08.21 수리 (Accepted) 1-1-2015-0814334-70
2 보정요구서
Request for Amendment		 2015.09.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2015-0139357-13
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2015.09.15 수리 (Accepted) 1-1-2015-0894779-26
4 보정요구서
Request for Amendment		 2015.09.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2015-0147366-56
5 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2015.10.13 수리 (Accepted) 1-1-2015-0987867-05
6 [대리인사임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Resignation of Agent] Report on Agent (Representative)		 2016.08.01 불수리 (Non-acceptance) 1-1-2016-0746239-46
7 서류반려이유통지서
Notice of Reason for Return of Document		 2016.08.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2016-0123472-71
8 [반려요청]서류반려요청(반환신청)서
[Request for Return] Request for Return of Document		 2016.08.18 수리 (Accepted) 1-1-2016-0801171-65
9 서류반려통지서
Notice for Return of Document		 2016.08.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2016-0125637-54
10 [대리인사임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Resignation of Agent] Report on Agent (Representative)		 2016.09.13 수리 (Accepted) 1-1-2016-0892992-33
11 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2016.12.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0915588-21
12 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2017.02.20 수리 (Accepted) 1-1-2017-0173654-31
13 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2017.02.20 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-0173669-15
14 등록결정서
Decision to grant		 2017.06.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0422654-52
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.07.04 수리 (Accepted) 4-1-2019-5132722-09
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.13 수리 (Accepted) 4-1-2019-5161225-98
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.12.31 수리 (Accepted) 4-1-2019-5277245-32
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.07.31 수리 (Accepted) 4-1-2020-5172403-90
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번호 청구항
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가스에 포함된 입자를 처리하는 입자 처리 시스템에 있어서,전단에는 가스가 공급되는 유입구가 형성되고, 후단에는 가스가 배출되는 배출구가 형성되는 제1 챔버와 상기 제1 챔버 내부에 마련되어 상기 유입구로부터 유입되는 가스를 하전시키는 하전부와 상기 하전부의 후단에 마련되어 상기 하전부로부터 하전된 가스를 제공받으며, 상기 가스에 포함된 입자를 처리하는 전기 집진부를 구비하는 제1 처리부;전단에는 상기 제1 처리부로부터 처리된 가스가 유입되는 유입구가 형성되고 후단에는 내부에서 입자가 처리된 가스가 배출되는 배출구가 형성되는 제2 챔버와 상기 제2 챔버 내부에 전후방향을 따라 복수개가 서로 이격 배치되어 상기 제2 챔버 내부를 복수개의 가스 처리 공간으로 구획하며, 상기 이웃하는 가스 처리 공간이 연통되도록 두께방향을 따라 연통구가 형성되는 플레이트와 상기 복수개의 플레이트 중에서 서로 인접하는 적어도 2개의 플레이트를 관통하는 관통 부재를 구비하며, 상기 제2 챔버 내부에서 가스는 상기 관통 부재를 통해 상기 제2 챔버의 배출 구 측을 향하여 유동하되 상기 연통구를 통해 상기 제2 챔버의 유입구 측을 향하여 유동하는 제2 처리부;상기 제1 처리부 및 상기 제2 처리부가 거치되며, 상기 제1 처리부 및 상기 제2 처리부와 일체로 이동가능하게 마련되는 운동 모듈;를 포함하되,상기 전기 집진부는, 상기 하전부 후단에 마련되며, 외부로부터 전압을 인가받는 방전부;와, 상기 방전부의 후단에 마련되어 상기 방전부와의 사이에서 전기장을 형성하며, 가스가 통과하도록 두께방향을 따라 외면을 관통하는 관통구가 형성되는 집진판;을 포함하고, 상기 집진판은 복수개가 서로 이격되어 배치되며, 상기 복수개의 집진판 중 서로 이웃하는 집진판에 형성된 관통구는 서로 교호하는 이동식 입자 처리 장치
5 5
제4항에 있어서,상기 제2 챔버의 배출구 측에 마련되며 상기 제2 챔버의 배출구를 통과하는 가스의 입자 농도를 측정하는 센서부; 상기 센서부로부터 가스의 입자 농도를 제공받아 상기 제2 챔버의 배출구를 통해 배출되는 가스의 입자 농도가 기설정된 농도에 근접하도록 상기 방전부에 인가되는 전압의 세기를 조절하는 제어부;를 포함하는 이동식 입자 처리 장치
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제5항에 있어서,상기 제1 처리부의 배출구와 상기 제2 처리부의 유입구를 연결하며, 상기 제1 처리부를 통해 처리된 입자를 성장시키도록 가스를 향하여 유체를 분사하는 입자성장부를 더 포함하며,상기 제어부는 상기 센서부로부터 가스의 입자 정보를 제공받아 상기 입자성장부로부터 분사되는 유체 유량을 조절하는 이동식 입자 처리 장치
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제5항에 있어서,상기 제2 챔버의 배출구 측에는 상기 제2 챔버 내부에서 처리된 가스의 배출속도를 조절하는 가스 배출 안내부;를 더 포함하며,상기 제어부는 상기 센서부로부터 가스의 입자 정보를 제공받아 상기 가스 배출 안내부를 통해 가스 배출 속도를 제어하는 이동식 입자 처리 장치
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제4항에 있어서,상기 운동 모듈, 상기 제1 처리부 및 상기 제2 처리부에 동력을 전달하는 동력부;를 더 포함하는 이동식 입자 처리 장치
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제4항에 있어서,상기 집진판은 다공성 패드로 마련되는 이동식 입자 처리 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 중소기업청 (주)팬코리아중공업 중소기업청-국가연구개발사업 차량 탑재형 No-filter 스마트 하이브리드 대기청정시스템 개발 (2/2)