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플라즈마 조사 장치

  • 기술번호 : KST2017003799
  • 담당센터 : 부산기술혁신센터
  • 전화번호 : 051-606-6561
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 상압에서 플라즈마를 생성하고 라인 어레이 형태를 갖는 구성에 의해 넓은 범위의 조사 범위를 갖는 플라즈마 조사 장치에 관한 것으로, 스트립 라인 형태의 전극을 기체가 흐르는 면에 도포한 상부 및 하부 기판;전단부에 가스 공급을 위한 가스 공급 유로를 갖고 후단부의 상면과 하면에는 스트립 라인 형태의 전극을 상부기판과 하부기판의 전극과 대향 되도록 도포된 내부 기판;상기 상부 및 하부 기판과 내부기판 사이에 플라즈마 방전 공간을 확보하기 위한 격벽 형성을 위한 상부 격벽 유지층 및 하부 격벽 유지층;을 포함한다.
Int. CL H05H 1/46 (2006.01) C23C 14/34 (2006.01) H05H 1/24 (2006.01)
CPC H01J 37/32568(2013.01) H01J 37/32568(2013.01) H01J 37/32568(2013.01) H01J 37/32568(2013.01) H01J 37/32568(2013.01)
출원번호/일자 1020100088366 (2010.09.09)
출원인 부산대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1155554-0000 (2012.06.05)
공개번호/일자 10-2012-0026248 (2012.03.19) 문서열기
공고번호/일자 (20120619) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.09.09)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 부산대학교 산학협력단 대한민국 부산광역시 금정구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이해준 대한민국 부산광역시 금정구
2 이호준 대한민국 부산광역시 금정구
3 박정후 대한민국 부산광역시 동래구
4 김규천 대한민국 경상남도 양산시 물금
5 김현규 대한민국 부산광역시 사하구
6 하창승 대한민국 부산광역시 해운대구
7 황석원 대한민국 부산광역시 동래구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 정기택 대한민국 서울특별시 서초구 강남대로**길 **, *층 (반포동, 새로나빌딩)(스카이특허법률사무소)
2 오위환 대한민국 서울특별시 서초구 강남대로**길 **, *층 (반포동, 새로나빌딩)(스카이특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 부산대학교 산학협력단 부산광역시 금정구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2010.09.09 수리 (Accepted) 1-1-2010-0586570-17
2 [대리인해임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Dismissal of Sub-agent] Report on Agent (Representative)		 2011.06.14 수리 (Accepted) 1-1-2011-0449977-06
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2011.07.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2011.08.12 수리 (Accepted) 9-1-2011-0066718-13
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2011.10.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0621371-86
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2011.12.08 수리 (Accepted) 1-1-2011-0975854-37
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2011.12.08 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0975855-83
8 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2012.01.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0042895-52
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2012.02.27 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0157482-26
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2012.02.27 수리 (Accepted) 1-1-2012-0157481-81
11 등록결정서
Decision to grant		 2012.05.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0291500-17
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.01.02 수리 (Accepted) 4-1-2014-0000027-56
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2016.01.13 수리 (Accepted) 4-1-2016-5004891-78
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.01.09 수리 (Accepted) 4-1-2017-5004005-98
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.01.10 수리 (Accepted) 4-1-2017-5004797-18
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
스트립 라인 형태의 전극을 갖는 하부 기판;상기 하부 기판상에 위치하여 플라즈마 방전 공간을 확보하기 위한 격벽 형성을 위한 하부 격벽 유지층;상기 하부 격벽 유지층상에 위치하고 전단부에 가스 공급을 위한 가스 공급 유로를 갖고 후단부의 상면과 하면에는 스트립 라인 형태의 전극을 갖는 내부 기판;상기 내부 기판을 사이에 두고 상기 하부 격벽 유지층에 대향되어 플라즈마 방전 공간을 확보하기 위한 격벽 형성을 위한 상부 격벽 유지층;상기 상부 격벽 유지층상에 상기 하부 기판에 대향되도록 위치하고 스트립 라인 형태의 전극을 갖는 상부 기판;을 포함하고, 상기 상부 기판과 하부 기판은 동일한 구조로 형성되어 전극들이 서로 대향되도록 상기 내부 기판을 사이에 두고 결합되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 조사 장치
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 상부 기판과 하부 기판은,상기 상부 격벽 유지층 및 하부 격벽 유지층에 의해 만들어진 공간의 상부와 하부를 막아 방전 공간을 확보하고, 상기 가스 공급이 이루어지는 전단부와 플라즈마 발생이 이루어지는 후단부를 가지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 조사 장치
3 3
제 2 항에 있어서, 상기 상부 기판과 하부 기판의 외측에 그라운드 전극이 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 조사 장치
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 상,하부 기판의 전극들과 상기 내부 기판의 전극들은 방전 공간에서 서로 대향되도록 이격되어 중첩되도록 결합되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 조사 장치
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 상부 격벽 유지층 및 하부 격벽 유지층은,상기 내부 기판의 가스 공급 유로 형성 영역 및 전극층이 형성되는 플라즈마 방전 공간의 외측에 형성되는 격벽층을 갖고 플라즈마 발생 방향은 개방된 구조인 것을 특징으로 하는 플라즈마 조사 장치
6 6
제 1 항에 있어서, 상기 하부 기판은,하부 글래스상에 일정 간격으로 이격되어 라인 형태로 구성되는 복수개의 전극 라인으로 구성되는 제 1 금속 전극과,상기 제 1 금속 전극의 전극 라인들이 전기적으로 연결되고 다른층들과의 결합시에 전극층들간의 연결을 위한 제 1 전극 연결층을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 조사 장치
7 7
제 1 항에 있어서, 상기 하부 격벽 유지층은,플라즈마 발생 방향이 개방되어 방전 공간 외측에만 형성되는 제 1 격벽층과,상기 제 1 격벽층의 상면 일부에 형성되어 상기 하부 기판의 전극 연결층 및 상기 내부 기판의 전극 연결층과 연결되는 제 2 전극 연결층을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 조사 장치
8 8
제 1 항에 있어서, 상기 내부 기판은,전단부에 위치하고 중앙에 가스 공급 유로를 갖는 유로 글래스와,후단부에 위치하고 상하부 양면에 각각 일정 간격으로 이격되어 라인 형태로 구성되는 복수개의 전극 라인을 구성되는 제 2,3 금속 전극 그리고 상기 제 2,3 금속 전극의 전극 라인들이 전기적으로 연결되고 다른층들과의 결합시에 전극층들간의 연결을 위한 제 3 전극 연결층을 갖는 중간 글래스와,상기 중간 글래스의 끝단에 플라즈마 발생 방향이 개방되어 방전 공간 외측에만 형성되는 제 2 격벽층을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 조사 장치
9 9
제 8 항에 있어서, 상기 유로 글래스와 중간 글래스와 제 2 격벽층은 동일 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 조사 장치
10 10
제 1 항에 있어서, 상기 상부 격벽 유지층은,플라즈마 발생 방향이 개방되어 방전 공간 외측에만 형성되는 제 3 격벽층과,상기 제 3 격벽층의 상면 일부에 형성되어 상부 기판의 전극 연결층 및 내부 기판의 전극 연결층과 연결되는 제 4 전극 연결층을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 조사 장치
11 11
제 1 항에 있어서, 상기 상부 기판은,상부 글래스상에 일정 간격으로 이격되어 라인 형태로 구성되는 복수개의 전극 라인으로 구성되는 제 4 금속 전극과,상기 제 4 금속 전극의 전극 라인들이 전기적으로 연결되고 다른층들과의 결합시에 전극층들간의 연결을 위한 제 5 전극 연결층을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 조사 장치
12 12
제 1 항에 있어서, 상기 하부 기판,하부 격벽유지층,내부 기판,상부 격벽 유지층,상부 기판의 두께를 모두 동일하게 형성하거나, 내부 기판의 두께를 다른 기판들의 두께보다 얇게 형성하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 조사 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.