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투명기판 및 투명 전도성 초박막으로 구성되는 투명 전도성 필름의 제조방법에 있어서, 상기 투명기판은 200∼350℃의 범위로 가열되고, 상기 투명 전도성 초박막은 RF 및 DC POWER 각각 0~70W이고, RF/(DC+RF) 비율(%)이 30~70%인 RF/DC 동시인가 마그네트론 스퍼터링법에 의하여 상기 가열된 투명기판 상에 증착되며,상기 증착된 투명 전도성 초박막은 SnO2의 함량이 5~10wt%이고, CeO2 함량은 1~3%인 인듐-주석-세륨의 복합 산화물로서, 20~40nm의 두께에서 50~150Ω/sq의 표면저항을 나타내고, 4
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제 1 항에 있어서,상기 투명기판은 유리기판, 강화유리기판, 폴리에스테르 수지, 아세테이트 수지, 폴리에테르 술폰산 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리아미드 수지, 폴리이미드 수지, 폴리올레핀 수지, 폴리비닐 염화 수지, 폴리스티렌 수지, 폴리비닐 알코올 수지, 폴리알릴레이트 수지, 폴리페닐린 황화물 수지, 폴리비닐리딘 염화물 수지 및 아크릴 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나인 것을 특징으로 하는, 투명 전도성 필름의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 투명 전도성 필름은 550 nm의 파장을 기준으로 80% 이상의 광투과율을 지니는 것을 특징으로 하는, 투명 전도성 필름의 제조방법
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제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 따른 방법으로 제조되는 것을 특징으로 하는, 투명 전도성 필름
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제 4 항에 따른 투명 전도성 필름을 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 패널
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